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对电解铝厂实际电解质初晶温度的直接测定进行了研究,模拟出初晶温度与电解质组分以及初晶温度与分子比之间的关系模型,并利用计算机进行处理。通过测定电解质初晶温度及时给出各组分含量、分子比,研制出一种便携式初晶温度、分子比槽前分析仪。该仪器可用于电解铝厂电解质温度及分子比的现场分析。 相似文献
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研制了一种基于虚拟仪器技术的流动注射分析系统。在LabVIEW软件平台上,构建了由研华ADAM-4017数据采集模块、Atme189C51单片机、7.22分光光度计以及微机等组成的硬件平台,并开发了一套完整的控制和分析软件,实现了信号采集、数据显示、流路控制和数据储存等功能。将该系统应用于停流-催化光度法以测定痕量酚,实验结果表明,其线性相关系数为0.9992。该系统不仅易于研究流动注射分析中的各种检测方法和数据分析方法,而且为研发适于现场监测的全自动流动注射分析测试方案提供了良好的平台。 相似文献
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采用阳极溶出伏安法,建立了在pH 5.0的HAc-NaAc缓冲溶液中,NH4Cl溶液为支持电解质和辅助络合剂,使离子溶出峰电位差增大、峰形尖锐并消除锌离子的影响,抗坏血酸为除氧剂消除氧波干扰的检测体系,可不经预分离直接测定锌电解液中镉(Ⅱ)、铜(Ⅱ) 、钴(Ⅱ)三种金属离子。实验结果表明:在该体系中镉(Ⅱ)、铜(Ⅱ)、钴(Ⅱ)的溶出峰电位分别在-0.82、-0.22、+0.02 V;校准曲线的线性范围分别在6×10-7~2.5×10-5, 3×10-7~3×10-5,1.5×10-6~3.0×10-4 mol/L;方法的检出限分别是3×10-8,2×10-7和1×10-8 mol/L。电解液中可能存在的常见离子对测定无影响。方法用于实际样品的测定,其结果与ICP-AES方法的测定结果一致。 相似文献
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任凤莲 《电子工业专用设备》1988,(1)
<正>国标《形状和位置公差》及《公差原则》中规定了确定形状、位置和尺勺公差之间相互关系的三个公差原则,即:独立原则、包容原则和最大实体原则。其中包容原则和最大实体原则同属于相关原则。 相关原则是“图样上给定的形位公差与尺寸公差相互有关的原则”。既然是相互有关,相关原则的应用就必然包含了两方面的含义,一方面是在某种情况下尺寸公差可以补偿给形位公差,另一方面是在特定条件下形位公差可以反补偿给尺寸公差。 尺寸公差对形位公差的补偿关系,在国标《形状和位置公差》中已作了明确的规定和详细的论述,而形位公差对尺寸公差的反 相似文献
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植酸系列产品的研制及其应用 总被引:1,自引:0,他引:1
作为国家科委火炬计划、国务院试产计划之一的植酸及植酸盐系列产品是我所于1984年在国内首次研制成功的,上述产品经国内外一百多个科研单位和生产厂家试用,取得了较大的社会经济效益,先后在金属表面钝化剂、无氰电镀液、金属表面前处理剂、PB阻蚀剂等得到了广泛的应用.本文就植酸系列产品的研制与应用进行讨论,以促进其在金属表面处理领域中得到进一步的应用. 相似文献
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