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41.
表外储油层酸化防膨剂的评价及效果分析 总被引:1,自引:1,他引:0
郑清远 《大庆石油地质与开发》1992,11(3):59-64
本文论述了采用不同防膨试验方法评价不同类型粘土防膨剂,并以回归曲线和价值工程分析防膨效果。由分子结构理论提出分子保护膜的防膨机理新观点,论述了酸液中添加具有多种功能的非离子型防膨剂QC—1可提高表外储层酸化与排酸效果。 相似文献
42.
本文所提出的新算法 BANDC 是 BAyes Normal Dynamic Clustering 的缩写。这个算法的目的是从遥感图象识别地理环境。它的优点是:能由机器自动按照图象估算出分类器的参数;作为一种特殊的 Bayes 分类器,它能够依靠计算机估算出{wi}的先验概率,于是能剔除野点,提高分类器的鲁棒性。这个算法的关键是应用拟合法从灰度等级直方图估算出参数。 相似文献
43.
44.
45.
Zheng Fangqing 《计算机科学技术学报》1992,7(2):189-192
This paper presents a necessary condition for a belief function to be a separable support function,and necessary and sufficient conditions for a belief function with hierarchical focal elements to be decomposed into simple support functions.In the second case,an explicit formula is given for the decomposition. 相似文献
46.
47.
48.
刚性圆板自由落体在水面上的冲击压力 总被引:2,自引:0,他引:2
本文对一个刚性圆板自由落体在水面上的冲击过程建立了比较精确的理论模型,并建立了相应的数值格式。计算结果与已有的实验结果符合良好,通过计算进一步给出了下落质量和下落高度对冲击压力峰值的影响。 相似文献
49.
Demir H.V. Jun-Fei Zheng Sabnis V.A. Fidaner O. Hanberg J. Harris J.S. Jr. Miller D.A.B. 《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》2005,18(1):182-189
This work reports an easy planarization and passivation approach for the integration of III-V semiconductor devices. Vertically etched III-V semiconductor devices typically require sidewall passivation to suppress leakage currents and planarization of the passivation material for metal interconnection and device integration. It is, however, challenging to planarize all devices at once. This technique offers wafer-scale passivation and planarization that is automatically leveled to the device top in the 1-3-/spl mu/m vicinity surrounding each device. In this method, a dielectric hard mask is used to define the device area. An undercut structure is intentionally created below the hard mask, which is retained during the subsequent polymer spinning and anisotropic polymer etch back. The spin-on polymer that fills in the undercut seals the sidewalls for all the devices across the wafer. After the polymer etch back, the dielectric mask is removed leaving the polymer surrounding each device level with its device top to atomic scale flatness. This integration method is robust and is insensitive to spin-on polymer thickness, polymer etch nonuniformity, and device height difference. It prevents the polymer under the hard mask from etch-induced damage and creates a polymer-free device surface for metallization upon removal of the dielectric mask. We applied this integration technique in fabricating an InP-based photonic switch that consists of a mesa photodiode and a quantum-well waveguide modulator using benzocyclobutene (BCB) polymer. We demonstrated functional integrated photonic switches with high process yield of >90%, high breakdown voltage of >25 V, and low ohmic contact resistance of /spl sim/10 /spl Omega/. To the best of our knowledge, such an integration of a surface-normal photodiode and a lumped electroabsorption modulator with the use of BCB is the first to be implemented on a single substrate. 相似文献
50.
Yu Zheng Haiyi Zhang Li Zhao Liujing Wei Xingyuan Ma Dongzhi Wei 《Journal of chemical technology and biotechnology (Oxford, Oxfordshire : 1986)》2008,83(10):1409-1412
BACKGROUND: 2,3‐Butanediol (2,3‐BD) is a valuable chemical that can be biosynthesized from many kinds of substrates. For commercial biological production of 2,3‐BD, it is desirable to use cheap substrate without pretreatment, such as starch. However, there have been few reports on the production of 2,3‐BD directly from starch. RESULTS: In this work, gene malS coding for α‐amylase (EC 3.2.1.1) precursor was inserted into plasmid pUC18K, and secretory over‐expression of α‐amylase was achieved by engineered Klebsiella pneumoniae. The extracellular recombinant amylase accelerated the hydrolyzation of starch, and one‐step production of 2,3‐BD from starch was carried out by engineered K. pneumoniae. A 2,3‐BD concentration of 3.8 g L?1 and yield of 0.19 g 2,3‐BD g?1 starch were obtained after 24 h fermentation. CONCLUSION: The one‐step production of 2,3‐BD from starch was achieved by secretory over‐expression of amylase in K. pneumoniae. This would simplify the process and reduce the production cost considerably by enabling use of starch with minimal pretreatment. Copyright © 2008 Society of Chemical Industry 相似文献