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81.
本文论述了肼的物理与化学性质,介绍了肼及其衍生物在电镀工业中的应用,重点叙述了肼在镀金、镀锡、抗蚀、退镀、钝化和合金镀、化学镀的应用现状。本文还就肼及其衍生物的选择与使用的问题提出了几点看法。 相似文献
83.
镀银无机添加剂的研究进展 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了身心健康为止镀银工艺中各种无机添加剂,回顾了镀银同添加剂的研究进展,还就无机添加剂的选择和使用问题提出了几点看法。 相似文献
84.
概述近十年来镀钴及其合金光亮剂研究进展,系统介绍了七种类型光亮剂及其镀液的特点、用途、操作条件及有关配方,还就光亮剂的选择与使用的同题提出了几点看法。 相似文献
85.
本文对现代印制电路电镀和蚀刻工艺中所发展的前沿技术,通过总结从七个方面进行介绍和论述:(1)穆斯堡尔谱学对沉积层的应用;(2)光亮剂浓度的监测;(3)化学镀铜液的净化;(4)保护镀层的变更;(5)激光一电气法孔金嘱化;(6)脉冲电镀;(7)有机蚀刻剂的应用。作者认为,对这些新兴技术的研究和探索,将对印制电路的加工产生重大的影响。 相似文献
86.
本论述了硫脲在电镀(镉、锌镍、铁钨)、化学镀(锡铋、镍磷、锡铅、锡银)和磷化、浸蚀、退镀等表面技术中的应用,提出了使用硫脲应该注意的问题,还列出了15篇参考献。 相似文献
87.
印制电路镍层退除方法 总被引:1,自引:0,他引:1
简要介绍印制电路板铜、铁、锌、铝基层的化学与电化学退除镍层的方法,还介绍了美国乐思化学有限公司的退镀方法并归纳了43种配方。 相似文献
88.
89.
本文介绍发迄今为止镀金工艺的各种无机添加剂(主盐、导电盐、光亮剂、增硬剂、缓冲剂、络合剂及其他无机添加剂)着重探讨了添加剂在镀金过程中的作用机理,最后提出了使用添加剂应注意的几个问题,文后附有参考文献共33篇。 相似文献
90.