计算机在我国电力系统中的应用

电力系统是我国较早应用计算机的部门之一,已有近30年的历史了。电力系统应用计算机起步于科研计算和工程设计分析,继而扩展到电网调度和水、火电厂生产过程的自动化控制。80年代后,随着汉字进入计算机,在各级电力管理部门开始大量应用计算机,出现各种专业的或踪合性的管理信息系统。目前,计算机在我国电力系统中的应用不断向纵深方向发展,产生各种计算机辅助系统,如计算机辅助设计(CAD),计算机辅助试验(CAT),计算机辅助制造(CAM)等,电力部门有关     

西北工业大学科学基金项目简况

科学基金强有力地支持了基础科学研究和应用基础科学研究,为提高我国科学研究水平,进入世界强国打下基础,为国民经济建设,科学技术进步和社会发展做出了贡献。科学基金项目的申请具有较强的竞争特点,获得资助的项目大都有较高的水平和较新颖的学术思想和学术价值。因此,获得科学基金资助的多少以及它在新兴学科发展上的巨大潜力,在某种程度上是反映一个高等学校的科研实力和科研水平的。     

功率因数与无功补偿

工厂供配电系统中功率因数的高低是衡量一个工厂电能的重要指标,功率因数偏低就意味着系统中无功电源不足,会导致系统电压降低而造成电能损耗增加,效率降低,限制了供电线路的送电能力等.《供电规则》规定:“用户必须提高自然力率,高压供电的用户必须保证力率在0.9以上.其它用户应保持在0.85以上,经努力达不到以上规定者,应装设必要的补偿设备”.(4)当工厂有容量在150～200kW的异步电动机且被拖动的生产机械速度无需调节时改用同步电动机.(5)电焊机变压器容量不大,但数量较多并且常处于空载运行状态时,应推广应用电焊机空载自停装置.(6)空载无功损耗占变压器容量的5%～10%,因此及时停用空载变压器可以有效地减少无功功率.改善功率因数.二、并联电容器的无功补偿1.高压集中补偿高压集中补偿是将并联电容器集中装设在高压配电所的高压母线上,这种补偿方式只能补偿高压母线前边所有线路上的无功功率,而高压母线后边的无功功率得不到补偿,这种补偿方式只适宜于大中型企业.2.低压集中补偿低压集中补偿将并联电容器装设在变电所的低压母线上,一般负荷较集中的小型企业用此补偿方式较经济.并联电容器容量Q_c的确定:P_(max)(1/(cos~2(?)_1)-1~1/2-1/(cos~2(?)_2)-1~1/2≤Q_cP_(max)(1/(cos~2(?)_1)-1~1/2-1/(     

高压开关柜面板设计的神经网络方法

应用反向传播神经网络(BP网络)进行模式识别,实现了开关柜面板的自动布置,是将人工神经网络应用于电器CAD领域的一次初步尝试。     

XLPE电缆中的水树老化及其抑制

对运行一年又经预防性耐压试验而击穿的我国湿法生产的10千伏XLPE电缆的绝缘观测看出,它存在大量微孔水树,少量杂质水树,约1%的水树继发出电树.用人工杂质(针尖)在XLPE电缆中培养水树时,发现在5千伏电压下120小时就可以培养出明显的杂质水树和微孔水树.实验结果认为:应尽量减少原材料中的杂质含量以及改善工艺条件,来减小绝缘的微孔尺寸;在PE电缆配料中加入适当的添加剂可以抑制水树生长.本文通过试验认为,十二烷基酸添加剂是一种有效的水树生长抑制剂.     

影响空拉管壁厚变化因素的研究

研究表明,影响空拉管壁厚度化的因素应是管坯的径厚比(D_H/S_H)及相对拉伸应力K(δ拉/β_(σ_s)~-)。在实际生产条件下考虑两者联合影响所得到的临界系数D_H/S_H≈3.6—7.6,突破了多年来人们所沿用的影响因素只有D_H/S_H及临界系数D_H/S_H=5—6的论断。同时,从理论与实践两个方面研究了诸如材质、道次变形量、拉伸道次、润滑、拉速及模子参数等工艺条件对空拉管壁厚变化的影响。结果表明,它们是通过改变K值而起作用的。     

便于整定的微处理机调节励磁方式

本文探讨了用微处理机实现发电机励磁调节的方法。这种方法整定简单、调试方便、系统运行稳定,可供电厂采用。     

由炮膛磨损规律确定火炮初速减退量的方法

根据炮膛磨损规律讨论了确定火炮初速减退量的方法,建立了火炮初速减退量与炮膛磨损规律关系的数学模型,利用该模型求出火炮的不同磨损曲线及每一条曲线所对应的初速减退量、曲线上各段的权重系数,用检测仪测出炮膛的磨损曲线后,即确定出火炮的初速减退量。     

A Mutant of Bacillus Subtilis with High-Producing Surfactin by Ion Beam Implantation

In order to generate a mutant of Bacillus subtilis with enhanced surface activity through low energy nitrogen ion beam implantation, the effects of energy and dose of ions implanted were studied. The morphological changes in the bacteria were observed by scanning electron microscope （SEM）. The optimum condition of ions implantation, 20 keV of energy and 2.6 × 10^15N^＋/cm^2 in dose, was determined. A mutant, B.s-E-8 was obtained, whose surface activity of 50-fold and 100-fold diluted cell-free Landy medium was as 5.6-fold and 17.4-fold as the wild strain. The microbial growth and biosurfactant production of both the mutant and the wild strain were compared. After purified by ultrafiltration and SOURCE 15PHE, the biosurfactant was determined to be a complex of surfactin family through analysis of electrospray ionization mass spectrum （ESI/MS） and there was an interesting finding that after the ion beam implantation the intensities of the components were different from the wild type strain.