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101.
首次提出了一种新的采用E-SIMOX技术的界面电荷岛结构的PSOI高压器件(NI PSOI)。该结构在SOI器件介质层上界面注入形成一系列等距的高浓度N+区。器件外加高压时,纵向电场所形成的反型电荷将被未耗尽N+区内高浓度的电离施主束缚在介质层上界面,同时在下界面积累感应电子。详细研究NI PSOI工作机理及相关结构参数对BV的影响,在0.375μm介质层、2μm顶层硅上仿真获得188 V高耐压,较常规结构提高54.1%,其中附加场EI和ES分别达到190 V/μm和13.7 V/μm。 相似文献
102.
基于介质电场增强ENDIF理论,提出了一种薄硅层阶梯埋氧型部分SOI(SBPSOI)高压器件结构。埋氧层阶梯处所引入的电荷不仅增强了埋层介质电场,而且对有源层中的电场进行调制,使电场优化分布,两者均提高器件的击穿电压。详细分析器件耐压与相关结构参数的关系,在埋氧层为2μm,耐压层为0.5μm时,其埋氧层电场提高到常规结构的1.5倍,击穿电压提高53.5%。同时,由于源极下硅窗口缓解SOI器件自热效应,使得在栅电压15V,漏电压30V时器件表面最高温度较常规SOI降低了34.76K。 相似文献
103.
104.
105.
在新型空穴传输聚合物聚TPD(PTPD)中掺杂电子传输有机小分子荧光染料Rubrene制成薄膜器件.考察了影响聚合物掺杂小分子薄膜器件发光性能的因素.实验表明,通过在器件中掺杂,可以控制器件所发光的颜色.研究了PTPD掺杂Rubrene分子薄膜的电致发光光谱和光致发光光谱.由实验可知.在光致发光中存在从PTPD向Rubrene的能量传递和电荷转移,而电致发光则存在从PTPD向Rubrene的能量传递和Rubrene分子对载流子的俘获.即掺杂器件的发射机制为载流子陷阱和Forster能量转换过程的共同作用. 相似文献
106.
中小企业是推动国民经济和社会发展的重要力量,在建设社会主义市场经济体制,促进国民经济增长,扩大社会就业,增加财政收入,保障社会稳定等方面发挥着越来越重要的作用。据统计,自2003年以来,中小企业创造的最终产品和服务价值相当于国内生产总值的60%左右,实现的出口额占62%,上缴税收约占全国总额的53%;提供了75%以上的城镇就业岗位,国有企业下岗人员的80%在中小企业实现了再就业。但在当前国际金融危机不断加深和我国经济转轨的新形势下,中小企业面临 相似文献
107.
108.
A new SOl self-balance (SB) super-junction (S J) pLDMOS with a self-adaptive charge (SAC) layer and its physical model are presented. The SB is an effective way to realize charges balance (CB). The substrate-assisted depletion (SAD) effect of the lateral SJ is eliminated by the self-adaptive inversion electrons provided by the SAC. At the same time, high concentration dynamic self-adaptive electrons effectively enhance the electric field (EI) of the dielectric buried layer and increase breakdown voltage (BV). E1 = 600 V/μm and BV =- 237 V are obtained by 3D simulation on a 0.375-μm-thick dielectric layer and a 2.5-μm-thick top silicon layer. The optimized structure realizes the specific on resistance (Ron,sp) of 0.01319Ω·cm2, FOM (FOM = BV2/R p) of 4.26 MW/cm2 under a 11 μm length (Ld) drift region. 相似文献
109.
110.
详细地介绍了雕刻CAD/CAM for Win95/NT系统的总体结构,以及标尺功能的设计与实现。 相似文献