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102.
报道了全平面C波段功率单片放大器及四单片合成放大器研究结果。单片放大器采用全离子注入工艺,均匀性好,平均成品率40%,可靠性高。工作频率4.7—5.2GHZ,中心频率5.0GHz处输出功率2.5W,增益15dB,功率附加效率31.5%。单片放大器芯片面积2.8mm×2.0mm,四路合成的4×MMIC频率范围不变,中心频率4.95GHz处输出功率8.2W,增益13dB,功率附加效率26%,四路合成效率接近80%。实验结果与理论预测基本吻合。 相似文献
103.
江苏墙体材料革新与推广节能建筑已经经历三个五年计划,为可持续建筑发展创造了一定的条件。文章根据国家暨省的有关墙政政策及与时俱进的原则,将省内生产的具有一定规模的新材料和节能新技术进行归类简介。 相似文献
104.
为了制订酱香型白酒标准,起草小组对贵州、四川、湖南3省28家酱香型白酒生产企业进行了针对性的集中调查;对目前酱香型白酒生产企业采用的工艺进行总结分析;从调查的企业抽取了采用不同工艺生产的、不同价位的成品酒样73个;对样品的理化指标和感官品评进行验证;并查阅、对比、参考了国内外标准和相关法规,形成《酱香型白酒》国家标准征求意见稿。经组织行业专家、起草单位多次反复地对酱香型白酒特征成分、健康成分、各界限指标的研究和确定,对反馈意见反复的修改、讨论,对征求意见稿的逐条反复讨论,统一意见形成标准送审稿。《酱香型白酒》国家标准的制订过程是不断提高认识和统一意见的过程,其制订、颁布将会有效地推动酱香型白酒的基础研究和发展。 相似文献
105.
106.
利用Silvaco软件中的蒙特卡罗算法,详细研究了Ⅲ-氮化物的速-场特性和低场迁移率特性,数值计算了掺杂浓度和晶格温度对-氮化物输运特性的影响。结果表明,在忽略缺陷和表面粗糙度散射的条件下,Ⅲ-氮化物的强场输运特性取决于材料的谷间散射,且当掺杂浓度小于1e17cm-3时,杂质对速-场特性的影响可忽略不计;而低场迁移率特性则主要受晶格振动散射和电离杂质散射的影响。此外,根据Ⅲ-氮化物速-场特性的模拟结果,对"速度过冲"效应提出一种新的解释。 相似文献
107.
A 10 Gb/s OEIC (optoelectronic integrated circuit) optical receiver front-end has been studied and fab ricated based on the φ-76 mm GaAs PHEMT process; this is the first time that a limiting amplifier (LA) has been designed and realized using depletion mode PHEMT. An OEIC optical receiver front-end mode composed of an MSM photodiode and a current mode transimpedance amplifier (TIA) has been established and optimized by simu lation software ATLAS. The photodiode has a bandwidth of 10 GHz, a capacitance of 3 fF/μm and a photosensitive area of 50×50 μm~2. The whole chip has an area of 1511×666 μm~2. The LA bandwidth is expanded by spiral inductance which has been simulated by software HFSS. The chip area is 1950×1910μm~2 and the measured results demonstrate an input dynamic range of 34 dB (10-500 mVpp) with constant output swing of 500 tnVpp. 相似文献
108.
109.
以建筑材料为源泉的土木工程应用型人才培养体系研究之初步 总被引:1,自引:0,他引:1
章探讨了21世纪土木工程应用型人才素质、能力和知识体系的构成,论述了材料科学和土木工程领域几个主要应用学科的关系,对比国外土木工程专业人才培养体系,创造性地提出了构建以材料为源泉的土木工程应用型人才培养体系的设想,并简介近年来初步实施情况。 相似文献
110.
利用0.5μm GaAs PHEMT技术研究了适用于单片集成GaAs PIN/PHEMT光接收机前端的关键工艺,解决了台面工艺和PHEMT平面工艺的兼容性问题,包括不同浓度磷酸系腐蚀液对台面腐蚀均匀性的影响、台面与平面共有金属化工艺对光刻技术的要求。结果表明,工艺技术完全满足单片设计要求,研制得到的单片集成光接收机前端在输入1Gb/s和2.5Gb/s非归零(NRZ)伪随机二进制序列(PRBS)调制的光信号下得到较为清晰的输出眼图。 相似文献