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51.
网格曲面中孔洞的光滑填充算法研究   总被引:14,自引:0,他引:14  
三角网格模型是几何描述的一种重要形式,有着广泛的应用。但三角网络模型常常会存在孔洞缺陷。这些孔洞的存在一方面影响视觉效果,另一方面会影响许多后续的操作,如快速原型制造、有限元分析等,因此有必要对这些孔洞进行修补。目前绝大多数孔洞填充算法是将网格模型中的孔洞提取成空间多边形,并对孔洞多边形进行三角化。这种处理方法的主要缺陷是没有考虑网格曲面在孔洞附近的几何形态,因而填充部分不能与整个曲面光滑地融为一体。笔者提出了一种三角网格曲面中孔洞的光滑填充算法。该算法根据孔洞周围网格曲面的几何信息来增加孔洞内部的采样点,然后再对增加的采样点进行三角化,较好地解决了填充部分与整体曲面光滑连接的问题。  相似文献   
52.
53.
10MW高温气冷实验堆(HTR-10)是一座球床堆,由燃料元件装卸系统实现燃料元件的装卸和循环,且不需要停堆,为保证HTR-10的正常运行,燃料元件装卸系统必须安全,可靠,为此,必须对燃料元件装卸系统进行周密,细致的调试试验和验证,本文介绍了燃料元件装卸系统冷调试的主要调试项目,调试方法和调试结果。  相似文献   
54.
高职学院创建学习型组织事关高职学院建设发展大局,创建学习型组织是一个持续不断的长期的过程,它需要高职学院按照彼得·圣吉提出的"五项修炼"加以逐步落实,确立新的学习理念,建立起能促进终身学习、全员学习、共同学习的体制、机制和知识共享平台。  相似文献   
55.
臭氧氧化-光催化降解水中的五氯酚   总被引:5,自引:1,他引:4  
周琳琳  孟长功  周硼 《石油化工》2007,36(7):739-743
利用臭氧氧化-光催化技术降解水中的有机污染物五氯酚(PCP)。对比了紫外光照射、臭氧氧化、光催化、臭氧氧化-光催化4种方法降解PCP的情况。考察了臭氧氧化-光催化体系中臭氧流量、臭氧产量、PCP初始质量浓度、pH和CO23-等因素对PCP降解率的影响。实验结果表明,臭氧氧化-光催化法比单独使用紫外光照射、臭氧氧化、光催化法更能有效的去除PCP;增加臭氧流量和臭氧产量有利于提高PCP的降解率;降低PCP的初始浓度,PCP的降解率显著提高;pH对PCP的降解效果影响不明显;CO23-的存在显著降低了PCP的降解率。在臭氧氧化-光催化体系中,除臭氧直接氧化降解PCP外,臭氧与TiO2协同作用产生的.OH对PCP的降解也起到了重要作用。  相似文献   
56.
本文介绍了风力发电系统目前存在的技术方案,重点介绍了ABB用于双馈式风力发电系统的变频产品ACS800—67的特性,并对由其构建的发电机测试平台的案例进行了实验分析。  相似文献   
57.
Single-crystalline 3C-SiC nanowires have been synthesized in large scale through a one-step autoclave route by the reaction of SiCl4, (C5H5)2Fe and metallic Na at 500 °C. Electron microscopy investigations show that the nanowires have typical diameters of 15-50 nm, lengths up to several tens of micrometers and grow along the [111] direction. The possible growth mechanism of the nanowires is discussed.  相似文献   
58.
催化裂化装置结焦问题的探讨   总被引:9,自引:0,他引:9  
针对中国石化股份公司所属56套催化裂化装置近两年半以来由于结焦造成非计划停工的原因,进行分析、探讨并提出了解决办法。指出催化裂化装置的结焦虽然是不可避免的、但通过采取有效措施,可以把结焦对装置安全生产的危害降低到最小程度。  相似文献   
59.
多部件设备维修问题研究及遗传算法求解   总被引:1,自引:0,他引:1  
合理组织设备维修,缩短设备维修时间是生产运营管理的一个重要环节。本文探讨了多部件设备维修的有效组织问题。考虑到维修工人对拆分后设备的不同部分具有不同的维修效率,提出了一种基于维修时间优化的决策方法,将其与经典指派方法进行了比较;进一步地,对这一NP-hard问题设计了遗传算法,通过数值例子讨论了其求解有效性。  相似文献   
60.
彭在美 《冶金丛刊》2003,(2):40-41,45
本文叙述了我国管道业面临的市场机遇和受到天然气价格等因素的制约以及进口钢管的挑战。建议中国管道业应适当发展ERW610机组和UOE机组的高质量产品;在钢板上宜以X70级为主,设备潜力可向X80级为目标而努力。  相似文献   
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