数据中心计算环境应用承载能力评价

随着新型计算服务模式在数据中心的普及,针对如何有效评价其承载能力的问题,提出一种新的应用承载能力评价体系和评价模型,具体分析了网络、计算资源对服务环境的影响度,并给出了实例分析。实例分析结果表明,新的评价体系和评价模型可以有效评估计算服务模式对各类信息服务系统部署运行的应用承载能力,进而提升信息服务保障整体效益。     

汉语复合名词语义信息标注词库: 基于生成词库理论

复合名词分析一直是语言研究和自然语言信息处理中的一个重要问题,涉及未登录词的识别、自动释义以及词典编纂等。生成词库理论是目前较新的一种语义学理论,我们拟利用该理论对汉语复合名词进行语义信息标注,建立一个词库。该文首先介绍了这一词库的标注框架,然后通过对“纸”、“石”构成的复合词的对比分析,展示了这一词库在复合名词构词、语义研究中的应用。研究结果显示,物性角色、自然类和人造类是非常重要的语义信息,能揭示复合名词构词和语义的一些模式和规律。     

溪洛渡水电站水力发电机磁屏蔽问题研究

针对溪洛渡水电站特大型发电机组热稳定试验期间发电机出口和中性点处电流引线临近的钢构件和部件由于漏磁原因引起发热的现象进行分析和研究,制定出电磁屏蔽解决方法并应用于工程实际。采用热成像仪等设备再次监测短路热稳定试验中的热构件温度。实践证明,由于热点温度大幅度降低,确保了溪洛渡水电站770 MW水力发电机组的可靠运行。此电磁屏蔽方法对于特大型水电站发电机组的安装、调试和水力发电机电磁屏蔽的设计具有参考价值。     

一种能量均衡的ZigBee网络路由算法

为进一步改善Zig Bee网络性能以及延长其网络生命周期,提出一种能量均衡的路由算法EARZ(an Energy-balance Routing algorithm for Zig Bee networks)。算法通过改进传统算法的数据传递路径,来调整网络的能量消耗。算法中,源节点和目的节点根据建立的节点能量警告值来选择合适的路径,在平衡网络能量的基础上使路径最短。对算法进行了仿真和实验测试,结果均表明算法比典型的路由算法AODVjr更能有效延长网络的生命周期。     

基于核电控制室设计中的HFE V&V应用技术研究

核电厂在国家能源领域有着不可替代的作用,然而在核电控制领域的应用中,核安全是核电厂生存的命脉,对保障和提高核电控制室设计的可靠性与安全性,采用核电HFE V&V技术提高核电控制室设计的安全系数,能够为核电设备的高效安全作业提供切实保障。     

气密性混凝土在松卜岭高瓦斯隧道衬砌中的应用

松卜岭隧道穿越煤岩层,为高瓦斯隧道。为保证隧道的运行安全,在隧道瓦斯设防段须采用气密性混凝土对坑道进行全断面封闭式复合衬砌。通过对隧道穿越的地质环境条件、设计标准、气密性混凝土材料以及合理配合比的选择分析,采用室内试件测定方法对混凝土试件的透气量进行测定,计算得出透气系数。对不同衬砌形式的混凝土的气密性进行了评价,结果表明：气密性混凝土在隧道衬砌中具有明显的抗气性。不仅能在瓦斯隧道衬砌中应用,也可应用于其他有较高防潮、防渗要求的工程中。     

自动化远程监控系统在金鸡拦河闸的应用

金鸡拦河闸远程监控系统利用通信技术、图像处理技术、分布式数据库技术、网页多媒体制作技术、计算机实时监控技术等,实现对水闸实行水文数据实时采集、分析处理和闸门自动启闭控制以及实时图像监控,提高了金鸡拦河闸工程水资源的优化调配水平以及防洪抗灾能力.     

十二孔闸改建工程抢工措施探讨

十二孔闸改建工程因“引黄补淀”要求,工期由原来设计的10个月压缩为两个半月,改建工程项目部克服多项困难组织抢工,在抢工过程中出现一些不足之处给抢工任务造成不利影响,该文着重分析抢工措施中的不足之处及提出应该注意的问题.     

Skitter与Ark探测架构下AS级Internet拓扑分析

选取CAIDA授权的AS级2003年1月—2007年12月的Skitter数据及2008年1月—12月的Ark数据进行层层深入的对比分析,以说明Internet拓扑探测架构的改变对拓扑探测结果的影响。首先统计了Skitter及Ark架构下AS级Internet拓扑的多种宏观特征,分析了Skitter与Ark在各特征值上的异同,进而分析了网络的幂率特征与网络连通性以及拓扑核数的演化,指出幂率性质以及高聚类性质在Internet拓扑中是真实存在的,不随探测方式的改变而消失。     

PECVD淀积SiO_2薄膜工艺研究

研究了等离子增强化学气相淀积（PECVD）制备非晶SiO2薄膜的工艺。系统地研究了反应气体流量比、射频功率、淀积腔内压强、淀积时间等工艺条件对SiO2薄膜质量的影响,采用椭偏仪测量了不同工艺条件下淀积的SiO2薄膜的厚度和折射率。根据以上测试结果分析了各工艺参数对SiO2薄膜淀积速率、折射率以及均匀性的影响规律,并定性讨论了其机理。找到了比较合适的制备高均匀性和典型折射率SiO2薄膜的工艺参数。