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氮化铝薄膜具有高折射率,良好的化学稳定性,耐磨摩、高电阻等特性在微电子器件和光学薄膜中有着广泛地应用.本文研究了反应式磁控溅射方法利用Ar/N2混合气体镀制氮化铝薄膜的工艺过程,实验表明在高真空和高泵浦速率条件下,放电电压直接依赖于反应气体珠浓度.薄膜的折射率,消光系数和薄膜硬度都依赖于氮气浓度的比例.通过工艺研究,找到了氮气在不同浓度下对氮化铝薄膜的折射率,消光系数以及薄膜硬度的影响,找出了镀制氮化镀制氮化铝薄膜的最佳工艺参数.在Ar/N2工作气体中氮气含量保持在40%条件下,用反应式磁控溅射方法,可以精确镀制出良好的氮化铝薄膜,其中折射率范围在2.25~2.4之间,消光系数为10-3,薄膜显微硬度大于20GPa.该薄膜可以广泛应用于微电子器件和光电器件上. 相似文献
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本文较详细地介绍了C60P可编程控制器在住宅楼梯照明系统中的硬件配置与软件设计,其系统设计较好地解决当前住宅楼梯照明中出现的矛盾和问题,既能节约用电,又能使用户合理负担电费,很好地满足了广大居民日常生活的需要。 相似文献
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本文通过对端部霍尔离子源特性的研究 ,采用自行研制的用于离子束辅助沉积的端部霍尔离子源成功镀制了类金刚石膜 ,并对采用该离子源制备类金刚石膜的工艺进行了研究和分析。实验结果表明 ,采用端部霍尔离子源镀制类金刚石膜不仅操作简单、可实现大面积沉积 ,而且类金刚石膜的沉积速率较大 ,最大可达 0 .8nm s,其折射率依不同工艺在 1.8~ 2 .2之间可调。并对不同工艺条件下制备的类金刚石膜的硬度进行了测试和分析。 相似文献
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35.
文章介绍了一种以MCS8098单片机为核心的自动清洗测控装置,阐述了该装置的硬件组成、工作原理及提高单片机工作可靠性的几种措施,并给出了程序流程图。 相似文献
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赖维德 《机器人技术与应用》1998,(3)
在我国,工业机器人的发展一直不尽如人意。那么我国工业机器人的现况到底如何?制约机器人发展的因素有哪些?机器人的使用与工人就业的关系如何?带着这些问题本刊记者采访了机械工业部科技司赖维德高工。 相似文献
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关于电子商务法律的概念,严格地说,狭义的电子商务法属商法与国际商法范畴,主要用于规范电子商务活动中双方的权利义务、合同,以及相关的程序要件,可以包括电子签名法、电子合同法等。而广义的电子商务法则范围要广得多,除电子签名、电子合同外,还包括对电子商务基础环境、安全认证、消费者保护、信息发布、市场准入、责任承担等多个环节的规范和调整。 相似文献
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