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为适应基于RFID(无线射频识别)位置跟踪过程中传感数据的连续变化和需要实时处理的特征,本文提出一种度量RFID数据不确定性的自适应进化粒子滤波算法,根据K-L距离改变重采样粒子个数,并引入粒子群寻优方法PSO改变传统粒子滤波(SIRPF)的重采样效率,采用常规赋权聚集(CWA)定义适应度函数,以均衡先验密度与似然密度的重要性,在采样粒子空间探寻最优粒子,为概率数据库上的初始元组提供可靠的置信度度量.实验证明,与已有的算法相比,AMUR算法能够有效地度量RFID数据中蕴含的不确定性,可进一步改善粒子退化现象和粒子贫化问题. 相似文献
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麦健业褚庆昕舒佩文彭少敏胡盛开 《微波学报》2021,37(2):6-12
为满足5G基站射频前端的要求,提出了一种新型双模介质波导滤波器.在表面镀银的介质填充波导腔里设置两个盲孔和一个耦合槽,可有效控制一对TE201奇偶模.应用上述结构,设计了一个单腔双模滤波器、一个三腔四阶滤波器和一个六腔七阶滤波器.仿真和测试结果表明,在同样阶数下,引入一个双模谐振器能够有效减小滤波器体积:二阶滤波器体积... 相似文献
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基于局部基底弯曲法的高灵敏度薄膜应力测试技术 总被引:4,自引:0,他引:4
针对MEMS(micro-electro-mechanical system)和NEMS(nano-electro-mechanical system)对薄膜应力测试的要求,开发了一种新型高灵敏度薄膜应力测试技术,使用自行搭建的准纳米光学干涉测试系统,利用局部基底弯曲来检测薄膜的内应力.该方法不仅保留了传统基底弯曲法的所有优点,而且消除了其系统误差.使用ANSYS对测试结构进行了模拟和优化,对于30nm厚的薄膜,应力检测的分辨率为1.5MPa,优于目前国际上的相关报道.本测试结构使用各向异性腐蚀和DRIE(deep reactive ion etching)完成,加工工艺简单实用.文中使用该测试技术对常用MEMS薄膜的残余应力进行了测量,结果与其他测试方法得到的结果基本一致,测量重复性优于1%.该技术可以用于测试纳米级薄膜及超低应力薄膜的内应力. 相似文献
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研究了单束双能高剂量Ge离子注入、不经过退火在非晶态SiO2薄膜中直接形成镶嵌结构Ge纳米晶的物理机制.实验中利用不加磁分析器的离子注入机,采用Ge弧光放电离化自动形成的Ge+和Ge2+双电荷离子并存的单束双能离子注入方法,制备了1e16~1e18cm-2多种剂量Ge离子注入的Si基SiO2薄膜样品.用GIXRD表征了Ge纳米晶的存在,并仔细分析得到了纳米晶形成的阈值剂量.通过TEM分析了Ge纳米晶的深度分布和晶粒尺寸.用SRIM程序分别计算了双能离子在SiO2非晶层的射程和深度分布,与实验结合,得到纳米晶形成的物理机制,即纳米晶的形成与单束双能离子注入时Ge+和Ge2+相互碰撞产生的能量沉积在SiO2中形成的局域高温有关. 相似文献
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介绍了作为光交叉连接设备(OXC)的三雏微电子机械系统(MEMS)总体结构以及微反射镜角度偏转的物理原理,然后着重讨论了基于三维MEMS的物理结构参数设计和驱动电压参数设计。 相似文献
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本文研究核电站稳压器抗震分析模型的建立方法。针对某堆型的稳压器,分析内部冷却剂的液面晃动效应及处理方法;对比分析节点个数、筒体壁厚、集中质量等因素对简化模型固有频率的影响,确定了稳压器抗震分析模型的简化原则。针对最终模型进行模态分析,并对计算结果进行评价。 相似文献
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随着IC设计逐步进入VDSM阶段,SOC逐步成为设计的主流,IC设计需要关注的问题也在逐步增加。以前设计时,主要关注芯片面积的大小;在80年代后期,延时(Delay)逐渐成为设计人员关注的问题;进入90年代芯片的功率消耗也成为必须考虑的问题;近来制造中的成品率(Yjeld),芯片工作中的可靠性,以及电磁干扰噪声(EMI—Noise)也开始成为设计必需满足的条件了。 相似文献