2023年中国电池市场分析

介绍2023年我国电池的产量及进出口量：电池总产量约609.66亿只,其中锂离子电池约960 GW·h,铅蓄电池约270 GW·h,碱性锌锰电池约147亿只,普通锌锰电池约166亿只,太阳能电池约541.16 GW,燃料电池为5 668堆;电池出口总量333.35亿只,进口总量23.04亿只。讨论我国电池市场发展趋势。     

一种InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管模拟的新方法

采用一种新方法对InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管进行了模拟.该方法通过流体力学模型和密度梯度模型的联合求解,得到了沟道内的电子密度分布.与一些传统方法相比,该方法收敛性更好,速度更快,且同样适用于其他类型高电子迁移率晶体管器件的模拟.利用仿真对InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管进行了深入研究.     

在变碱度条件下低硅烧结矿显微结构及矿物组成对其冶金性能的影响

随着选矿技术的进步，铁精粉品位逐年升高，SiO2含量则随之减少，致使烧结矿中的硅酸盐粘结相数量愈来愈少，烧结矿质量明显变差。因此，必须探索改善烧结矿质量的新途径。本文从烧结矿的显微结构及矿物组成出发，揭示了碱度对低硅烧结矿冶金性能影响的机理，从而在生产中能有效地控制利于低硅烧结矿冶金性能改善的矿物的生成，必将促进低硅烧结技术的发展。     

用于公共无线接入的无线局域网

随着数据业务的不断增长，人们对无线数据业务的要求越来越高。从市场和技术的角度看，速率高、部暑方便且价格低廉的无线局域网(WLAN)公共无线数据接入服务正当其时。首先介绍了用WLAN提供公共无线接入可采用的三种运营模式。讨论了安全性、鉴权与计费、移动性、网络管理、服务质量等提供公共WLAN服务需要进一步考虑的技术问题，分析了移动运营商的实现方法，最后以诺基亚公司的OWLAN技术方案为例分析了网络的结构和组成。     

一种使用开路并联线的改进型螺旋微带谐振单元

提出了一种改进型螺旋微带谐振单元(SCMRC)的结构.该改进型螺旋微带谐振单元具有微带并联开路线,在低频通带内通过设计达到50Ω的端口阻抗.同时,并联的微带开路线在SCMRC结构的禁带中谐振,来实现更强的慢波效应和更宽的禁带.实际设计、制作和测试了该改进型螺旋微带谐振单元,该滤波器在低频通带内具有低插入损耗、改善的回波损耗,以及在较小面积下的宽禁带.     

开关电容梳状滤波器幅频特性的深入分析

分别从时域和频域对一种开关电容滤波器的特性进行了全面深入分析,首次给出了解析形式频谱函数和相应频率特性曲线,结果表明,电路特性依赖于参数τ=RC与开关切换时间T的比值α=τ/T。当电子开关的切换时间T相对较短(即α较大)时,该电路是一个梳齿幅度衰减型梳状滤波器,通带中心频率等于开关频率的奇数倍,开关频率的偶数倍则为其阻带频率。随着开关频率降低(T增,α减),电路过渡为幅频特性有起伏的低通滤波器。分析结论与实验结果很好地吻合。     

1～12GHz单通道单脉冲跟踪天线

介绍了以六单元圆形阵列天线作为照射器的超宽频带双圆极化单脉冲抛物面天线的工作机理,并给出了通过数字移相器和耦合器将宽频带的和差两个通道变成单通道的途径.成功研制了一套超宽频带单通道单脉冲天线系统,天线系统由大、小两个抛物面天线组成,小天线置于大天线的边缘.进行了试验研究,给出了和差方向图的测试结果.该天线系统具有同时左右旋圆极化、十二倍频程自跟踪、单通道、馈源体积小等特点.     

雾对水面舰船目标的偏振特性的影响研究

在米氏散射理论的基础上,通过仿真试验分析了不同浓度的雾对水面舰船目标偏振特性的影响,并利用6SV模型对其进行了数值模拟,得到了雾对目标偏振特性的影响数据。随着雾的浓度的不断增加,退偏现象趋于明显。然后对产生退偏现象的原因进行了分析。该试验结果对于偏振探测技术在雾天环境下的应用具有一定的参考价值。     

一种电流失配自适应补偿宽带锁相环设计

针对宽带自偏置锁相环(PLL)中存在严重的电荷泵电流失配问题,提出了一种电流失配自适应补偿自偏置锁相环。锁相环通过放大并提取参考时钟与反馈时钟的锁定相位误差脉冲,利用误差脉冲作为误差判决电路的控制时钟,通过逐次逼近方法自适应控制补偿电流的大小,逐渐减小鉴相误差,从而减小了锁相环输出时钟信号抖动。锁相环基于40 nm CMOS工艺进行设计,后仿真结果表明,当输出时钟频率为5 GHz时,电荷泵输出噪声从-115.7 dBc/Hz@1 MHz降低至-117.7 dBc/Hz@1 MHz,均方根抖动从4.6 ps降低至1.6 ps,峰峰值抖动从10.3 ps降低至4.7 ps。锁相环输出时钟频率为2～5 GHz时,补偿电路具有良好的补偿效果。     

基于化学机械动力学的碱性铜抛光液平坦化机理研究

The planarization mechanism of alkaline copper slurry is studied in the chemical mechanical polishing (CMP) process from the perspective of chemical mechanical kinetics.Different from the international dominant acidic copper slurry,the copper slurry used in this research adopted the way of alkaline technology based on complexation. According to the passivation property of copper in alkaline conditions,the protection of copper film at the concave position on a copper pattern wafer surface can be achieved without the corrosion inhibitors such as benzotriazole(BTA),by which the problems caused by BTA can be avoided.Through the experiments and theories research,the chemical mechanical kinetics theory of copper removal in alkaline CMP conditions was proposed. Based on the chemical mechanical kinetics theory,the planarization mechanism of alkaline copper slurry was established. In alkaline CMP conditions,the complexation reaction between chelating agent and copper ions needs to break through the reaction barrier.The kinetic energy at the concave position should be lower than the complexation reaction barrier,which is the key to achieve planarization.