ASP．NET中动态实现图片水印

本文讨论在开发ASP．NET网站时,为了不修改网站内的原始图片,利用HttpHandler处理Http请求的机制,动态地为图片添加水印效果的方法。     

噻吩-芴基溴化物型紫外光吸收剂的合成及其光谱性质研究

本研究以2,7-二噻吩芴衍生物为基础,引入Br进行改性,以获得性能优良的UV吸收剂,并通过MS和NMR对产物进行结构表征,并利用UV-Vis和PL对产物的紫外光吸收性能及发光情况进行研究。结果表明,当引入四个溴原子时,C2薄膜的最大UV吸收峰位于290~420nm之间,而荧光相对强度接近于0,是具有应用潜力的紫外光吸收剂。     

一种高输入电压高PSRR的带隙基准电路设计

在高压宽输入范围的芯片中,高压电源一般不直接作为带隙基准电路的电源。传统方案采用齐纳二极管加源随器将高压输入转换为低压电源,为带隙基准供电,然而低压电源波动过大,降低了带隙基准的PSRR。电源由反馈环路产生,可以提供高PSRR性能。文章提出了一种输入电压范围为5～65 V,通过闭环负反馈产生低压电源和1.2 V基准电压的带隙基准电路,适用于宽输入电压芯片,如Buck、电机驱动或模拟ASIC芯片。该带隙基准电路的电源是将自身产生的电流流经PMOS,由PMOS的V_GS确定。因此低压电源不随输入电压变化,线性调整率极低。该电路由预处理电路、启动电路和带隙基准电路组成,采用负反馈稳压设计,不使用齐纳二极管,不引入额外的掩膜层,降低了电路成本。在CSMC 0.25μm BCD工艺下,基准电压线性调整率低至0.000 091%,输入电压在5～65 V范围内基准变化小于1μV,低频PSRR为-160 dB@100 Hz,温度系数为2.8×10^-5/℃。     

新型高强度饱和丁睛胶

日本现正在开发高强度饱和丁睛胶(zsc),估计该胶为用过氧化物交联的饱和丁睛胶(HNBR)—聚甲基丙烯酸锌聚合物合金,与用高耐磨炉黑补强的一般饱和丁睛胶比较、有拉伸强度高、高硬度下的高伸长     

六苯氧基环三磷腈的合成及其在PP中的应用研究

以六氯环三膦腈和苯酚钠为原料制备了六苯氧基环三磷腈（PCPZ）,产物收率高于97％,纯度达99％以上,利用高效液相色谱（HPLC）、傅立叶红外光谱（FT—IR）31P核磁共振（叫PNMR）和‘H核磁共振（’HNMR）表征产物并确定其分子结构。将合成的PCPZ和焦磷酸蜜胺盐（MPP）、三聚氰胺（MA）、助剂（AA）复配成膨胀型阻燃剂（IFR）,并添加到聚丙烯（PP）中制备成阻燃聚丙烯（PP）。利用MINITAB软件的混料设计功能研究了复配IFR对阻燃PP体系的阻燃性能和力学性能的影响。结果表明,阻燃效果较好的IFR配方：PCPZA8．6％、MPP25．0％、MA12．5％和AA13．9％,IFF添加量为30％时,IFR—PP的LOI为33％,通过UL94V-0级测试,拉伸强度为25．98MPa,断裂伸长率为230％,缺1：7冲击强度为4．72kJ／m。。     

适用于谷物干燥的红外辐射陶瓷材料

以Al2O3、SiO2为主体原料,Fe2O3、CuO、Y2O3为辅助原料,经高温烧结合成了适用于谷物干燥的红外辐射陶瓷材料(莫来石及掺杂莫来石)。并测定了其在2.5~15μm波段的红外辐射率在0.845~0.933之间。利用正交实验设计,以红外辐射率为指标进行了配方的优化设计,经过分析得到最佳质量分数的配方方案:主体原料:莫来石子90%(Al2O3与SiO2的摩尔比为3∶2);辅助原料:Fe2O3为2.5%、CuO为5%、Y2O3为2.5%。     

惯性技术计量领域若干问题的思考与展望

惯性技术是研究运载体运动信息(位置、速度、姿态等)的获取与感知技术,是一个国家科学技术水平和国防实力的核心标志之一.在国防和国民经济建设重大需求的牵引下,惯性技术一直备受各国的高度重视,属于基础性、战略性和前沿性的军民两用高新技术.在惯性技术中,陀螺仪是测量运载体角速度的核心仪表,是运载体进行姿态调整/控制、实现自主/...     

印度第二座离心法浓缩铀工厂正在运行

【美国《核子周刊》1992年3月26日刊第9页报道】印度原子能部(DAE)部长P.K.lyengar 在上周一次记者招待会上对《核子周刊》说,印度第二座气体离心法浓缩铀工厂现正在运行。Iyengar 对此声明说,“我们建造该设施是为了进一步发展这项技术”。Iyengar 说,该设施建于印度南部一个稀土材料生产地。但据其他人士说,该厂位于