工业硅炉外吹气精炼除硼研究进展

冶金法太阳能级多晶硅技术具有能耗低、成本低和环境友好等特点,正逐步取代投资大、成本高的化学法而成为全球研究的热点.硼是工业硅中最难去除的非金属杂质之一,本文阐述了工业硅的生产过程和吹气炉外精炼除硼的原理,综述了国内外工业硅炉外氧气、湿氢、湿氧、湿二氧化碳以及吹气-熔渣联合精炼等工艺技术,并对本课题组湿氧精炼除硼的研究进行了重点介绍,分析了吹气精炼过程硅的损失问题,最后指出吹气-熔渣联合法是冶金法炉外精炼的发展方向.     

“作××语”还是“做××语”辨——以黄伯荣、廖旭东《现代汉语》(增订四版)为例

以黄伯荣、廖旭东版《现代汉语》(增订四版)第二册中的"作"和"做"用法不统一现象为例,分析了造成不统一现象的原因,探讨了正确的用法,提出了用法建议。     

Preparation and properties of Ce0.8Ca0.2O1.8 anode material by glycine-nitrate process

Ce0.8Ca0.2O1.8（CDC82） anode material was prepared by glycine-nitrate process（GNP）. Thermogravimetric（TG） analysis and differential scanning calorimetric（DSC） methods were adopted to characterize the reaction process of CDC82 material. X-ray diffractometry（XRD）, scanning electron microcopy（SEM）, direct current four probe （four-probe DC） and temperature process reduce（TPR） techniques were adopted to characterize the properties of CDC82 material. After the precursor was sintered at 750℃ for 4 h, CDC82 material with pure-fluorite structure and nanometer size was obtained. The total conductivity of CDC82 changes little with temperature in air at 50-850℃, and the maximum value is 0.04 S/cm at 750 ℃. The total conductivity wholly becomes larger when the atmosphere changes from air to hydrogen, which greatly increases with increasing temperature and reaches the maximum value of 1.09 S/cm at 850 ℃. Some impurities such as CeMg and La203 exist after the mixture of CDC82 anode and La1-xSrxGa1-yMgyO3-δ （LSGM） electrolyte material is sintered at 1 200 ℃ for 15 h. The CDC82 material as anode material has excellent catalytic property for hydrogen and methane.     

中国镁工业研究方向探讨

简单介绍了我国镁资源状况以及我国镁工业的发展历程和现状,分析了我国现有镁工业中存在的一些问题。在当前许多传统金属资源已面临枯竭之际,强调了加速发展镁工业的必要性。文章从镁冶炼工艺的研究和镁合金成形技术的研究两个方面对中国镁工业今后的研究方向进行了探讨,并指出真空碳热还原法炼镁等新工艺的开发研究和镁合金机械成形、超塑性成形、触变成形和流变成形等技术的开发研究是促进中国镁工业发展的关键。最后对中国的镁工业作了展望。     

PEMSIP法沉积的TiN涂层对刀具切削性能的影响

基片负偏压增加，使等离子体增强磁控溅射离子镀TiN涂层的相组成朝着富氨相及其含量增加的方向发展，由Ti2N和TiK两相组成的涂层硬度最高，可达Hk2460。切削力测定表明，由Ti2N和TiN两相组成的刀具涂层使切削力略有下降。涂层能明显提高刀具耐用度。     

Morphology, structure and formation mechanism of silicide coating by pack cementation process

The MoSi2 coating on C 103 niobium based alloy was prepared by pack cementation method. The formative mechanism, morphology and structure of coating were investigated. The silicide coating was formed by reactive diffusion obeying parabolic rule during pack cementation process. It is found that the composite structural coating is composed of three inferior layers as follows. The main layer is composed of MoSi2, the two phases＇ transitional layer consists of NbSi2 and a few NbsSi3 and the diffuse layer is composed of NbsSi3. The dense amorphous glass layer formed on the surface at high temperature oxidation circumstance can effectively prevent the diffusion of oxygen into coating.     

高透明低发射率ITO薄膜的制备及其光电性能研究

目的研究磁控溅射工艺对ITO薄膜光电性能的影响,为制备高性能ITO薄膜提供数据和理论支撑。方法采用磁控溅射在PET基材上制备ITO薄膜,利用扫描电镜、X射线衍射仪、分光光度计、四探针、红外发射率测仪、Hall效应测试系统等,分析工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响。结果随着氧气流量的增加,ITO薄膜在可见光区的透过率先增加,然后变缓,薄膜方块电阻先降低后升高;随着工作气压的增加,ITO薄膜的可见光透过率增加,薄膜方块电阻先下降后上升,电阻率先变小再增大,载流子浓度先增大后减小,红外发射率先减小后增大,晶体结构逐渐由晶态转变为非晶态;随着氩氧比的降低,薄膜红外发射率先降低,然后缓慢升高;随溅射时间的增加,薄膜的厚度逐渐增大,方块电阻、红外发射率和可见光透过率迅速下降,晶体结构逐渐由非晶结构转变为晶体结构。综合对比研究发现,当氧气流量为0.6 mL/min、工作气压为0.4 Pa、氩氧比为19.8∶0.2、溅射时间为80 min时,可获得综合性能优异的ITO薄膜,其可见光透过率大于80%,在8～14μm红外波段的辐射率小于0.2。结论磁控溅射工艺参数是决定薄膜综合质量的重要因素,通过严格控制工艺参数,可获得透明性高、发射率低的ITO薄膜。     

矫直辊曲线及调整角度计算程序

简述了矫直辊辊形曲线计算原理，并作了定性分析；根据解析法与椭圆法归纳出辊形曲线程序设计的数学模型联；计算出了各种钢管对应的矫直辊调整角度。     

丹东市五龙背镇乡村旅游资源AHP-Fuzzy 法评价

选取AHP-Fuzzy法对丹东市五龙背镇的乡村旅游资源定量评价结果表明,该地区的评价分值为6.057 分,属于有潜力开发范 围。五龙背镇乡村旅游资源丰富,根据对该地区的调查评价结果分析,指出五龙背地区在地热资源开发上的不足与开发方向的偏 差,五龙背镇应当重点建设温泉水资源项目,突出旅游地的康疗保健功能,同时对资源进行全面整合,提升乡村旅游服务的档次。     

别让整文翻译驴唇不对马嘴

谷歌先前的整文翻译功能并不好,经常会出现驴唇不对马嘴的现象。不过,它最近推出了一个翻译辅助系统,可以极大地改善这种状况。该服务除提供了自动翻译结果外,还提供了他人翻译结果供你参考。同时还可利用它提供的双语字典等功能,对翻译结果进行修改及完善。