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42.
用保角变换法对共面波导金属厚度效应进行了理论分析,编制了相应的计算机程序,给出了数值解,并对此进行了多元曲线拟合,导出了考虑金属厚度后的形状比k、有效介电常数、特征阻抗、损耗的闭定表达式。用此修正表达式求得特征阻抗及损耗的数值解,并与K.C.格普塔的修正值及实验测量值进行了详细比较,结果表明此修正公式与实验值相符较好。 相似文献
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44.
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研究了红外频段非线性s偏振表面波在反铁磁晶体和电介质交界面上的频率特性,求出了非线性色散方程,揭示了非线性s偏振表面波存在一个临界频率,低于这个频率,非线性s偏振表面波的频率范围,发现功率不再是决定导波频率范围的唯一因素,两种材料的介电常数比在这里起了至关重要的作用。 相似文献
46.
Jun-Fa Mao Zheng-Fan Li 《Microwave Theory and Techniques》1992,40(4):637-644
A new method for analysis of the time response of multiconductor transmission lines with frequency-dependent losses is presented. This method can solve the time response of various kinds of transmission lines with arbitrary terminal networks. Particularly, it can analyze nonuniform lines with frequency-dependent losses, for which no effective method for analyzing their time response exists. This method starts from the frequency-domain telegrapher's equations. After decoupling and inversely Fourier transforming, then a set of decoupled time-domain equations including convolutions are given. These equations can be solved with the characteristic method. The results obtained with this method are stable and accurate. Two examples are given to illustrate the application of this method to various multiconductor transmission lines 相似文献
47.
Modeling ion implantation of HgCdTe 总被引:2,自引:0,他引:2
H. G. Robinson D. H. Mao B. L. Williams S. Holander-Gleixner J. E. Yu C. R. Helms 《Journal of Electronic Materials》1996,25(8):1336-1340
Ion implantation of boron is used to create n on p photodiodes in vacancy-doped mercury cadmium telluride (MC.T). The junction
is formed by Hg interstitials from the implant damage region diffusing into the MC.T and annihilating Hg vacancies. The resultant
doping profile is n+/n-/p, where the n+ region is near the surface and roughly coincides with the implant damage, the n- region is where Hg vacancies have been annihilated revealing a residual grown-in donor, and the p region remains doped by
Hg vacancy double acceptors. We have recently developed a new process modeling tool for simulating junction formation in MC.T
by ion implantation. The interstitial source in the damage region is represented by stored interstitials whose distribution
depends on the implant dose. These interstitials are released into the bulk at a constant, user defined rate. Once released,
they diffuse away from the damage region and annihilate any Hg vacancies they encounter. In this paper, we present results
of simulations using this tool and show how it can be used to quantitatively analyze the effects of variations in processing
conditions, including implant dose, annealing temperature, and doping background. 相似文献
48.
Ion-ripple laser, which consists of a relativistic electron beam obliquely propagating through an ion-ripple in a plasma, is investigated by nonlinear numerical simulation. The influence of the component of the ion-ripple field parallel to the beam direction on beam-wave interaction is analyzed. The results show that the longitudinal component of the ion-ripple field has a considerable influence on ion-ripple laser. The operating parameters are also optimized. 相似文献
49.
50.
一种基于三次样条函数求离子浓度的自动算法 总被引:1,自引:0,他引:1
本文提出了一种用三次样条函数模拟双次标准加入法测量方程,直接求解离子浓度的自动算法。比较了三咱不同边界条件下用要池数计算离子浓度的结果。造出节点区间两极端点的二阶导数为零时的三次样条函数为最佳模拟函数。并讨论了该方法在实际分析中误差的来源及消除办法。经对一系列文献数据的验算对比,表明本法完全可代替传统的迭代法和查图法,且能方便地设置在智能化的电位分析系统中。 相似文献