氧分压对TiO2薄膜光学性能的影响

为得到光学性能良好、稳定的TiO2薄膜,采用离子束溅射的方法,改变氧分压,在k9玻璃上制备出不同结晶取向不同光学常数的TiO2薄膜.采用椭圆偏振光谱仪测试、拟合得到薄膜的厚度、折射率和消光系数.薄膜通过400℃退火,利用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的成分、结晶和取向进行分析.实验结果发现,随氧分压增加折射率减低,当氧分压达到1.0×10-2Pa时,折射率在2.43附近,变化趋于稳定.氧分压对薄膜的消光系数k影响较大,氧分压高于1.0×10-2Pa时在可见光和近红外区薄膜消光系数近似为0.随氧分压降低,薄膜从(101)向(200)转变.在此氧分压下,得到的薄膜折射率稳定,消光系数相对较小.     

磁控反应溅射沉积AlN薄膜的制备工艺

采用反应磁控溅射的技术,利用高纯氮气和氩气混合气体在K9玻璃基片上沉积了AlN薄膜.通过正交实验,分析了工艺参数与沉积速率的关系.研究了氮气浓度对透过率的影响.实验结果表明:在各工艺参数中靶功率对沉积速率影响最大,靶功率为1.0 kW,氮气浓度控制在25%～35%时薄膜的性能良好,沉积速率为39 nm/min,薄膜在可见光区域平均透过率为90%.该薄膜可以广泛用于光学薄膜和压电薄膜材料.     

磁控溅射法镀制氮化铝薄膜特性研究

氮化铝薄膜具有高折射率,良好的化学稳定性,耐磨摩、高电阻等特性在微电子器件和光学薄膜中有着广泛地应用.本文研究了反应式磁控溅射方法利用Ar/N2混合气体镀制氮化铝薄膜的工艺过程,实验表明在高真空和高泵浦速率条件下,放电电压直接依赖于反应气体珠浓度.薄膜的折射率,消光系数和薄膜硬度都依赖于氮气浓度的比例.通过工艺研究,找到了氮气在不同浓度下对氮化铝薄膜的折射率,消光系数以及薄膜硬度的影响,找出了镀制氮化镀制氮化铝薄膜的最佳工艺参数.在Ar/N2工作气体中氮气含量保持在40%条件下,用反应式磁控溅射方法,可以精确镀制出良好的氮化铝薄膜,其中折射率范围在2.25~2.4之间,消光系数为10-3,薄膜显微硬度大于20GPa.该薄膜可以广泛应用于微电子器件和光电器件上.     

脉冲多弧离子源所镀膜层均匀性的实验研究

为了解决脉冲多弧离子源镀制膜层的均匀性问题,文中首先分析了不同阴极尺寸、不同辅助阳极尺寸、不同引弧方法以及不同基片距阴极的距离引起所镀膜层透过率曲线的改变,进而讨论了脉冲多弧离子源电极几何尺寸对膜厚均匀性的影响．采用在基片下加一个圆筒形负电位电极实现了脉冲多弧离子源镀膜的均匀性．实验结果表明,在直径７０ｍｍ范围内透过率相对误差为±６．７％,小于所要求的±１０％．     

铁路重载货车车轮新材料的研制

针对重载车轮的损伤特点,研制了一种以C、Si为主要强化元素的铁素体-珠光体型车轮新材料,通过C、Si含量的合理配合,使车轮材料具备了高强度并保持了较高的韧性,同时具有合理的相变特性.装车运行试验表明,与目前常用的车轮材料相比,这种车轮材料的抗机械损伤性能和抗热损伤性能得到了较好的协调,更适合重载运输条件.     

激光散斑照相法检验测角仪器

本文简述了激光散斑照相法测量粗糙表面微小转角的基本原理;通过误差分析,证实用散斑照相法可以精确地检验各类测角仪的实际精度范围,为校正上述测角仪器提供了一个方便、可靠的检测手段。     

焊工考试试板外观检查的几个问题

在焊接结构中,如锅炉、压力容器、船舶等,在制造过程中为保证焊接质量,都制订有相应规程,要求对焊工进行定期考核。因此,在这些焊接结构的制造单位中,检查评定焊工考试试板便成为一项经常性的工作。根据我们的经验,将焊工考试试板外观评定中遇到的几个问题介绍如下:     

竹芋淀粉的提取工艺研究

以竹芋淀粉的提取率为指标,通过单因素试验和正交试验确定了竹芋淀粉的最佳提取工艺。结果表明:料液比1∶6(g/mL),浸提时间1.5 h,浸提温度35℃,浆料pH8时,竹芋淀粉的提取率最高,约为80.0%。     

论如何加强公路工程试验检测

随着人口增加,运输量需求的增大,我国公路事业日渐快速发展,道路质量的完善程度关系到交通运输程度以及经济发展效率甚至更多人的健康甚至生命。因此道路工程试验检测手段作为能够保障这些事业有序进行的管理型手段其水准和质量也应该得到提高,进入专业化现代化的检测管理手段。     

氧流量对磁控溅射ZrO2薄膜光学性能的影响

采用反应磁控溅射法在k9玻璃基底上沉积ZrO2薄膜.用轮廓仪、椭圆偏振仪和分光光度计,分别测试薄膜的厚度、折射率、消光系数和透过率,研究了不同氧流量对薄膜沉积速率和光学特性的影响.结果表明:随着氧气流量增加到22～24 mL/min(标准状态下)时,沉积速率从6.8 nm/s下降到2.5 nm/s,并趋于稳定;在入射波...