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利用喷涂技术在RaneyNi活性阴极的基础上又研制出了RaneyNi-Mo活性阴极,该阴极的析氢过电位比RaneyNi低,电化学特性比RaneyNi稳定。RaneyNi-Mo中的Mo含量不同,其析氢过电位也不同,Mo含量存在一个最佳值,此值与RaneyNi合金中Ni/Al比有关,而与涂层厚度无关。 相似文献
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实验表明,高速钢基体上的PECV-TiN薄膜处于压应力状态,其绝对值随沉积温度的升高而降低,反映微观组织状态及其不均匀性的衍射峰半高宽亦呈下降趋势,但晶体的择优取向受沉积温度影响较小。分析认为PECVD-TiN薄膜受离子轰击的影响较大,正常沉积温度下其内应力以本征应力为主,大小与薄膜的显微组织关系密切。较高温度下,热应力占主导地位,其大小主要决定于膜、基的热膨胀系数之差。 相似文献