海水淡化技术现状及新技术评述

分析了海水淡化的市场和前景,介绍了目前大规模采用的三种常规工艺技术,即多级闪蒸、多效蒸馏和反渗透的现状、技术特点及其发展趋势。最后,根据海水淡化发展的新趋势,介绍了两种比较有发展潜力的新型海水淡化技术即:膜蒸馏技术和正渗透技术,并且分别从技术优势和研究热点方向进行了分析与讨论。     

基于频率时效感知的混合内存写冷热页面调度

为了提高相变存储器和DRAM所组成混合内存中PCM的耐久性,减少页面在PCM上的写操作,通过一个新公式结合写访问频率的统计和最近写访问间隔对页面写冷热的影响,计算频率时效的写权值,并根据最近写频率和计算的频率时效权值来进行混合内存页面冷热页的调度.通过仿真分析比较,这种方法可以减少PCM页面的写次数.     

异戊烷闪蒸喷雾喷嘴近场雾化与喷嘴内流动特性

当高压液态碳氢燃料由于容器或者管道破口泄露释放到低压环境中,会形成剧烈闪蒸喷雾,闪蒸喷雾是在动力学与非平衡热力学共同作用下一种复杂的破碎雾化形式.文中搭建了易燃易爆介质闪蒸喷雾实验台,研究了不同初始压力和温度作用下异戊烷闪蒸喷雾喷嘴内流动与近场雾化变化规律.研究结果表明,完全闪蒸雾化前,提高喷雾初温可以极大促进闪蒸雾化程度,之后温度变化对闪蒸雾化的影响急剧减弱;相同过热度下,提高喷雾初始压力也增加了闪蒸喷雾锥角和喷雾影响区域.在闪蒸喷雾不稳定阶段,喷嘴内出现多种两相流型并伴随不同闪蒸雾化形态,喷嘴内气相含率与闪蒸喷雾剧烈程度呈现正相关性,但是二者之间存在一定相位差,相位差与喷嘴内汽化起始点距离喷嘴出口距离以及流动速度有关.     

ATMP和HEDP的分解及其测定

以过硫酸铵煮解法测定总磷为对照，采用正交试验和单因素条件实验相结合研究了水处理剂ＡＴＭＰ，ＨＥＤＰ在高于６０℃与过硫酸铵反应的情况。并由此建立了一种新的缓和条件下处理样品与测定总磷方法。把它用于ＡＴＭＰ，ＨＥＤＰ产品的测定，结果满意。     

多因素添加剂对玉米秸秆结渣特性影响的研究

以玉米秸秆灰中的主要元素Mg、Ca、Al、Fe、P、S对应的氧化物或盐为添加剂,做单因素试验,之后选取合适的水平点做六因素四水平正交试验,通过极差法分析正交试验结果,得出各因素对SII值影响的大小顺序依次为P、Mg、Ca、Al、S、Fe,其中P最大,Fe最小。根据极差法测算出的添加剂最优组合,选定合适的添加剂及其添加量,即:MgSO_4、MgO、CaO和Al_2O_3。燃烧测试得出,这种添加剂组合对缓解结渣作用非常明显,SII值可达0.35。     

直喷压燃式发动机燃用柴油/碳酸二甲酯的燃烧特性和放热过程研究

在一台直喷式发动机上开展了燃用柴油／碳酸二甲酯混合燃料的燃烧特性与放热过程研究。结果表明，随碳酸二甲酯含量的增加，预混燃烧推迟，扩散燃烧期缩短。在中高负荷区，相同平均有效压力下，缸内最高压力、最高压力升高率和最大放热率随碳酸二甲酯含量的增加而增加，而在低负荷区基本上不随碳酸二甲酯含量的增加而改变。着火滞燃期随碳酸二甲酯含量的增加而增加，而快速燃烧期和燃烧持续期不随碳酸二甲酯含量的变化而改变。随碳酸二甲酯含量的增加，燃油消耗率增加，等热值燃油消耗率降低。CO和烟度随碳酸二甲酯含量的增加而降低，NOx随碳酸二甲酯含量的变化，但变化不大。     

药物合成微反应过程的开发

用微反应器替代常规间歇反应器处理药物合成反应取得很大的进展。本文讨论了微反应器的可行性论证和技术经济分析的方法,并对硝化反应的微反应器开发进行了初步论证。     

利用时频分析识别有效储层

由于岩性、物性和孔隙流体性质的差异,其固有的弹性特征导致了地震频率发生变化。时频分析技术可以同时在时域和频域内观察地震信号的变化,揭示信号的局部时频特征,分析由岩性、物性和孔隙流体性质所导致的的时频特征差异。在文昌H凹陷,在利用阻抗反演预测储层的基础上,探讨了结合时频分析技术定性解释目的层瞬时频率变化特征预测物性较好储层的方法。     

共格沉淀相粗化行为的计算机模拟研究

将微观弹性应变能理论和微观扩散方程相耦合，建立起时效过程微观晶格动力学模型。对溶质浓度为14at％的二元立方点阵模型合金的共格沉淀粗化行为进行模拟。研究发现：该合金沉淀机制以形核长大为主，兼有失稳分解特征；由于共格失配，沉淀相为片状，趋于沿弹性软化方向排列。其粗化作为伴随过程进行，位于软方向上的颗粒继续长大和粗化，位于软方向外的颗粒逐渐消失；而位于同一行或列上的颗粒则遵循：小颗粒溶解，大颗粒长大。     

ZrCl4蒸汽沉积法制备高温气冷堆包覆燃料颗粒ZrC涂层

采用ZrCl₄蒸汽、H₂和C₃H₆作为化学反应体系,以Ar为载气,在流化床沉积炉中制备高温气冷堆包覆燃料颗粒ZrC涂层。对所制备涂层进行了分析表征,结果显示：ZrC涂层剖面均匀光滑,无明显孔洞;与内致密热解炭层的界面清晰,厚度约为35μm;涂层主要成分为Zr和C,Zr/C摩尔比接近化学计量比1∶1,其主要相组成为面心立方的ZrC;晶粒生长无明显的择优取向。