不同燃料超音速火焰喷涂NiCr-Cr3C2涂层

采用超音速火焰喷涂工艺在20CrMo钢圆片上成功制备25%NiCr-Cr3C2金属陶瓷涂层,研究了不同燃料对喷涂层组织性能的影响。结果表明,以丙烷为主要燃料所得喷涂层的组织不均匀,存在典型的层状结构,孔隙率约为3.2%,显微硬度仅为836 HV,涂层断裂韧性KIC为2.08 MPa.m3/2;以煤油为主要燃料所得喷涂层的组织分布均匀,细小致密,孔隙率约为2.4%,显微硬度可达1045 HV,涂层断裂韧性KIC为2.56 MPa.m3/2。前者的组成相为Ni(Cr)固溶体、Cr3C2和微量NiCrO4;后者的组成相除Ni(Cr)固溶体和Cr3C2外,还有Cr7C3、Cr23C6和Ni(Cr)相出现。     

高速电喷镀喷嘴可控运动装置的研制

本文利用单片机数字信号处理性能和丝杠传动结构实现高速电喷镀喷嘴的精密控制,喷嘴位移控制精度达到0.05mm,电沉积反应可扩辰到所有喷嘴运动可达区域,一次能高速电喷镀零件表面500mm2.就特定的工件和镀液,通过运动方式调整电解液的搅拌强度,可使镀层复合含量提高.可研制大面积高性能的、与基体结合力强的各种复合镀层.     

溅射制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜的组织结构研究

采用磁控溅射法制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜,并将制备薄膜在不同的温度下进行真空热处理.研究了不同工艺条件下制备薄膜的结构、形貌和磁性.结果表明:采用磁控溅射在单晶Si基底上溅射Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜,主要为沿基底法线方向的柱状晶结构,随着热处理温度提高,薄膜晶化程度提高,沉积在Cu基底上的薄膜磁性优于沉积在Si基底上薄膜的磁性.     

冷挤压模具的深冷处理

对常规热处理后的部分高合金模具钢和钢结硬质合金的冷技压模具进行深冷处理，模具的硬度略微变化而红硬性和耐磨性增加，大大提高冷挤压模具的使用寿命．深冷处理强化的原因主要是残余奥氏体转变、超微细碳化物析出及表面粗糙度和摩擦性的改善。     

高速电喷镀制备纳米PTFE镍基复合镀层

研究了以Q235和65Mn钢为基底，经高速电喷镀形成的纳米PTFE镍基复合镀层，考察了喷射速度对镀层沉积速率、表面显微硬度、结晶组织形貌以及镀层结合力的影响，探讨了喷射速度影响镀层性能组织的原因机理。结果表明，喷射速度在4.2-6．3m／s时获得的镀层有较高的沉积速率和表面硬度，晶粒细小、组织致密．镀层结合力较高。     

纳米耐磨和减摩复合镀层的研究

分析了将纳米三氧化二铝(Al2O3)和聚四氟乙烯(PTFE)颗粒加入常规电刷镀液中制备纳米耐磨和减摩复合镀层的组织、显微硬度、耐磨性和摩擦因数。结果表明：纳米颗粒的加入使复合镀层组织明显细化和致密。随着纳米Al2O3颗粒含量的增加，复合镀层的显微硬度和耐磨性有明显的提高，纳米PTFE的加入有助于减少复合镀层的摩擦因数。     

2Cr13用于送料槽板的氮化工艺与性能

对2Cr13渗氮处理和送料槽板试样进行了硬度、耐磨性和冲击韧度等对比实验。结果表明,2Cr13渗氮可获得很高的表面硬度和耐磨性,表面硬度可达1000 HV,相当于69~70 HRC。与冷作模具钢Cr12MoV制造的槽板相比,2Cr13渗氮槽板制造成本低廉,使用寿命不低于进口件。     

Sputter-deposited TiNiPd alloy films on Si wafer

Amorphous thin films of Ti51.78 Ni22.24 Pd25.98 alloys were deposited onto n-type(100) Si wafer by radio frequency magnetron sputtering. From X-ray diffraction patterns, the crystallization temperature of thin film on Si wafer is found to be higher than 553.1 ℃. The film heated at 750 ℃ for 1 h quite crystallizes along with some precipitation, but at 550 ℃ it partially crystallizes. With heating for 50 h at 450 ℃ before crystallization, the film will contain more B19' phases after succeeding heat-treatment at 650 ℃, but less B19' phases after 750 ℃ treatment are found. The fracture morphology of the film heated at 550 ℃ shows a flat pattern with more steps, whereas that of the film preparing at 750 ℃ displays a well-defined fine granulation structure. 550 ℃-heated film is harder than asdeposited film because of good cohesion between film and Si wafer.     

电刷镀Ni - P合金镀层的高温摩擦磨损性能

对电刷镀Ni - P合金镀层的高温摩擦磨损性能进行了研究.实验结果表明,在20CrMo钢基体上,电刷镀Ni - P合金镀层能有效降低试样在高温(450 ℃)下的摩擦因数,减小高温磨损量.其中,12 min电刷镀试样在高温摩擦测试前80 min内,摩擦因数基本维持在平均值约0.30,仅为20CrMo钢基体(0.60)的50%;80～120 min因镀层局部被磨损穿透,其摩擦因数缓慢增长;120 min后,基本维持在平均值约0.50,测试完成后质量磨损量为同等测试条件下20CrMo钢基体的19.99%;24 min电刷镀试样在450℃下摩擦测试180 min的整个过程中,摩擦因数均较稳定,平均值为0.30,高温摩擦磨损测试后的质量磨损量仅为20CrMo钢基体的6.36%.