BMIC-AlCl3离子液体的电化学性能

研究了酸性BMIC-xAlCl3(氯化-1-丁基-3-甲基咪唑-AlCl3)离子液体的电化学性能。结果表明,x(AlCl3)(AlCl3的摩尔分数)对离子液体的电化学性能有着较大的影响。当0.50.667时,随着x(AlCl3)进一步增大,电导率开始下降,阴极电流密度减小,阴极电流效率减小。沉积层随着x(AlCl3)的增大变得平整致密。此外,红外光谱研究发现,随着x(AlCl3)的增大,AlCl4-的吸收峰逐渐减弱,Al2Cl-7的吸收峰增强,但当x(AlCl3)>0.667时,Al2Cl-7的吸收峰又稍有减弱。     

3W-3Co系新型铁素体叶片钢620℃持久性能研究

采用扫描电镜、能谱仪、透射电镜研究了3W-3Co系新型铁素体叶片钢蠕变断裂行为及组织演变对持久性能的影响。结果表明,试样在620℃不同应力下应力-寿命曲线符合lgσ=2.64941-0.05472lgτ方程;在高应力短时蠕变条件下,试样以穿晶断裂为主,在冶炼过程中形成的ZrO2和一次NbC是主要的裂纹源;在620℃高温蠕变初期,试验钢总体上保持着较高的持久强度。     

ChCl-urea-ZnO-Cu_2O低共熔溶剂电镀铜锌合金

以ChCl-urea-ZnO-Cu_2O低共熔溶剂为电解质在343 K镍基体上电沉积制备得到了铜锌合金镀层。伏安曲线测试表明在沉积过程中,镍基体能够诱导金属Zn发生欠电位沉积,从而实现了Cu-Zn合金的共沉积。同时研究了沉积电势对镀层成分和形貌的影响,结果表明:沉积电势由-0.85 V (vs Ag)增加到-1.3 V(vs Ag)时,合金镀层中Zn原子百分数从0升高到76.29%。在沉积电势为-1.10~-1.15V范围内,Zn原子百分数为12.5%~20.81%时,镀层平整致密,颜色为金色,达到仿金镀的效果。     

La0.67Ca0.33MnO3超巨磁阻多晶材料的制备及性质

介绍了用不同沉淀剂的共沉淀法来制备La0．67Ca0．33Mn03超巨磁阻多晶材料。通过XRD检测及R—T曲线测量研究了样品的结构性能及电输运性质。共沉淀法制备的样品基本上是单相均匀的四方结构。样品的半导体-金属转变点Tp达270K。     

离子液体在电沉积钛及其合金中的应用

离子液体作为一类新型绿色溶剂在电沉积活泼金属及合金方面具有重要作用,本文介绍离子液体在电沉积钛及钛合金方面的应用,探讨了钛及钛合金在离子液体中电解的电化学行为。用钛的卤化物为钛源,由于低价的钛氯化物在离子液体中的溶解度较低,在现有的离子液体中电沉积金属钛非常困难,需要继续寻找新的钛源及合适的离子液体。以二氧化钛为钛源,在离子液体中可以电积出部分金属钛。在离子液体中可以沉积出钛合金,但总的电流效率偏低。     

TEBAC-GL类离子液体中镍和镁电沉积行为的研究

研究了TEBAC-GL(1∶3)离子液体中Mg(Ⅱ)和Ni(Ⅱ)离子在玻碳电极上的电化学行为。结果表明,Ni(Ⅱ)离子在离子液体中的还原受扩散控制,其扩散系数为7.864×10-8cm~2/s。Mg(Ⅱ)离子不能单独在离子液体还原,但在Ni(Ⅱ)离子的诱导下可以发生共沉积。通过控制槽电压电沉积,在铜基体上成功地共沉积出Ni-Mg合金。随着槽电压的逐渐增加,沉积物中的镁含量先增加后减小。在槽电压为2.3V,镁含量最高,达到12.13%。     

高硅高钙低硫型低品位硫氧混合锌矿的矿相重构—氨浸研究

根据硫氧混合锌矿含钙、硅高的特点,充分利用矿石所含CaCO_3和CaO的固硫作用,在较低温度下氧化焙烧,使矿石中的异极矿和闪锌矿转化为易于溶出的ZnO,硫转化成CaSO_4。结果表明,最佳焙烧温度为300℃,所得焙砂在氨—硫酸铵溶液中的锌浸出率可达75%,而矿石直接浸出时锌的浸出率只有52%。通过氧化焙烧过程产生矿相重构,既提高了锌的浸出率,又避免了SO_2的逸出,还能彻底消除硅胶的生成。     

季铵盐添加剂对锌电沉积的影响

采用循环伏安曲线、阴极极化曲线、XRD和SEM研究了氯化胆碱(ChCl)、甜菜碱盐酸盐(BH)两种添加剂对ZnSO4-(NH4)2SO4体系中锌电沉积行为以及锌镀层结构和形貌的影响。结果表明,ChCl添加剂使沉积电位正移,镀层由大而厚的锌片组成,呈(100)和(101)择优取向;而加入BH使沉积电位负移,镀层由薄锌片层层堆积而成,呈(101)择优取向。     

BMIC-ZnCl2离子液体中电沉积铜-锌合金

在含有CuCl的BMIC-ZnCl2(物质的量比为1∶2)离子液体中,采用恒电位法于低碳钢基体上进行了Cu-Zn合金电沉积实验.研究了CuCl的浓度、沉积电位、温度对Cu-Zn合金成分、形貌及电流效率的影响,并采用带X射线能量散射谱(EDS)的扫描电子显微镜(SEM)及X射线衍射仪对所得Cu-Zn合金沉积层的成分、表面形貌及物相进行分析.结果发现当电解液中CuCl的浓度为0.2mol/L时,阴极沉积电位在-0.1V附近,温度为70℃时,可得到质量较好的Cu-Zn合金仿金镀层.     

熔盐电解法制备硅纳米线及其生长过程研究

结合熔盐电解法制备了数微米长、200nm左右宽的纳米级硅线。采用预烧结的多孔SiO2粉末为阴极、等摩尔比的CaCl2-NaCl混合熔盐为电解质、石墨棒为阳极,在700℃、1.8V槽电压下通电5h后获得产物单质Si。研究了单质Si在电化学形核及后续生长过程中的微观结构及形貌演变规律,发现在晶体Si电化学形核后逐渐堆积形成\"珠串\"状结构,构成了硅线的雏形,在高温作用下,该结构继续生长最终形成纳米级硅线结构。