液晶显示技术的进展

通过实地考察,介绍美国、日本和欧洲的液晶显示技术,着重叙述有源矩阵液晶显示技术、制备关键工艺、新型液晶显示器件的开发以及夏普公司在LCD领域中的领先水平.     

提高近红外视象管制靶工艺稳定性研究

根据近红外视象管特点,设计了专用的靶面蒸涂设备,改进了靶面加热方法、蒸发舟的形状以及工作气流的控制方法,确定了一种稳定性较好的工艺,使制靶成品率大大提高,整管成品率因此从过去的5%提高到30%。     

基于非线性渐增原理获得抛物线型自相似脉冲的研究

采用理论推导和数值模拟相结合的方法研究了脉冲在指数渐增的非线性渐增光纤(NIF)中的自相似演化。结果表明,与双曲渐减的正色散渐减光纤(ND-DDF)类似,利用指数渐增的NIF也可获得具有严格线性啁啾的抛物线型自相似脉冲。同时深入研究了ND-DDF和NIF两种增益等效方式对自相似演化特性的影响,结果表明:1)等效增益决定了脉冲自相似演化的结果,等效方式决定了脉冲自相似演化进程快慢;2)在具有相等的等效增益条件下,脉冲在指数渐增NIF和双曲渐减ND-DDF中演化为相同的自相似脉冲,但是前者对脉冲的自相似演化更高效,即前者实现自相似演化所需光纤长度更短;3)两种增益等效方式所需光纤长度的关系是使得各自具有相同的光纤有效放大因子。     

利用基于扫描相机的荧光寿命成像显微技术研究细胞周期

利用基于扫描相机的荧光寿命成像显微系统,以细胞周期为模型,研究转染绿色荧光蛋白的HeLa细胞的荧光寿命。结果表明,处于周期内不同进程的细胞的荧光寿命为2.50~3.00 ns。处于分裂期的细胞的荧光寿命在1 h内从2.86 ns下降到2.82 ns;在DNA合成前期的8 h内,荧光寿命从2.82 ns下降到2.78 ns。荧光寿命的差异反映了细胞周期中核浆内大分子浓度的变化,对了解细胞周期的分子机制有一定的意义。     

噪声温度法测量微波波导器件小衰减的进一步研究

本文在噪声温度法测量小衰减的基础上，提出了Ｙ因子法和噪声温度比较法测量微波波导器件小衰减的两种新设想。     

慢波偏转的相速、同步电压及带宽

本文提出了螺旋形慢波线最佳带宽时的相速与电子速度之间的数量关系;指出偏转灵敏度最高时的加速电压并不是同步电压。     

城市管网系统的风险评价案例分析

文章根据管道指数评价法所建立的风险评价模型,对上海市燃气中环线（大柏树至共和新路）段高压管（0.8MPa）进行了实际应用,提出了风险缓解措施。     

热分析在光电模块可靠性设计上的应用研究

元器件计数法是目前国内外针对光电模块可靠性设计的通用方法,为了改善没有成熟光电模块产品就无法有效进行可靠性预计的问题,在产品设计阶段通过运用流体仿真分析软件以XFP(10 G小型可插拔)模块为例模拟分析其在不同温度条件下的工作状态.完成了XFP模块的热分析,给出了XFP模块可靠性设计的优化办法,得到了XFP模块可靠性预...     

40/100Gb/s偏振复用相干检测光模块的技术分析

利用偏振复用四相相移键控(PM-QPSK)调制技术和相干检测技术,实现40/100 Gb/s光模块的长距离传输。基于相干检测的偏振复用四相相移键控调制格式是40/100 Gb/s长距离传输的主要研究方向,与直接检测系统相比,相干检测具有更高的频谱效率。现有的相干检测是基于高速模数转换器(ADC)的快速发展,ADC对混频后的基带信号采样,通过数字信号处理(DSP)芯片数字均衡的方式完成相干接收。数字信号处理芯片数字均衡的方式可以实现定时恢复、信号恢复、偏振和偏振模色散(PMD)跟踪,以及色散补偿。     

Morphology Control and Optical Absorption Properties of Ag Nanoparticles by Ion Implantation

Ion implantation is a powerful method for fabricating nanoparticles in dielectric.For the actual application of nanoparticle composites,a careful control of nanoparticles has to be achieved.In this letter,the size,distribution and morphology of Ag nanoparticles are controlled by controlling the ion current density,ion implantation sequence and ion irradiation dose.Single layer Ag nanoparticles are formed by Ag+ion implantation at current density of 2.5μA/cm2.By Ag and Cu ions sequential implantation,the siz...