高硬高碱循环水系统缓蚀阻垢剂的开发

乌鲁木齐石化化肥厂“二循”系统,一直由乌鲁木齐石化西峰精细化工厂提供水处理剂与相关服务,多年来系统运行稳定。但是如果继续提高循环水的浓缩倍数,恐怕会超出现用的缓蚀阻垢剂的处理能力,因此更高性能的缓蚀阻垢剂的开发思路应当以阻垢为主、兼顾缓蚀,尽可能降低循环水的结垢风险。     

氯气制备与性质实验的绿色化设计

为了减小氯气的污染同时清楚呈现氯气的性质,提出利用蒸发皿和表面皿组成的气室进行微型实验。利用该装置实现了二氧化锰与浓盐酸反应制备氯气,实验充分呈现了氯气的颜色、漂白性、氧化性和酸性。实验装置简单,课堂搭建容易;实验装置上方透明,现象易于观察;实验使用试剂量少,废液和废气易于处理,实验污染小。     

浅谈价值管理在工程上的应用

本文介绍价值、价值管理、价值工程的概念以及价值工程理论，浅谈如何通过价值管理提升价值。     

打印机故障排除（中）

打印故障多种多样,虽然本文无法列出每一种故障的解决步骤，但我们将列出常见问题的解决办法。     

应用直接立面法与辅助心点量点法绘制透视图

在“建筑阴影透视”课程教学中,量点法作建筑透视图的原理较复杂,而且在手工绘制量点法两点透视图时,经常遇到图幅过大造成灭点与视点落在图板之外(即不可达)而难以操作的情况.提出一种简便易行、有效利用有限图纸空间的方法:应用直接立面法与心点为辅助灭点综合的作图方法.如此,可以省略灭点,应用必然可达的心点和图板内的量点作图,还避免了学生容易将灭点和量点混淆的错误.并以基本立体和建筑群为例对该方法进行了应用和验证.结果显示,方法行之有效,值得推广应用.     

纳米坡缕石/铜复合材料对钢球摩擦副的摩擦学性能

采用化学还原法和球磨共混添加法制备了纳米坡缕石/铜（P/Cu）复合材料,采用粒度分析仪和透射电子显微镜（TEM）对复合纳米粒子的粒度和形貌进行表征。利用四球摩擦磨损试验机考察了不同纳米P/Cu添加量和不同P与Cu配比的复合粉体作为润滑油添加剂对高副钢球摩擦副的摩擦学性能,利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线能谱仪（EDS）对摩擦表面进行形貌、元素性能分析。结果表明,所制备的纳米P/Cu粒径基本小于100 nm,分散稳定性良好,在纳米P/Cu为1wt%且P：Cu＝3：1（质量比）添加量下表现出最优的摩擦学性能,其钢球磨斑直径比基础油的减小了20.7%。纳米P/Cu可在摩擦表面生成含Mg、Al、Si和Cu等元素的自修复膜,补偿摩擦磨损且使摩擦表面变光滑。     

不同组分比的坡缕石-铜复合纳米颗粒的摩擦学性能研究

将制备的不同组分比的坡缕石/铜复合纳米材料作为润滑添加剂在MMU-10G摩擦磨损试验机上测试其摩擦学性能,使用XJL-03倒置式金相显微镜和Genesis能谱仪对测试铸铁试样的磨损表面进行形貌观察和元素分析。结果表明:不同组分比的坡缕石铜润滑添加剂都具有一定的减摩抗磨效果,与基础油相比,摩擦因数最多下降了72.2%,试件磨损失重最多减少了90.6%;对磨试件的磨损失重量随着复合材料中铜组分的增加呈直线下降;而摩擦因数先随着铜组分的增加而缓慢上升,后急剧增大。     

坡缕石载铜复合纳米润滑添加剂的制备及摩擦学性能研究

使用化学还原法制备坡缕石载铜复合纳米颗粒,以铸铁HT200作为摩擦副,采用MMU-10G摩擦磨损试验机研究该纳米颗粒作为润滑添加剂的摩擦学行为,使用EPMA-1600电子探针、金相显微镜、Genesis能谱仪进行试样磨损面形貌观察和组成元素分析。实验结果表明:该纳米复合颗粒作为润滑添加剂具有优异的减摩效果和良好的抗磨性能,与基础油150N相比,平均摩擦因数下降66.2%,对应的摩擦副试件磨损失重减少80.9%,在试件表面生成由纳米坡缕石和纳米铜共同组成的自修复膜。     

C/ TiO2光催化自洁膜的制备及其对罗丹明B的降解

以吡咯作为碳源,采用紫外自聚合-灼烧法制备了具有有序多孔结构的C/TiO₂催化剂,有效提高了TiO₂催化剂在可见光条件下的光响应能力与光利用率,从而提升TiO₂催化剂对罗丹明B染料废水的降解率.经过实验比较得出C/TiO₂-0.4在90 min内对罗丹明B达到91.80%的降解率.同时将C/TiO₂-0.4掺入到PVDF膜液中,利用相转化法制备改性膜.在单次模拟太阳光降解测试中,改性膜对罗丹明B的降解率达到了80.18%,在4次循环降解中,改性膜对罗丹明B的降解率稳定在60%以上.此外,在模拟太阳光照射下,改性膜能够在5 h内恢复至吸附前的状态,有利于其长时间循环使用.结果表明,负载有C/TiO₂的光催化自洁膜在模拟太阳光条件下对罗丹明B染料废水的降解具有显著效果.     

Si和C共掺杂的SiO2薄膜的光致发光

采用双离子束溅射技术制备了Si和C共掺杂的SiO2薄膜,在N2气氛下进行了不同温度的退火处理。分析了样品在室温下的光致发光(PL)特性,在该样品中观察到分别位于410nm和470nm的两个发光峰。这两个发光峰的强度随着退火温度的变化呈现不同的变化趋势,表明两个发光峰的来源并不相同。用XRD和FTIR测试手段分析了样品的结构,认为470nm的发光来源于中性氧空位缺陷(O3≡Si～Si≡O3),而410nm的发光来源于Si1-xCx纳米晶粒与SiO2基质之间的界面缺陷。