V含量对磁控溅射CrAlVN涂层微观结构及力学和摩擦学性能的影响

采用磁控共溅射工艺在火炮身管PCrNi3Mo钢材料表面沉积了(Cr0.5Al0.5)1-xVxN(x=0%~10.6%,原子分数)涂层。利用电子探针显微分析仪(EPMA)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对涂层的组成、微观形貌与相结构进行了表征,研究了V含量对涂层微观结构和形貌的影响。结果表明V的加入使得涂层中出现了CrVN新晶相,且随着V含量的增加CrVN特征峰越来越明显,晶粒簇尺寸减小,V元素起到了一定的细化晶粒簇作用。利用纳米压痕仪及摩擦试验机对涂层的硬度、弹性模量和摩擦系数进行了测试,研究了V含量对(Cr0.5Al0.5)1-xVxN涂层性能的影响。结果表明V含量在7.2%时涂层硬度和弹性模量达到最大值,分别为21.36GPa和297.8GPa;随着V含量的增加,涂层的摩擦系数逐渐减小,当V含量在10.6%时,涂层摩擦系数平均值为0.094,表现出良好的摩擦磨损性能。     

强流脉冲离子束辐照GH3536表面改性研究

利用离子能量为250keV、脉冲宽度为80ns、离子组成为70%C++30%H+的强流脉冲离子束辐照GH3536,辐照次数分别为1、5、10、30、50、100次。采用SEM、XRD、EDS分析样品辐照后表面形貌、相组成和元素分布的变化。结果表明,HIPIB辐照后靶材表面变得光滑平整,近表层晶粒细化,产生择优取向,表层低熔点元素选择性烧蚀。随着辐照次数的增加,表层显微硬度呈减小-增加-减小的变化规律。截面显微硬度由于冲击波的存在也产生波动的变化规律。     

化学镀非晶Ni-P合金镀层耐蚀性研究

采用化学镀方法在碳钢上沉积非晶Ni-P合金镀层(10.90wt.％),考察Ni-P合金结构、性能及热处理温度对耐蚀性的影响.结果表明:在10％ HCl溶液中,非晶Ni-P镀层具有较好的耐蚀性;热处理影响镀层的耐蚀性,非晶Ni-P镀层经200℃热处理后,可使耐蚀性能提高37％,热处理温度达到300℃和400℃时,镀层分别出现亚稳相和稳定相,耐蚀性能降低,但耐蚀性仍优于镀态Ni-P镀层.     

等离子喷涂Al2O3与ZrO2复合热障涂层的高温性能

采用等离子喷涂(PS)方法，在GH536高温合金基材上制备了传统的双层热障涂层(TBCs)和2种含有Al2O3与ZrO2陶瓷复合层的3层热障涂层。传统TBC8结构为Ni22Cr10AlY合金连接层和8％Y2O3部分稳定的ZrO2(8YPSZ)陶瓷顶层；3层TBCs中分别采用置于8YPSZ陶瓷层内层及外层的Al2O3与8YPSZ复合层。3种类型试样的100h。1050℃静态氧化试验及1050℃热震试验结果表明：3层涂层较双层涂层的氧化阻力提高，双层涂层的热震阻力最佳，氧化阻力最差。不同复合层形式试样的热振失效方式和寿命也有差别，复合层置于陶瓷层外层热震寿命略高，但100h氧化增重有明显提高，抗氧化性降低。     

强流脉冲碳离子束强化T5K10刀具机理研究

TIA－450自绝缘二极管碳离子加速器对T5K10刀具进行了强流脉冲离子束辐照表面处理，加速器的加速电压为250 keV,束流密度为60 A/cm2～150 A/cm2, 脉冲时间为80纳秒，脉冲次数为2次.XRD、SEM、EDS以及显微硬度分析研究结果表明：当束流密度达到100 A/cm2，材料表面为完全熔化凝固组织；当束流密度达到150 A/cm2时，表面层下也出现熔化凝固组织；熔化凝固组织没有明显相变.在100 A/cm2～150 A/cm2内，同未辐照表面相比，显微硬度提高1.25倍.硬度增加的主要原因是表面快速凝固组织产生硬化相和基体相中化学成分的重新分布、碳元素的烧损以及晶界的强化.       

硝酸钾真空冷却结晶温度与真空度关联式研究

采用数学建模方法研究了硝酸钾溶液真空冷却结晶操作真空度与冷却结晶终点温度及溶液质量分数的关联式,据此可合理选择硝酸钾真空冷却结晶操作条件。实例验证出当硝酸钾溶液质量分数组成为26.85%NO3-、13.35%C l-、7.79%NH4+时,计算出真空冷却结晶终点温度为293.15 K,结晶真空度为0.015 14 Pa,与实测结果几乎一致。     

剪切力和pH值的变化对SiC纳米粉体分散行为的影响

在采用超声波和分散剂的基础上,通过控制剪切力和pH值的分散方法,对SiC纳米粉体在水介质中的分散行为进行了研究.结果表明:经过处理后的SiC纳米粉体悬浮液的平均粒度可达51.7 nm左右,稳定时间从几十分钟提高到一个月以上.     

螺旋板换热器在氯化铵生产中的应用

介绍复分解法生产硝酸钾与氯化铵工艺中 ,螺旋板换热器应用于氯化铵生产的工艺计算 ,工艺流程 ,设备安装及生产应用效果。具有投资小、生产能力大、操作方便等优点     

不同蒙特卡罗软件模拟中子深度剖面分析差异对比

中子深度剖面分析(Neutron depth profiling,NDP)技术在半导体生产、离子注入研究、材料科学等领域有广泛应用。为了探究NDP能谱分析中模拟软件的一致性与可靠性,本文对比了SRIM、MCNP、FLUKA和GEANT4等软件模拟NDP的结果;对比分析了4款模拟软件模拟的α粒子能谱,并以美国国家标准与技术研究院(National Institute of Standards and Technology,NIST)标准物质SRM2137实测谱为标准对模拟谱进行评价。结果表明:4款模拟软件所模拟的α能谱在2μm厚晶体硅层内峰位能量一致性较好;MCNP模拟的半高宽和峰位结果优于FLUKA和GEANT4的模拟结果。     

复分解循环法生产硝酸钾

采用硝酸铵和氯化钾复分解循环法生产硝酸钾新工艺，能很好地克服以往工艺的缺点（成本和能耗高），具有设备简单，原料配置合理，产品质量好等特点。