热辅助记录——新型超高密度记录方式的原理与研究进展

磁记录是当今信息社会主要的信息记录方式.本文综述了热辅助新型光磁混合记录介质的研究状况以及最新进展情况,重点介绍了垂直磁记录和光磁混合记录的原理和优缺点比较,并对光磁混合记录介质的发展前景进行了展望.     

基于先行组织者策略的物理习题课教学设计

基于奥苏贝尔的先行组织者策略,从对它的理解出发,并以此为根据设计了一堂物理习题课的教学,最后总结讨论物理习题课应具有指点解题思路、引申解题方法的功效.     

溅射工艺及底层对SmCo薄膜磁性能的影响

用多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo磁性薄膜。并采用控制变量法研究了溅射功率、溅射时间以及溅射气压等工艺参数对薄膜磁性能的影响。结果发现，当磁性层溅射功率为60W,溅射气压为0.5Pa，溅射时间为8min；底层溅射功率为125W，溅射气压为0．5Pa，溅射时间为4min时，薄膜的矫顽力高达2．79×10^5。底层对SmCo薄膜的磁性能也有影响，振动样品磁强计测量结果表明：相比Cr、Ti底层，以Cu作为底层所得到的SmCo薄膜磁性能更好，薄膜矫顽力分别比用Cr、Ti作底层时高出56％，40％。     

溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明,基片与靶间距为72mm,溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顽力为477.6kA/m,克尔角为0.413°.     

Sputtering preparation and magneto-optical properties of GdTbFeCo thin films

Amorphous GdTbFeCo magnetic thin films were successfully prepared on glass substrates by RF magnetron sputtering system from a mosaic target.The influences of sputtering parameters on the magneto-optical properties GdTbFeCo thin film were investigated by the variable control method.And the influence mechanism was analyzed in detail.After the sputtering parameters were optimized,it was found that when the distance between target and substrate was 72 mm,the thin film thickness was 120 nm,and the sputtering power,sputtering pressure and sputtering time was 75 W,0.5 Pa and 613 s,respectively,the coercivity with perpendicular anisotropy could be as high as 6735 Oe,and the squareness ratio of the hysteresis loop was almost equal to 1.     

基于原子力显微的多模式扫描探针显微镜

扫描探针显微镜是目前世界上分辨率最高的显微镜之一,也是纳米技术研究的主要工具。本文在分析原子力显微镜工作原理的基础上,探讨多模式扫描探针显微镜的相关功能,并对扫描探针显微镜的发展前景进行展望。     

硬盘用高密度垂直磁记录薄膜研究进展

综述了硬盘用高密度垂直磁记录薄膜的研究发展状况,包括几种重要垂直磁记录薄膜的膜层结构与制备方法。垂直磁记录介质的噪声降低问题。     

Ni掺杂对Cu_3N薄膜结构与性能的影响

采用射频反应磁控溅射方法在玻璃基底上制备了Ni掺杂Cu3N薄膜,并研究了Ni掺杂对Cu3N的结构、电学性能和光学性能的影响。研究发现:Ni的加入使得Cu3N薄膜的(111)晶面向小角度偏移;随着Ni含量的增加,Cu3N薄膜的电阻率从1450×10-6Ω.cm减小到184×10-6Ω.cm,光学能隙从1.09eV增加到1.52eV。     

Pt底层对TbFeCo薄膜磁性能与磁光性能的影响

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了TbFeCo/Pt非晶垂直磁化膜,研究了Pt底层对TbFeCo薄膜磁性能与磁光性能的影响.结果表明:具有微小颗粒凹凸结构的Pt底层可以显著增大TbFeCo薄膜的垂直磁各向异性场与矫顽力,改善薄膜的磁光温度特性.     

基于噪声调制的薄膜电阻加热温度控制系统

基于脉宽调制（PWM）技术的控制系统广泛应用于工业和日常生活中,随机脉宽调制（RP-WM）技术也已提出.利用耦合到系统的环境噪声和系统本身的噪声经加工处理后调制控制信号,由噪声信号的自相关函数和功率谱密度函数给出噪声调制脉冲的平均开关频率和平均加热功率的计算方法.利用模拟器件设计了一个简单的基于噪声调制的薄膜电阻加热温度控制系统.实验表明：控制系统能够稳定地运行,在一定范围内能抑制噪声,实现了高精度温度控制.