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41.
针对染色体图像的人工分割耗时费力且当前自动分割方法精度不佳的问题,基于改进的Mask R-CNN提出了一种染色体图像分割框架——Mask Oriented R-CNN,引入方向信息对染色体图像进行实例分割。首先,新增有向包围框回归分支,以预测紧实包围框并获取方向信息;然后,提出新的交并比(IoU)度量——角度加权交并比(AwIoU),从而结合方向信息与边的关系以改进冗余包围框的判据;最后,实现有向卷积通路结构,通过拷贝掩模分支通路并依据实例的方向信息选择训练路径来减少掩模预测中的干扰。实验结果表明,相较于基准模型Mask R-CNN,Mask Oriented R-CNN在IoU阈值为0.5时的平均精度均值指标提升了10.22个百分点,IoU阈值为0.5~0.95时的平均指标提升了4.91个百分点。研究结果显示,Mask Oriented R-CNN框架相较于基准模型取得了更好的染色体图像分割结果,有助于实现染色体图像自动分割。 相似文献
42.
43.
本文利用自主研发的扫描电子显微镜-扫描探针显微镜联合测试系统(SEM-SPM),研究了直流磁控溅射(DCMS)和原子层沉积(ALD)两种成膜方式对40、60和80 nm超薄铜薄膜弹性模量的影响.基于赫兹理论和King模型的计算结果表明,利用DCMS得到不同厚度铜薄膜的弹性模量值在(95±2)Gpa~(125±4)GPa之间,而通过ALD得到的铜薄膜弹性模量值在(99±2)Gpa~(154±6)GPa之间.对比分析可知,不同厚度的铜薄膜弹性模量比块体铜材料的弹性模量(90 GPa)大6%~71%,且通过两种不同方式沉积得到的铜薄膜弹性模量值都随着薄膜厚度的增加而减小,表现出明显的尺寸效应.而且对于同一厚度的铜薄膜,利用ALD沉积的弹性模量比DCMS的大4.2%~23.2%,由透射电子显微图像对比分析可知,前者的平均晶粒尺寸是后者的60%,纳米晶粒小尺寸效应可能是薄膜弹性模量增大的原因. 相似文献
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45.
46.
本文综述了国内外高强度高导铜基材料的研究现状,对其开发原理以及制备工艺进行了介绍。 相似文献
47.
48.
采用经典的Avrami方程研究了成核剂1,3,5-苯三甲酸三(环己胺)(BTCA-TCHA)作用下等规聚丙烯(iPP)的等温结晶动力学,采用阿仑尼乌斯公式计算了聚丙烯的结晶活化能。结果表明,BTCA-TCHA的加入可明显缩短聚丙烯的半结晶时间(t1/2),加快聚丙烯的结晶速度;BTCA-TCHA的加入对聚丙烯的球晶生长方式基本没有影响,空白聚丙烯和成核聚丙烯的球晶生长方式都是扩散控制的异相成核三维球晶生长。此外,成核剂的加入使聚丙烯的结晶活化能ΔE从空白聚丙烯的370 kJ/mol降低到312 kJ/mol,从而加快聚丙烯的总结晶速率。 相似文献
49.
采用射频等离子体化学气相沉积设备,以CF4为反应气体,进行了无水胶印版材斥墨层制备的实验.研究了不同等离子体参数(功率、气压和时间)对聚合薄膜性能的影响,并通过接触角、红外光谱、扫描电子显微镜对薄膜表面结构和性能的表征,对等离子体工艺进行优化,得到了表面疏水性能良好的低表面能薄膜.推墨实验结果表明,所聚合的薄膜基本达到斥墨层的要求,用含氟等离子体技术制备无水胶印版材斥墨层的技术路线是可行的. 相似文献
50.