测量谐振腔内激光功率的新方法

作者提出了一种测量谐振腔内激光功率的新方法。该方法是借测量激光束在腔内传播时产生的散射光强,测出谐振腔内的激光功率。     

激光增强电镀铜

1.激光增强电镀属于液相激光化学沉积,它也是一种可以不用掩模而直接制作微细金属原图的新技术。美国IBM公司及其他一些研究部门从七十年代末开始在这一方向进行了一系列研究。近年来我们对激光增强电镀的机理和规律作了实验探讨,观察到电镀的激光增强效应,实验得到的激光电镀速率为0.1～1μm/s量级,比无激光照射时的常规电镀速率高600～1200倍。利用这一新技术我们得到了直径(宽度)为数十微米的铜镀点和镀线。     

一种新型泵浦方式的环形染料激光器

连续波环形染料激光器一般用氩离子激光器来激励,在光路结构上通常采用轴外泵浦方式,利用谐振腔光路外的球面反射镜把泵浦光会聚到染料喷流上来激励激活介质。我们研制的染料激光器采用一种新型泵浦方式——轴向泵浦方式,其特点是利用组成环形谐振腔的一面球面反射镜代替轴外反射镜将泵浦光束会聚到染料喷流上。采用这种新型泵浦方式使激光器光路紧凑,调整方便,其最大优点是使染料喷流中受激发区域与染料激光模体积得到最好的     

激光电镀的机理和实验研究

本文概述了激光增强电镀的原理,介绍了用来研究电镀铜的激光增强效应的实验装置和方法。用激光增强电镀方法成功地镀得了直径(或宽度)为几十微米的金属铜镀点和镀线,镀层厚度为1～2μm。实验测出金属铜的沉积速率为1μm/s,比背景(无激光照射)沉积速率大三个数量级。文中还给出当工作条件改变时电镀参数(电流变化量△I、增强比E、镀点直径d和镀层厚度H)的变化规律。     

CO_2激光化学气相沉积a-Si:H薄膜

用输出功率为50W的CW CO_2激光照射纯硅烷(SiH_4)气体得到了a-Si:H薄膜。沉积速率达到200 /min。用电子衍射方法测定了所沉积的薄膜是非晶态的。测量了薄膜的光电导率和暗电导率,其比值达10~4量级。用紫外可见光谱分析了薄膜的光学性质,计算出光能隙为1.44～2.0eV。得到了沉积速率、光电导率、暗电导率、光学能隙随基片温度变化的关系曲线。阐述了CO_2激光化学气相沉积a-Si:H薄膜的机理。     

试论高等教育投资体制的改革

高等教育要培养专门人才并开展科学研究活动,必须占用和消耗一定的人力、物力,若用货币来表示高等教育所占用和消耗的人力、物力的总和,则称为高等教育投资。 在科技高度发展的当今世界和未来社会,生产的发展取决于科学技术的发展、生产管理水平和劳动者素质的提高。现在世界各国都普遍认为,经济竞争就是科学技术的竞争,归根结蒂是人才的竞争。纵观现代世界历史表明,那个国家拥有数量多、质量高的人才,那个国家就在世界经济发展中处于领先地位。由于专门人才在生产中起着巨大的推动作用,因此用于培养高级专门人才的高等教育投资对于生产发展和社会进步起着举足轻重的促进作用。     

轴向泵浦环形染料激光器

引言 在连续波染料激光器里激光场通常以驻波形式在谐振腔内运行，驻波辐射场会使激活介质产生空间烧孔效应．这将给染料激光器的单纵模工作造成困难。利用环形谐振腔的行波激光器能够消除空间烧孔效应，因此其单频输出功率比驻波激光器的单频功率高得多。近年来环形染料激光器的发展十分迅速，为染料激光器在各领域的应用开辟了广宽的前景。     

激光化学气相沉积非晶硅

本文报道了CO_2激光化学气相沉积非晶硅的实验结果,硅薄膜的沉积速率与硅烷气压、基片温度和激光光强密切有关。 利用不同方法测量了硅薄膜样品的各种特性,证实了薄膜确为非晶硅。 作者也研究了激光化学沉积非晶硅的机理,并给出了理论讨论以解释实验结果。     

激光电镀的实验研究及机理探讨

本文报告了激光电镀的实验研究结果及其理论解释。将激光束聚焦后照射在位于电解液内的电极上时,观察到了激光感应的电镀增强效应,其电镀速率比常规电镀速率高1000倍。