二等铂电阻温度计标准装置测量过程统计控制的实践

由于二等铂电阻温度计标准装置其组成的计量设备较多,在开展量值传递时测量不确定度分量多,且受外界影响量影响较大,不易保证其测量品质.因此,在精选核查标准的前提下,用数理统计分析的方法,使测量过程均处于连续的统计控制之中,保证了测量结果的准确可靠.     

XiaoMu:an AI-driven assistant for MOOCs

Nowadays,massive open online courses (MOOCs),are at-tracting widespread interest as an alternative education model.Several MOOCs platforms,such as Coursera,edX,...     

SYSTEM RECONSTRUCTION FOR ENTERPRISE ORGANIZATION: FOREWARNING MANAGEMENT AND SYSTEM ANALYSIS

The occurrence laws of adverse drcumstances for enterprises in a market economic situation and the system reconstructability mechanisms of enterprise organizations in an adverse environment are studied. By bringing to light the formation mechanisms and activity characteristics of enterprise management fault and management systems confusion, a constructional method for the managing system of forewarning and pre-control in enterprise organization is suggested. It enables the process of recognition, prevention, and correction of management faults to be performed within enterprises.     

PB试验优化德氏乳杆菌增殖培养基的研究

试验对一株来源于传统酸奶的优良德氏乳杆菌（Lactobacillus delbrueckii）ATx生长所需的增殖因子进行了研究。在MRS培养基的基础上,测定了菌株ATx的生长曲线,并选取谷氨酸钠、磷酸吡哆醛、抗坏血酸、啤酒、乳糖、胡萝卜汁、番茄汁、pH为增殖因子。采用单因素试验确定每个因子的最优水平,Plackett-Burman试验考察各因子对菌株ATx细胞增殖的影响,通过最陡爬坡与中心组合试验对增殖因子进行优化。结果表明,谷氨酸钠、啤酒以及pH对菌株ATx的增殖具有显著影响（P＜0.05）,当MRS培养基中添加谷氨酸钠21.5 g/L、啤酒26.8 mL/L、初始pH值为6.4时,德氏乳杆菌ATx的活菌数最大为（7.56±0.23）×109 CFU/mL,为高活性发酵剂的制备提供了理论参考。     

飞秒激光作用下金属箔材的温度场研究

为分析飞秒激光作用下金属材料的温度场及其影响因素,基于一维双温模型对飞秒激光作用下铜箔的温度场进行数值求解。采用脉宽100～800 fs,能量密度509.30～2 546.48 J/m2的激光参数进行计算,研究电子和晶格温度随时间和深度的变化规律。结果表明,电子温度在10-13 s时间尺度达到峰值,在此期间晶格温度保持不变,此后通过耦合作用二者在几ps时间尺度达到热平衡;脉宽越短,电子温升越快、峰值温度越高、耦合时间越短;而能量密度越大,电子温升越快、峰值温度越高、耦合时间越长。     

WDM系统中色散的实时监测

简单地推导了相位调制下的单音频率在传输光纤中其功率与光纤色散、光纤距离之间的关系，并介绍了在DWDM系统中可以利用相位调制法进行实时监测色散。此方法对于40GHz系统的色散实时监测提供了很好的参考方法。仿真结果表明，在未考虑光纤非线性效应的情况下有很高的精确性，当考虑非线性效应时，其传输距离会由于传输速率的影响而受到限制。     

Direct Writing Micropatterns with a Resolution up to 1 µm

Solution processes have been widely used to fabricate micropatterned surfaces for its mild operation conditions. However, current approaches suffer from limitations of either low resolution or high cost. Here, a facile approach is proposed for direct writing micropatterns with a resolution up to ≈ 1 µm using a unit of triple conical fibers with the side‐by‐side parallel arrangement. With this unit, the resolution of the micropatterns can be mainly controlled by the single central conical fiber, with one side of the fiber facilitating continuous and steady liquid transfer onto the substrate and the other side mechanically supporting the whole unit. Particularly, the unit enables tunable dimension of the micropatterns within a rather large scale from ≈ 1 µm to ≈ 1.3 mm by varying the writing parameters (speed, height, and angle). Moreover, the unit is applicable for direct patterning various liquids, even into microline arrays, with a high resolution. It enables direct writing conductive microline with a width of ≈ 1 µm in a centimeter length scale, which can be used for constructing microcircuits. It is envisioned that the result offers a new perspective for preparing high‐resolution micropatterns using solution processes.     

基于MODBUS现场总线的滚塑设备控制系统

滚塑生产是塑料制品的主要生产方式。现有的滚塑设备已成为制约企业发展的关键因素。研制以PLC为核心控制元件、基于MODBUS协议的控制系统已迫在眉捷。着重介绍基于MODBUS现场总线的滚塑设备控制系统,它由上位机、PLC、变频器组成一个数字通信网络,可方便地实现对现场各参数的修改,将系统运行中出现的故障进行分级处理,并将各参数进行记录。将现场总线应用到滚塑设备的控制系统之后,既可以提高设备的智能化程度又能提高生产效率,同时增强了设备运行的可靠性、稳定性,使产品质量大大提高。利用现场总线PLC,PLD等现代化数控网络技术对滚塑设备进行革新和改造,显著提高现有设备的智能化程度。     

各向异性扩散图像去噪现状研究

介绍了基于偏微分方程(Partial Differential Equations,PDE)各向异性扩散图像去噪的P&M数学模型及各种改进方法,以及引入结构张量的PDE去噪模型和冲击滤波PDE去噪模型,分析各种模型的优缺点,为扩散模型的设计提供了参考。揭示了各向异性扩散去噪与贝叶斯最大后验估计(MAP)去噪的内在联系,通过扩散系数的计算分析几类常用去噪模型的保边性能。阐述了一类特殊PDE去噪模型(总变分去噪模型)与小波阈值去噪之间的相关性,从而可以通过小波系数的范数近似求解一些特殊的变分问题,避免复杂的非线性求解过程。最后对各向异性扩散图像去噪的未来发展进行了展望。     

重复频率3Hz、100mJ高光束质量钕玻璃放大器的研制

研制了具有放大纳秒方形激光脉冲的高光束质量、高稳定的激光二极管(LD)抽运的钕玻璃激光放大器。为了获得较高的输出能量,采用LD泵浦的"串联式双程放大"高增益组件进行能量放大。为了获得高光束质量的光斑,利用液晶空间光调制器(LCSLM)对光束近场分布进行空间整形,使之产生特定的空间分布,进而对后级放大器增益不均匀性进行光学预补偿。放大器工作波长为1 053nm,工作频率为3 Hz,输入1nJ的3ns方形激光脉冲,输出激光脉冲能量为100mJ、光束口径为10mm×10mm的方光斑,能量不稳定度小于2%(均方根),净增益大于109。光束的近场调制度小于1.3∶1,远场焦斑衍射极限小于2DL,远场角漂移小于9.5μrad。