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992.
993.
Cu-Zn-Al形状记忆合金直接淬火和分级淬火后马氏体稳定性的研究SCIEI 总被引:2,自引:0,他引:2
用透射电镜,X射线衍射仪和电阻法研究了Cu-14.84wt-%Zn-7.75wt-%Al形状记忆合金在直接淬火和分级淬火后马氏体的稳定性。试验结果表明,直接淬火和分级淬火(150℃,2min)后于室温时效约3h的马氏体均为M18R结构,但刚直接淬火后马氏体并不稳定,其某些衍射峰位置和电阻率均随室温时效而变化;而分级淬火(150℃,2min)后马氏体是稳定的,其所有衍射峰位置和电阻率几乎不随室温时效而变化。上述结果可用“马氏体再有序化机制”解释。 相似文献
994.
缓蚀剂对316L不锈钢在酸性氯离子溶液中应力腐蚀开裂的作用 总被引:2,自引:2,他引:2
研究表明316L不锈钢在55℃的1mol/L HCl+1mol/L NaCl溶液中对SCC比较敏感。316L不锈钢在所研究的体系中处于活化溶解状态。对添加缓蚀剂的体系的电化学参数的测试和分析表明,缓蚀剂抑制SCC的能力与缓蚀剂抑制阳极反应有关。 相似文献
995.
996.
997.
The dissolution behavior of solid nickel in static liquid zinc saturated with Fe at 723 K was studied. The results show that when immersing solid Ni in liquid Zn saturated with Fe, the intermetallic compound layers consisted of γ and δ phases are formed on nickel substrate, which is the same as that in liquid pure zinc. However, some F2 particles are formed in the liquid near the solid/liquid interface. These Г2 particles can easily heterogeneously nucleate on (particles and grow fast. The dissolution process is governed by diffusion of nickel atom across a concentration boundary layer in liquid Zn saturated with Fe, and is different from a mixed control mechanism of nickel in liquid pure zinc. The participation of Г2 particles makes the dissolution of solid Ni in the liquid accelerated. 相似文献
998.
Ternary Zn1-x CdxO alloying films were deposited on silicon substrates by a reactive magnetron sputtering method. The structures of the films were characterized by transmission electron microscopy(TEM) and X-ray diffraction(XRD) analysis, respectively. The XRD measurement shows that the wurtzite-type structure of Zn1-xCdxO can be stabilized up to Cd content of x=0.53 without a cubic CdO phase separation. The TEM measurement shows that the films have a columnar structure and the grains are highly c-axis oriented perpendicularly on silicon substrate although some grain boundaries are slightly tilted. High resolution TEM observation indicates that a native layer of amorphous SiO2 exists at the ZnCdO/Si interface and that ZnCdO grains with c-axis preferred orientation nucleate directly on substrate surface. 相似文献
999.
1000.