导电玻璃SiO_2反应溅射的模糊控制

SiO_2磁控反应溅射是根据靶电源电压来调整镀膜室中O_2的含量,由于靶电源反馈信号产生的误差和延时,会使SiO_2成膜率不高和靶表面"中毒"。本文介绍一种使用模糊控制的方法,根据检测SiO_2发光光谱,控制具有高速反应的压电陶瓷阀,进而调节反应溅射中参与反应的O_2含量,从而达到控制SiO_2成膜的效果。这种方法不仅提高了SiO_2的成膜率,而且有效防止了靶表面产生的"中毒"反应。     

基于改进多目标遗传算法的非线性PID控制器参数设计

针对NSGA-Ⅱ算法的不足,对其截断算法进行了改进,使得最终的非支配个体能够更均匀分布在Pareto前沿面上,并运用该方法来优化和构造非线性PID调节器。通过对锅炉过热汽温控制系统的仿真研究表明,该方法获得的非线性控制器可在一定程度上兼顾系统的动态和静态性能,相比固定参数的PID控制器,控制品质有了很大的改善。