浅谈硝酸钾结垢与防治方法

分析了硝酸钾结垢的诸多原因,提出了选择合适的壁面材质、减少杂质含量、提高溶液中NH4^ /K^ 比值、控制合适的冷却速度与搅拌转速等防治措施。     

硫酸铵氯化钾两次反应法生产硫酸钾

两次反应法生产硫酸钾是先用硫酸铵与氯化钾转化反应制得硫酸钾铵,母液蒸发去水得N、K复合肥。然后将硫酸钾铵与氯化钾溶液进行第二次转化反应,制得硫酸钾产品,其母液循环参与第一次转化反应。本法所得硫酸钾含K_2O≥50%,Cl≤1.5%,钾收率达到80%。整个工艺全封闭生产,无污染。     

氮离子束轰击对电弧离子镀TiN膜层的作用

电弧离子镀膜层中"大颗粒"的存在,降低了膜层质量,限制了其进一步应用.采用俄罗斯UVN 0.5D2I离子束辅助沉积电弧离子镀设备,对高速钢W18Cr4V上沉积的TiN膜层进行了氮离子束轰击.结果表明:TiN膜层表面"大颗粒"完全消失,凹坑浅而平整,粗糙度降低.膜层中较软的Ti和Ti2N向TiN转变,TiN(111)取向逐渐减弱,而(200)取向逐渐增强.膜层的显微硬度由原来的1 980 HV1N升高到2 310HV1N.     

TA2,Q345及其爆炸复合板高周疲劳性能研究

室温下,对覆板TA2、基板Q345、爆炸复合板TA2/Q345的光滑试样进行静态拉伸和高周疲劳试验;线性拟合出最大应力幅σ_(max)和疲劳寿命N的关系曲线,并对其疲劳断口进行扫描分析。结果表明,复合板TA2/Q345的抗拉强度优于基板和覆板,疲劳强度介于基板与覆板之间,σ_(-1p)=0. 31σ_b,复合板的疲劳比较小,抵抗疲劳作用的能力较差。复合板TA2/Q345疲劳断口呈现多源性,裂纹萌生于基板Q345表面,终断于覆板TA2;多源裂纹扩展交汇时形成台阶,基板Q345向覆板TA2扩展时出现了"爬坡"现象,且覆板TA2侧出现了"剥离撕裂"。由于覆板和基板弹性模量、晶体结构、金相组织的差异,造成复合板结合界面开裂。     

磁控溅射技术制备CrAlN涂层的研究进展

概述了采用不同磁控溅射技术制备CrAlN涂层的国内外研究现状与发展趋势,重点分析了CrAlN涂层的结构、力学性能、涂层氧化行为与耐腐蚀性能。提出了不同磁控溅射制备工艺的进一步优化结合和新型磁控溅射制备工艺的研究是未来磁控溅射技术制备CrAlN涂层的新趋势,在进一步提高CrAlN涂层性能的基础上,需深入探究该类硬度涂层的工业新应用潜力。     

电子通信中常见干扰因素及控制措施初探

近年来,我国科学技术水平有了突飞猛进的发展,电子通信的应用也逐渐普及到各个生产工作领域,促使电子信息技术蓬勃发展.但我国的电子通信发展水平还处在发展初期,技术不够成熟和完善.为此我国在电子通信科技领域投入了大量的人力物力和财力,科研人员针对电子通讯的干扰因素进行了全面的分析,同时也对各种干扰因素的性质和干扰形态有了更深层次的了解,从而在控制和防止干扰工作上也有了相应的一些措施.     

年产20 kt硝酸钾生产装置概况

介绍年产20kt农用硝酸钾生产装置及其运转装置。该装置是采用硝酸铵与氯化钾复分解循环法工艺技术，经生产实践证明，装置具有生产产品质量，原料利用率高，生产成本低，无污染等优点。它的建成与投产成功，为我国今后更大规模的硝酸钾装置的设计生产打下了良好的基础。     

TC4钛合金低磷化学镀工艺研究

针对TC4钛合金低磷化学镀,在浸锌活化和乳酸-乙酸络合条件下,对镍磷质量浓度比、温度、pH值、乙酸、乳酸等工艺因素对镀速和镀层磷含量的影响进行系列实验研究。用扫描电镜、能谱仪、显微硬度仪、X射线衍射仪对镀层的表面形貌、硬度和物相进行表征。研究结果表明：提高镍磷质量浓度比、温度、pH值,控制络合剂乳酸在20g/L～22g/L,乙酸在19g/L～20g/L范围内,均有利于低磷镀层的形成,平均镀速为25.6μm/h;镀层为晶态的Ni-P过饱和固溶体,平均粒径10μm,磷含量为2.56wt%,硬度为750.2HV.     

用氨与氯化钾联产硝酸钾与氯化铵

0前言 目前,我国不少中小氮肥企业由于产品单一、规模小、技术落后等原因,普遍处于微利和亏损状态.调整产品结构,发展多种经营是这些企业走出困境的主要出路.