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91.
晶片双面磨抛设备主要用于双面磨抛晶片,其压力控制的精度、速度以及稳定性是影响晶片磨抛质量和磨抛效率的关键性指标,为了满足双面磨抛设备对压力的控制要求,设计了闭环压力控制系统,通过动态调整控制参数实现了对压力的精确控制.  相似文献   
92.
阐述电力施工现场中的智能化监控系统,包含门禁系统、视频安保监控、应急广播与通信,探讨系统的整体设计、分模块的功能设计,智能化监控系统的工作流程和应用,从而完成监控作业。  相似文献   
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