同轴数字全息相位恢复算法采样距离优化研究

相位恢复算法被广泛应用于去除同轴数字全息共轭像。其中,多采样距离相位恢复算法相比于基于单幅全息图的相位恢复算法,尤其是在两幅全息图的重建算法中,重建精度更高且收敛速度更快。针对采样距离和采样间隔对再现物光波前的精度的影响,通过记录不同采样距离的多幅数字全息图,进行相位恢复。通过分析比较再现相位像的标准化均方根误差,得到优化算法的最佳采样距离和采样间隔。结果表明,采样距离在130～160mm范围内时误差较小,采样距离为150mm、采样间隔为2mm时误差最小,仅0.0096。     

基于视场分割方式的宽视场高光谱成像系统的辐射匹配技术

视场分割方案是实现宽视场高光谱成像的可行途径之一,成像系统除了空间上需要配准外,辐射亮度也需要匹配.本文主要分析宽视场高光谱成像仪的视场拼接技术的辐射匹配原理和匹配要素,简要介绍了实现途径,通过该途径,成功地实现了一种机载高光谱成像仪的视场拼接,给出了该宽视场高光谱成像仪的飞行试验结果,试验显示辐射匹配结果良好,通过光谱曲线的对比,精度在系统误差范围内.     

太赫兹宽带Denisov型准光模式变换器的设计分析

研究并设计了一种具有宽频带工作能力的太赫兹准光模式变换器。该准光模式变换器采用具有高效率特性的Denisov 辐射器,工作在TE_6,2模式,用于实现回旋管内的模式变换。由于Denisov 辐射器的参数是影响准光模式变换器宽带性能的主要因素,因此通过对辐射器参数的优化设计,达到增大模式变换器带宽的效果。使用自主开发的准光学模拟程序进行仿真,模式变换器中心频率为94 GHz,带宽达2 GHz。     

适用于IP设计的16位可扩展定点DSP

介绍了一种称为ＷＤＳＰ的１６位定点ＤＳＰ,它具有一条指令完成一向量操作及ＤＭＡ数据传输与数据运算并行操作的特点。该ＤＳＰ的结构和指令集设计规则,使其可根据不同的应用,通过增减功能模块及相应的指令来定制ＤＳＰ。     

基于纤芯失配多模干涉的光纤折射率传感器

基于多模干涉效应的单模-多模-单模(SMS)结构光纤折射率传感器通常需要进行包层腐蚀来提高灵敏度,而且易受环境温度影响。为克服SMS结构的这些不足,提出了一种新型的基于纤芯失配多模干涉的光纤折射率传感器,由单模光纤-色散补偿光纤-单模光纤(SMF-DCF-SMF)级联光纤布拉格光栅(FBG)构成,长度不超过100mm。对其灵敏度、线性范围和温度特性等进行了测试,实验结果显示在测量折射率为1.33～1.39的折射率液时,特征波长与折射率呈线性关系,灵敏度为232.8nm,级联的FBG具有良好的温度校准功能。     

矢量调制误差测量影响因素分离方法研究

提出一种基于多次测量数据解析求解的方法,用于分离矢量信号发生器自带的调制误差和矢量信号分析仪的测量误差,并通过数值仿真和实验测量对方法进行实施和验证。该方法不但可以提高矢量信号发生器和矢量信号分析仪的校准准确性和可靠性,也为建立数字调制质量参数量值溯源体系提供了理论基础。     

α-Fe2O3表面结构的研究

像差校正透射电子显微镜拥有亚埃级的分辨率,并克服了物镜离域效应的影响,可以定量分析复杂氧化物表面的原子结构,如弛豫、缺陷等.本文利用像差校正高分辨透射电镜,结合多片层法像模拟,研究了α-Fe2O3纳米颗粒[0001]带轴下的内部结构和表面结构.结果表明α-Fe2O3[0001]带轴下以O3-Fe4-O3-…方式的(11(-2)0)表面终结,表现为非极性表面.     

非线性非高斯模型的改进粒子滤波算法

针对被动定位跟踪系统非线性强、传统跟踪滤波方法收敛速度慢且容易发散的问题,给出了一种用于纯方位目标跟踪的改进粒子滤波算法。该算法首先用有限的高斯混合模型来近似后验状态密度;其次针对随机噪声对粒子权值准确性的影响,给出了改进的变权平均似然函数。根据χ2检验,对每个粒子权值的更新,采取由多次观测值计算粒子似然函数并对其求变权平均和单一观测值求似然函数相结合的方式进行,既减小随机观测噪声对权值的影响也提高了算法实时性;最后利用基于退火机制的Aitken加速EM算法（A-DAEM）取代传统粒子滤波的再采样过程,克服了EM算法容易陷入局部最值的缺点,改善了粒子枯竭的问题。仿真实验结果表明该算法与变权平均似然函数粒子滤波（PF-ALDP）和基于EM的高斯混合粒子滤波(EM-GMPF)相比,具有高精度估计能力和较强的鲁棒性,是解决非线性系统状态估计问题的一种有效方法。      

基于VISSIM仿真技术的小区交通开放对周边道路通行影响的探究

主要研究居民小区交通开放后对道路通行能力的影响.基于模糊理论的车辆跟驰模型,利用VISSIM仿真软件对不同类型小区周围的道路交通与交叉路口的车辆通行情况进行仿真,分析了仿真获得的数据,得出小区出口所对应路段的理论通行能力.最后根据研究的成果,向相关部门提出合理化建议.     

大电流密度下欧姆接触退化机理的研究

对大电流密度下欧姆接触的结构进行了改进,采用只对接触区域老化而其它区域非破坏性的结构特点,保证测量数据的真实有效性。工艺制备中采取多次SiO2铺垫多次光刻技术解决了引线电极断裂的可能。通过施加达到或超过105A/cm2电流密度,利用文中结构测得比接触电阻早期快速失效,且随电流密度增加退化加剧,对样品老化前后进行能谱分析得知,大电流密度下接触层中Al离子发生了扩散从而破坏了良好接触。