基于界面追踪法的KHI直接数值模拟

利用界面追踪法对三组分不混溶流体的开尔文-亥姆霍兹不稳定性(Kelvin-Helmholtz instability， KHI)进行直接数值模拟。并针对中间流体层密度及黏度、重力、表面张力及剪切力对KHI的影响进行了着重探讨。研究结果表明，理查德森数增大不仅能够抑制界面的演化，同时还会限制界面的退化。除此之外，卷起高度和KHI的增长速率与弗劳德数之间呈正相关关系。表面张力能够抑制KHI向内发展，随着表面张力系数的增大，KHI向内的发展会逐渐变慢。但当波数较小时，表面张力对KHI向上发展的影响很小，且当界面的波数大于4时不会触发KHI的典型形式。剪切力越大，界面卷起高度和增长速率越大。     

新型硼烷偶联剂B-69在商用车轮胎低滚动阻力胎面胶中的应用研究

研究新型硼烷偶联剂B-69在商用车轮胎低滚动阻力胎面胶中的应用。结果表明：与硅烷偶联剂TESPT胶料相比，用硼烷偶联剂B-69替代50%硅烷偶联剂TESPT且配方微调后的胶料加工性能和物理性能改善，抗切割性能、耐磨性能、耐热老化性能和耐臭氧老化性能提高，生热和滚动阻力降低；成品轮胎耐久性能满足国家标准要求，滚动阻力更低，且生产成本降低。