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91.
通过水培和土壤盆栽试验,研究了Ca对茶树F吸收的影响。结果显示,在含F溶液中添加Ca显著降低茶树对F的吸收。在土壤盆栽试验中也得到了类似结果,在2种土壤F含量条件下,加入Ca(NO3)2后显著降低茶树成熟叶和新梢F含量。同样土壤加入CaO后,显著降低茶树对F的吸收。土壤分析表明加入Ca(NO3)2后并没有显著改变土壤水溶性F含量,而加入CaO后还增加了土壤水溶性F含量。因此,Ca减少F吸收可能并不单纯是因为形成CaF2后降低土壤F的有效性。  相似文献   
92.
A staggered distribution of vegetation is very common in nature,which might significantly affect the flow structure.To investigate its impact,three rows of stag...  相似文献   
93.
传统的软件项目成本模型只反映出与工作量有关的费用,对于因质量不足而引起的成本无法度量.将全寿命周期成本(LCC)理论应用于软件项目成本计算,按照分部分项方法建立了软件项目的完全成本模型.在软件项目工期-成本二维权衡模型的基础上,通过设置多级指标体系对软件项目质量进行量化,从而将软件质量纳入权衡目标,在此基础上构建了软件项目工期、成本、质量的多目标权衡离散模型,运用改进的禁忌搜索算法求解模型,以可视化三维曲面输出帕累托非劣解,最后分析了项目决策者获得项目最佳实施模式的途径.  相似文献   
94.
目前,很多企业已经建立了GB/T19001、GB/T28001、GB/T24001管理体系,为了在更大的范围和更深的层次上提高企业的管理水平,一些企业还在寻求更多管理体系的认证或确认,还有些企业在寻求不同管理体系的整合和提高,按照GB/T15496、GB/T15497、GB/T15498和GB/T19273的2003版标准建立的企业标准体系也是规范企业所有的管理工作的有效手段。对于有管理经验积累的企业而言,管理体系的运行在一定时期后,企业标准化水平会得到一定提高。但是,如何不断提高运行的有效性与更好地协调各管理体系的兼容性,是摆在我们面前的一个新课题。笔者结合本公司建立企业标准体系的实践经验,阐述了建立企业标准体系,实现企业管理水平持续改进必须要结合企业自身实际情况。  相似文献   
95.
为应对移动互联网带来的新挑战,移动核心网需要引入增强技术.在对增强技术研究的基础上提出了面向移动互联网的核心网解决方案——EGGSN,接着介绍了EGGSN的架构、技术实施方案,最后对EGGSN的组网优劣势进行了分析.  相似文献   
96.
本文对如何提高国产1.55μmInGraAspDFB-LD组件直接高速调制速率以及国产PIN-FET组件的频响带宽进行了理论与实验研究。在实验测量的基础上建立了国产LD组件小信号等效电路模型,对其调制响应速率的主要限制因素进行了分析,研制了高速DFB-LD组件,将其调制速率提高到3.2GHz。同时,在对谐振式PIN-FET光接收机进行噪声分析的基础上,采用微波混合集成工艺研制了一个串联谐振式PIN-FET光接收组件,有效地提高了PIN-FET的频响带宽。  相似文献   
97.
LOWTRAN7在动态红外图像仿真系统中的应用及系统集成   总被引:4,自引:1,他引:4  
介绍海洋作战环境下动态红外图像仿真系统的工程实现。着重介绍了LOWTRAN模型在动态红外图像仿真系统中的应用及仿真系统中的数据流程、系统结构和系统集成中的主要情况。  相似文献   
98.
Chen  Xiao-Ya  Wen  A-Li  Ren  Cui-Lan  Wang  Cheng-Bin  Zhang  Wei  Huang  He-Fei  Chen  Zhi-Wen  Huai  Ping 《核技术(英文版)》2020,31(9):1-8
Nuclear Science and Techniques - 166.6-MHz quarter-wave $$\beta =1$$ superconducting cavities have been adopted for the High Energy Photon Source, a 6-GeV diffraction-limited synchrotron light...  相似文献   
99.
表面n沟CCD的电离辐射损伤   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文报道了150光敏元表面n沟CCD(电荷耦合器件)在不同能量电子和γ射线辐照后的电离辐射效应。试验结果表明,转移失效率在≤10Gy时已明显增大。但大多数器件在累积剂量≤50Gy时,通过调整“胖零”注入仍可工作。在高剂量辐照期间,不同栅偏压器件的转移效率退化存在较大差异。应用高频和准静态C-V技术分析了参数退化的原因。  相似文献   
100.
CMOS集成电路在LSI、VLSI中占有显著地位,它是当今乃至今后一段时期集成电路发展的主流。研究CMOSIC沟道、P~-阱注入杂质的分布和再分布规律,对于指导工艺实践和提高电路性能具有现实意义。  相似文献   
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