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随着IC设计逐步进入VDSM阶段,SOC逐步成为设计的主流,IC设计需要关注的问题也在逐步增加。以前设计时,主要关注芯片面积的大小;在80年代后期,延时(Delay)逐渐成为设计人员关注的问题;进入90年代芯片的功率消耗也成为必须考虑的问题;近来制造中的成品率(Yjeld),芯片工作中的可靠性,以及电磁干扰噪声(EMI—Noise)也开始成为设计必需满足的条件了。 相似文献
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1997年11月8日大江截流成功,标志着举肚瞩目的三峡工程顺利转入二期工程施工。三峡二期工程施工是整个>峡工程建设的关键时期,其工程量之大、施工强度之高、技术之复杂均为世界之最。作为三峡工期工程施工的重要辅助设施之一的左岸供水系统,同样面临着高强度、高质量、高技术的要求。因此,研究三峡工期工程施工供水系统、优化供水方案,是确保二期工程施工顺利进行的重要工作之一。l三峡左岸供水系统现状1.1水源及供水能力目前,左岸已建成3座水厂,供水设计能力为】.7万m‘/d,水源及供水能力见表1。表1左岸供水水源及供水能力12系… 相似文献
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在简要回顾混凝土材料与结构常规试验技术的基础上,综述了目前高科技技术在试验上的应用现状,包括光纤传感技术,智能技术及两者结合的技术等,展望了混凝土材料与结构试验技术的发展趋势,认为高科技的引入真挚势必为未来材料试验和结构试验的必然方向。 相似文献
7.
污水处理厂载降水工程在近海抛填块石地基中进行,原采用的粘土截水槽与强排水方案,通过在消化池基坑的实施,因受一天两潮的双向水头作用的影响,难以满足施工要求。经多方论证,最终采用了高喷灌浆构筑截水墙配合降水方案,降水效果良好,达到了预期目的,保证了基坑的顺利开挖。 相似文献
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本文介绍了一种高集成、高性能的多规程通信接口芯片──MC68302,详细说明了其内部硬、软件结构,并据亲身应用所得经验和体会,从多方面介绍利用该芯片设计各种通信电路。 相似文献
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中频反应溅射SiO2膜与直流溅射ITO膜的在线联镀 总被引:2,自引:2,他引:0
多数ITO透明导电玻璃生产线在实现SiO2膜与ITO膜在线联镀时,应用SiO2靶射频溅射沉积SiO2膜工艺和ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺,如果SiO2膜应用硅靶反应磁控溅射工艺,存在这种工艺是否可以与ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺在线联用以及如何实现联用的问题。作者对现有的生产线进行了改造设计、加工,做了大量实验、质谱分析和多项测试研究,成功地实现反应溅射SiO2膜与ITO膜在线联镀,做到SiO2镀膜室的工作状态的变化基本上不影响ITO镀膜室的工艺条件。 相似文献