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模糊聚类有效性的研究进展 总被引:2,自引:1,他引:1
聚类有效性评价对聚类分析具有重要意义,是聚类分析的瓶颈之一。本文从基于数据集模糊划分的方法和基于数据集几何结构的方法两方面,归纳综述了常用的模糊聚类有效性评价函数,并讨论了模糊聚类最佳类别数的自动确定问题。 相似文献
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佘炳涛 《电脑编程技巧与维护》2008,(8)
根据当前我国电子政务建设中公文流转存在的需求多变等特点,介绍了如何在公文流转设计中应用类继承、合成复用原则和管道与过滤器体系结构模式,探讨并提供了一个灵活的、可复用的设计模型. 相似文献
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为了实现对无任何先验知识的高光谱遥感数据的全自动分类,提出了一种关于高光谱图像的无监督分类算法。该算法将高光谱图像的凸面几何特征与光谱特征相结合,通过自动提取端元,并利用所提取的端元进行类别识别来实现高光谱图像的自动分类。此算法的特点是原理简单、易于实现、适应性广,而且不需要任何辅助支持和人工干预。实验结果表明,该算法能够获得较好的分类效果。 相似文献
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本文对不同梯度区高度的VGF法温场生长碲锌镉(CdZnTe)晶体过程进行了稳态和非稳态仿真模拟分析。研究发现,晶体生长等径初期界面凸度随着梯度区高度的增加而减小;等径末期界面凸度受梯度区高度的影响不大;界面的凸度与固液界面温度梯度变化率正相关。非稳态模拟结果显示,现有变温条件下,晶体生长过程中固液界面凸度存在先增大后减小的趋势,趋势转变点接近梯度区高度中点;界面形状的变化趋势受固液界面上生长速度分布直接影响;对比而言,10 cm高的梯度区更容易实现前中期固液界面凸界面的获得,利于形成高单晶率CdZnTe晶体。 相似文献
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凸光学元件在磁流变抛光区域的几何特性对制造高精度、高表面完整性光学元件有重要影响,凸光学元件曲率、嵌入深度与角度的变化将引起磁流变抛光区域压力场的变化。为了研究凸光学元件不同的曲率、嵌入深度与嵌入角度下抛光区域的压力场,首先通过建立磁流变抛光过程中压力模型,对抛光区域的压力进行分析;其次基于Kahan数值方法建立了多场耦合积分的快速计算方法。最后,计算凸光学元件在不同曲率、嵌入深度及角度下得到磁流变抛光区域压力场分布,研究凸元件在磁流变抛光区域受几何特性影响的工艺规律;得出结论:在磁流变抛光过程中通过改变凸光学元件曲率、相同曲率下的嵌入深度以及角度的情况下,当加工凸元件曲率增大时,磁流变抛光区域压力场会随之增大;当凸元件曲率一定、嵌入深度逐渐变深时,磁流变抛光区域压力场会增大;当凸元件曲率一定、嵌入角度增加时,磁流变抛光区域压力场会随角度先增大再减小。 相似文献
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