全文获取类型
收费全文 | 135篇 |
免费 | 9篇 |
国内免费 | 8篇 |
专业分类
电工技术 | 6篇 |
综合类 | 5篇 |
化学工业 | 5篇 |
金属工艺 | 4篇 |
机械仪表 | 7篇 |
建筑科学 | 2篇 |
轻工业 | 15篇 |
水利工程 | 1篇 |
武器工业 | 5篇 |
无线电 | 10篇 |
一般工业技术 | 79篇 |
冶金工业 | 2篇 |
原子能技术 | 2篇 |
自动化技术 | 9篇 |
出版年
2023年 | 5篇 |
2022年 | 6篇 |
2021年 | 6篇 |
2020年 | 1篇 |
2019年 | 4篇 |
2018年 | 14篇 |
2017年 | 4篇 |
2015年 | 4篇 |
2014年 | 4篇 |
2013年 | 7篇 |
2012年 | 5篇 |
2011年 | 7篇 |
2010年 | 3篇 |
2009年 | 2篇 |
2008年 | 3篇 |
2007年 | 3篇 |
2006年 | 1篇 |
2005年 | 8篇 |
2004年 | 5篇 |
2003年 | 3篇 |
2002年 | 8篇 |
2001年 | 7篇 |
2000年 | 5篇 |
1999年 | 14篇 |
1998年 | 3篇 |
1997年 | 2篇 |
1996年 | 4篇 |
1995年 | 2篇 |
1994年 | 2篇 |
1993年 | 1篇 |
1992年 | 3篇 |
1991年 | 2篇 |
1990年 | 2篇 |
1989年 | 2篇 |
排序方式: 共有152条查询结果,搜索用时 15 毫秒
101.
102.
摘 要:对凉水国家级自然保护区林火应急路网分析,进行优化选线,使其达到《全国森林防火规划(2016-2025)》2025年路网密度要求。运用K-means聚类算法选取道路节点,在考虑地形等环境因素下,运用ArcGIS多因素叠加分析选取整体线路,经过实地考察验证线路可行。建立林区应急道路评价体系。最终提高林区道路密度达到3.22 m/hm2,符合国家2025年期望林区道路密度。区域分割指数中的区域面积均值(``s)和区域面积方差(D)分别降低了45.7%和 94.7%。为凉水保护区应急路网开设提供参考。 相似文献
103.
104.
采用氯化焙烧法从蛇纹石尾矿中回收镁和镍,并在物相分析基础上对焙烧过程进行热力学计算。考察了尾矿粒度、氯化铵与尾矿质量比、焙烧时间、焙烧温度对镁和镍浸出率的影响。结果表明,当尾矿粒度为100目、氯化铵与尾矿质量比为1∶1、焙烧时间为60min、焙烧温度为550℃时,镁和镍的浸出率分别为92.37%和85.23%。浸出液经除杂、沉淀得到氢氧化镁和氢氧化镍产品,纯度分别为93.63%和80.22%。经计算,蛇纹石尾矿中镁和镍的总回收率分别为90.32%和81.71%。 相似文献
105.
以碳酸锶为锶源,烟酸为配体合成了一种新的配合物Sr(C6H4NO2)2.3H2O。通过化学分析、元素分析、红外、热重和X-射线粉末衍射等手段对其组成、结构、性能进行了表征。结果表明烟酸以双齿桥式与Sr(Ⅱ)结合形成配合物;热分析结果显示该配合物的热分解过程包括失水、配体的氧化,最后完全分解为氧化物;分析测试结果表明该物质属于单斜晶系,晶胞参数为:a=16.282 5,b=13.345 4,c=35.285 7,β=111.682 7。 相似文献
106.
107.
以二苯基甲烷二异氰酸酯(MDI)、聚ε-己内酯多元醇(PCL)及1,4-丁二醇(1,4-BDO)为原料,成功设计合成了聚酯型热塑性聚氨酯弹性体(TPU)。合成条件:异氰酸酯指数R=0.98,温度60~70℃,反应时间1 h。通过元素分析、红外光谱、核磁共振、差示扫描量热分析、凝胶色谱等测试,确定了TPU中的硬段含量及化学结构。通过与聚氯乙烯(PVC)进行共混,评价了合成TPU对PVC的增韧效果,经力学性能测试、差示扫描量热分析以及扫描电子显微镜观察研究了共混材料的结构与性能,揭示增韧机理。结果表明,合成TPU与PVC之间具有良好的相容性,对PVC有良好的增韧作用,当m(PVC)∶m(TPU)=170∶30时,力学性能优于市售TPU牌号。合成的TPU随硬段比例增加,PVC/TPU共混物材料拉伸强度变化不大,断裂伸长率下降,而冲击强度大幅提高,实现了对PVC的增韧。 相似文献
108.
109.
超大数值孔径(NA)光刻成像中,掩模保护膜上的入射光线入射角范围增大,用传统方法优化掩模保护膜难以增大斜入射光的透射率。基于薄膜光学原理提出一种新的掩模保护膜优化方法,确保光线在整个入射角范围内的平均透射率最大。利用琼斯矩阵方法探讨膜层的透射属性和相位特征,得到相应的琼斯光瞳来分析膜层带来的偏振像差。结果表明,对比传统的掩模保护膜优化方法,新方法能有效提高斜入射光线的透射率,减小膜层引起的偏振像差。新的掩模保护膜优化方法能为超大NA光刻成像的掩模保护膜设置提供必要的理论基础和技术支撑。 相似文献
110.