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11.
新型水油两溶性涂料催干剂的制备及其性能研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文探讨了一种新型的非环烷酸类涂料催干剂的制备方法及其催干性能。结果表明,该系列催干剂能溶于水-乙醇介质中,并能分散到亚麻仁油中,既可用于水或醇稀释性醇酸树脂涂料,又可代替环烷酸类催干剂用于油性涂料。其制备工艺简单,产品具有毒性小,粘度低及贮存稳定性好等特点。  相似文献   
12.
采用水热法制备了一系列石墨相四氮化三碳-氧化锌(g-C3N4-ZnO)复合材料,并使用X射线衍射、高分辨透射电子显微镜、Fourier变换红外光谱和X射线光电子能谱对复合材料进行了表征,研究了g-C3N4-ZnO复合材料的气敏性能。结果表明:加入9%(质量分数,下同)g-C3N4所制备的g-C3N4-ZnO复合材料在300℃对乙酸具有较好的气敏选择性和较高的气敏灵敏度,对10^–3乙酸气体灵敏度达到260.4,响应和恢复时间分别为6 s和5 s,对10^–6乙酸气体灵敏度可达到1.8。  相似文献   
13.
利用自制的抛光液和改造的抛光机对NiP基板进行电化学机械抛光,研究了抛光电压、抛光台转速、抛光压力和抛光液流速对材料去除速率的影响,对电化学机械抛光的机理做了初步的分析。研究结果表明, NiP基板可以用低压力 (3.5 kPa)抛光, 材料的去除速率可以通过调整抛光电压, 抛光台转速和抛光液流速进行控制  相似文献   
14.
以高铝粉煤灰为原料, 通过对粉煤灰进行烧结活化、碱溶、滤洗等工艺, 制得含镓溶液。探讨了烧结助剂种类、碱液种类、碱液浓度、液固比、浸出温度、浸出时间等因素对镓浸出效果的影响。结果表明: 以碳酸钠作为烧结助剂, 氢氧化钠作为浸出液溶剂, 在碱液浓度200 g/L、液固比40∶1、浸出温度60 ℃、浸出时间6 h时, 浸出液中镓含量达到41.438 g/t。  相似文献   
15.
通过水热法制备了一系列的石墨烯-镓酸锌复合物。所制备的材料用XRD,SEM,TEM,拉曼和XPS进行表征。同时,探究了复合物的气敏性能。结果表明,石墨烯的含量对复合材料的气敏响应值和选择性有着很大的影响,并且当石墨烯的含量在0.1%时,复合材料的性能最好。当操作温度在203摄氏度时,0.1%石墨烯-镓酸锌复合材料对1000ppm的甲醛的响应值达32.2倍,最低检测限度为1ppm。同时,该材料的选择性也比较优越,对1000ppm甲醛和1000ppm丙酮的响应值的比值为26.8。该材料对1000ppm甲醛的响应和恢复时间分别为11秒和5秒,对1ppm甲醛的响应和恢复时间分别为6秒和5秒.  相似文献   
16.
研究硫酸钡浊度法测定硫代壳聚糖树脂含硫量的方法。用w(H2O2)=30%溶液和2.5 mol/L NaOH溶液预处理样品,再用王水消解,样品中硫几乎完全转化为硫酸根。以5%乳化剂OP为稳定剂,0.48 mol/L BaCl2溶液为沉淀剂,在420 nm波长处用浊度法测定含硫量。SO42-浓度在8~190μg/mL范围内与吸光度呈线性关系,检测限为0.6μg/mL,用于硫代壳聚糖树脂含硫量的测定,结果满意。  相似文献   
17.
研究2-羟基-4-甲氧基苯甲醛与2-氨基-3-甲基吡啶缩合反应合成新型席夫碱衍生物5-甲氧基-2-{(E)-[(3-甲基吡啶-2-基)亚氨基]甲基}苯酚的方法。实验结果表明:当2-羟基-4-甲氧基苯甲醛与2-氨基-3-甲基吡啶摩尔比为1:1,反应时间为6 h,反应温度为75℃时,反应产率最高。用IR、1H NMR、元素分析和X射线单晶衍射法对产物结构表征,表明:目标化合物属单斜晶系,空间群为P21/n,晶胞参数β=96.54o,a=4.64(7),b=28.23(4),c=9.46(14),Dc=1.30×103kg/m3,Z=4,V=1 230(3)3,μ=0.09 mm-1,R1=0.10,w R2=0.18。  相似文献   
18.
概述了化学机械抛光作用机制,着重阐述了3种常见衬底(α-Al2O3,SiC,Si)的化学机械抛光现状,主要从抛光工艺参数和抛光液组成(不同磨料、磨料粒径、氧化剂、络合剂、pH值等)对晶片抛光效果的影响展开研究,并指出了目前化学机械抛光存在的问题,进一步展望了LED衬底化学机械抛光的发展前景。  相似文献   
19.
在pH2.4~3.5的酸性介质中及加热条件下,钼(VI)与2-(3,5一二溴-2-吡啶偶氮)-5-二乙氨基苯酚(3,5-diBr-PADAP)及羟胺反应形成一种稳定的蓝色络合物,组成比为1:1:1。在十二烷基硫酸钠存在下,其最大吸收波长为6l8nm,表现摩尔吸光系数为4.8×l0 ̄4,钼含量在0~25μg/10ml时服从比尔定律。毫克量钨无干扰。铜、钴、镍、铁等高厂的干扰可通过离厂交换分离除去。本法用于测定软磁合金中的铝,获得了满意的结果。  相似文献   
20.
利用自制抛光液对微晶玻璃进行化学机械抛光,研究络合剂、氧化剂、润滑剂种类及添加量对微晶玻璃化学机械抛光材料去除速率和表面粗糙度的影响。结果表明:抛光液中加入质量分数0.2%的EDTA络合剂后,能大幅降低材料表面粗糙度;加入质量分数2%的过硫酸铵氧化剂后能得到较光滑的材料表面和较高的材料去除速率;加入质量分数为0.2%的丙三醇润滑剂后能降低材料表面粗糙度。将EDTA络合剂、过硫酸铵氧化剂丙、三醇润滑剂加入SiO_2抛光液中对微晶玻璃进行化学机械抛光,利用原子力显微镜观察抛光微晶玻璃抛光前后的表面形貌。结果表明,抛光后微晶玻璃表面极为平整,达到了0.12 nm的纳米级光滑表面,且材料去除速率达到72.8 nm/min。  相似文献   
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