氧气闭环控制系统辅助反应磁控溅射沉积γ-Al_2O_3薄膜

采用双极脉冲反应磁控溅射方法在衬底温度300℃的条件下制备了结晶态γ相Al2O3薄膜。借用speedflo闭环控制系统,整个沉积过程持续稳定进行且沉积速率高达16 nm/min。XRD结果揭示,不同工作点下制备的薄膜均为单一相的γ-Al2O3。薄膜的硬度值受靶表面沉积状态影响很大,在反应模式状态下沉积的薄膜具有良好的硬度,而在靶表面中毒状态下沉积的薄膜硬度值很低。本文对硬度的变化原因做了详细的探讨。     

熔盐法制备氧化镁粉体及其活性研究

以MgCl2-6H2O、CaCO3和LiCl为原料,采甩熔盐法制备了MgO粉体。通过热重．差示扫描热量计（TG—DSC）、X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电子显微镜（SEM）等手段对反应过程及产物进行了分析和表征,同时采用水解动力学分析法研究了煅烧温度和时间对氧化镁粉体活性的影响。TG-DSC分析表明,650℃时CaCO3可完全反应;XRD分析表朝,450℃保温3h热处理,产物中有MgO生成。650℃保温3h热处理,产物经无水乙醇洗涤后,全部为MgO晶体;SEM分析表明,所制备的氧化镁形貌为颗粒状,形状不规整,大小介于50-250nm之间;水解动力学分析法表明,当温度大于500℃、保温时阕超过3h后,随着热处理温度的升高和时间的延长,MgO粉体活性下降。     

低转速下多弧离子镀制备的Mo-Ti-Al-N超晶格硬质涂层的微结构及背散射谱分析

目的研究低基片转速对纳米多层膜微结构和性能的影响。方法采用阴极多弧离子镀技术在单晶硅基片上沉积制备了MoTiAlN/MoN/Mo纳米复合结构涂层,借助X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、背散射谱(RBS)和纳米硬度计,分别对样品的物相、形貌、组分和硬度进行表征分析。结果 XRD显示不同转速下制备的涂层的物相结构主要为六角密排结构的Mo N和面心立方(Ti,Al)N,较高基片转速下涂层的结晶性较好。SEM和TEM图像证实,2 r/min基片转速下的目标涂层具有平均调制周期26 nm的Ti AlN/MoN超晶格结构,总厚度为1.15μm,且界面清晰。纳米显微硬度测试表明,低基片转速下,涂层硬度和杨氏模量分别达到(30±2)GPa和(500±30)GPa。结论不同能量的~7Li~(2+)离子卢瑟福背散射谱结合SIMNRA拟合程序,可定量评估该超晶格结构涂层的原子百分比、每个子层的物理厚度及调制周期,这为纳米多层膜的微结构表征提供了一种有效的分析手段。     

Preparation and characterization of cubic lattice ZnS：Na Films with （111） preferred orientation

ZnS：Na thin films with （111） preferred orientation were deposited on glass substrates by vacuum evaporation method. The as-prepared films were annealed in flowing argon at 400--500 ℃ to improve the film crystallinity and electrically activate the dopants. The structural, optical and electrical properties of ZnS：Na films are investigated by X-ray diffrac- tion （XRD）, photoluminescence （PL）, optical transmittance measurements and the four-point probe method. Results show that the as-prepared ZnS：Na films are amorphous, and exhibit （111） preferred orientation after annealing at 400 --500 ℃. The PL emissions at 414 nm and 439 nm are enhanced due to the increase of the intrinsic defects induced by the thermal annealing. However, all the samoles exhibit high resistivitv due to the heavy self-compensation.     

中频磁控溅射制备AlN薄膜

设计了一套阳极层离子源辅助中频磁控溅射装置,并在Si(111)衬底上沉积AlN薄膜。用X射线衍射、原子力显微镜和扫描电镜分析了AlN薄膜的结构、形貌和成分。在优化的实验条件下制备的AlN薄膜具有较强的(002)衍射峰,其半高宽为612–648弧秒。气体流量、衬底偏压、离子源等对薄膜结构有明显影响。     

鄱阳湖环湖区域经济建设与生态规划问题研究

鄱阳湖是中国最大的淡水湖泊,随着江西经济的发展,鄱阳湖的污染问题也变得日益严峻,如何合理开发和利用鄱阳湖带动环湖区域经济发展,为江西经济发展作贡献成为了一个急需解决的难题。文章就加强生态建设,全面推进鄱阳湖环区域经济发展做了详细的论述,从水资源、土地资源、气候资源、生物资源、矿产资源、旅游资源的合理开发进行了综合分析,为鄱阳湖环湖区域经济可持续发展提供了理论依据,对鄱阳湖环湖区域经济开发具有指导意义。     

生态混凝土净水技术处理污水

介绍了生态混凝土的分类、性质、净水机理,并讨论了目前研究中存在的问题.     

打印室PM2.5导致的体内外损伤与机制探究

为研究打印室PM2.5造成的体内外损伤及其机制,建立了细胞和小鼠模型来评估打印室PM2.5对细胞和肺损伤的影响及其可能的机制。结果表明:打印室PM2.5明显上调了细胞和小鼠体内磷酸化的蛋白激酶B(p-AKT)、磷酸化的磷脂酰肌醇3-激酶(p-PI3K)蛋白表达量,而磷脂酰肌醇3-激酶(PI3K)/蛋白激酶B(AKT)信号通路的激活,促进基质金属蛋白酶-2(MMP-2)蛋白表达量上调,MMP-2表达量上调加剧了细胞以及小鼠肺部纤维化的形成,同时,血管内皮生长因子(VEGF)蛋白的表达量被下调,导致了血管生成的抑制作用(P<0.05)。打印室PM2.5还下调了小鼠体内B淋巴细胞瘤-2(Bcl-2)蛋白表达量,同时,上调了Bcl-2同源水溶性蛋白(BAX)的表达量。当这2个蛋白表达比例变化时,可以激活凋亡启动子Caspase-8和执行子Caspase-3,所以Caspase-8和Caspase-3蛋白的表达量在打印室PM2.5处理组中上调(P<0.05),预示了凋亡的开始。综上所述,打印室PM2.5的暴露明显加剧了细胞和小鼠体内纤维化、小鼠体内凋亡的发生,对长时间待在打印室的人员构成潜在威胁。     

基底偏压对电弧离子镀制备AlCrVN涂层微结构及力学性能的影响

目的 研究基底偏压对AlCrVN涂层微结构及力学性能的影响。方法 采用电弧离子镀技术,使用合金靶AlCrV,纯N₂作为引弧介质和氮源,在不同的基底偏压下制备AlCrVN涂层,对AlCrVN涂层的物相结构、微观形貌、硬度、摩擦因数及磨损率进行测试分析,作为对比制备了AlCrN涂层。结果 AlCrVN涂层为柱状晶结构,由面心立方CrN为基础的(CrV)N置换固溶体相和Cr₂N六方相2种晶相组成,随着基底偏压的增大,涂层衍射峰强度及位置变化不明显;涂层表面的大颗粒数量减少,凹坑增多;涂层硬度由50V时的22 GPa增大到150 V时的24.2 GPa,200 V时硬度值减小到22 GPa;摩擦因数由0.42增大到0.71;磨损率由6.4×10^-7 mm³/(N·m)逐渐增大到13.2×10^-7 mm³/(N·m)。结论 基底偏压对AlCrVN涂层性能影响较大,低偏压(50V)时,涂层的摩擦因数、磨损率最低,耐磨性能最好。含V元素的AlCrVN涂层的力学和摩擦学性...     

射频磁控溅射制备铝酸锶长余辉发光薄膜

采用射频磁控溅射法在Si（100）衬底上制备稀土掺杂铝酸锶薄膜,在900℃和1100℃下、弱还原气氛中退火,分别得到SrAl2 O4∶Eu2＋,Dy3＋和Sr4 Al14 O25∶Eu2＋,Dy3＋长余辉发光薄膜。结果表明：SrAl2 O4结构是形成Sr4 Al14 O25相结构的中间相;在360 nm激发光激发下,SrAl2 O4∶Eu2＋,Dy3＋薄膜发光峰位于517 nm处左右,发光强度相对略高于Sr4 Al14 O25∶Eu2＋,Dy3＋薄膜,且后者发光峰位于490 nm处左右;Sr4 Al14 O25∶Eu2＋,Dy3＋薄膜的余辉性能优于SrAl2 O4∶Eu2＋,Dy3＋薄膜。