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71.
氧化焰白釉技术已经非常成熟,但对于还原焰来说,单纯通过提高釉中锆的含量,也不一定实现白釉可以完全遮盖住坯体,并呈现较高的白度。所以,研究是否可以通过改变乳浊剂的颗粒粒径来实现白釉的还原焰烧成。乳白釉配方的釉用乳浊剂种类较多,有氧化锡、氧化锌、锆英砂、氧化锆等等。鉴于氧化锆受气氛影响较小,乳浊效果较好,是较稳定的乳浊剂。本次试验选择氧化锆和硅酸锆作为乳浊剂。硅酸锆的粒度不同,可以对釉配方性能产生较大的影响。  相似文献   
72.
采用传统固相反应法制备了K0.49NaxNbO2(x=0.51~0.54)系无铅压电陶瓷,系统研究了Na过量对K0.49NaxNbO3陶瓷结构与压电、铁电性能的影响.研究结果表明:在研究的Na过量范围内,陶瓷样品具有单一的正交钙钛矿型晶体结构,但在x=0.52~0.53处晶格常数出现不连续的变化过程,表明该体系存在由两个不同正交晶相构成的准同型相界(MPB),在MPB区域边界x=0.52处陶瓷具有优异的性能:西d33=142 Pc/N,Qm=146,εr=462,tanδ=0.026,kp=0.39.  相似文献   
73.
以Na2CO3,K2CO3,Nb2O5等为原料,采用固相法合成了K0.5Na0.5NbO3的粉体,并以此粉体为主要原料,添加适量的分散剂、粘结剂及除泡剂制备浆料,采用流延法制备K0.5Na0.5NbO3膜片,研究了K0.5Na0.5NbO3固相含量、分散剂、粘结剂及除泡剂的种类及含量对流延浆料流延性能和对K0.5Na0.5NbO3陶瓷的影响。实验结果表明:流延膜的厚度在0.3mm时,选用三乙醇胺作分散剂效果最好,当固相含量在55wt%时,分散剂用量在2%时浆料的粘度为2000mPa.s,适合于流延工艺;粘结剂PVB的含量在8%时膜片强度较高。  相似文献   
74.
研究以氧化锂-氧化硼-二氧化硅-氧化钙-氧化铝(Li2O-B2O3-SiO2-CaO-Al2O3,LBSCA)低熔点玻璃料为烧结助剂降低钙和锶复合掺杂钛酸锂钐[(Ca0.937 5Sr0.062 5)0.25(Li0.5Sm0.5)0.75TiO3,CSLST]微波介质陶瓷的烧成温度,探讨不同LBSCA掺量对CSLST...  相似文献   
75.
以Ca0.2(Li1/2Sm1/2)0.8TiO3(CLST-0.8)为基料,添加质量分数10%的CaO-B2O3-SiO2(CBS)复合氧化物、4%的Li2O-B2O3-SiO2-CaO-Al2O3(LBSCA)玻璃料和0~2%的CuO氧化物为复合烧结助剂,研究了CuO含量的变化对CLST-0.8陶瓷的低温烧结行为及微波介电性能的影响.随着CuO添加量的增加,陶瓷体积密度、介电常数εr、无载品质因数与谐振频率乘积Qf值,都呈先增加后降低,谐振频率温度系数τf则呈先降低后升高的趋势.添加10%CBS、4.0%LBSCA和1.0%CuO的CLST-0.8微波介质陶瓷,可在900℃下保温5h烧结,并具有较佳的微波介电性能:εr=58.36,Qf=2011GHz, τf=3.44 ppm/℃.  相似文献   
76.
高介电常数微波介质材料是实现现代微波通信器件要求的微型化、集成化发展趋势的重要材料,针对多层结构设计的器件要求,需要微波介质陶瓷能与高电导率电极实现低温共烧。本文综述了近年来高介电常数微波介质陶瓷及其低温烧结研究的最新进展,指出进一步提高陶瓷的介电常数和研究新型低温烧结助剂是今后发展的趋势。  相似文献   
77.
实施信息化,企业如何投入资金?怎样避免投入过大或过少?如何规避风险?如何看待投入与信息化所带来的收益的对比关系?赖小涛:从投入的角度看,企业该不该投入资金,要根据企业发展的需要是否符合信息化发展的规划来判断。我认为信息化的投入大致分为三个方面,一个是用来上一些新的系统,第二个是对原来的软件系统进行升级,另外一部分资金用来对员工的培训。在投入过程中,通常采取先界定初步的投资结构,然后根据投入与产出的具体情况,来确定每个项目该投多少,同时,通过技术评估对投资结构进行调整。如何避免企业投入过大或过少,我认为企业在决定…  相似文献   
78.
利用废玻璃研制泡沫玻璃   总被引:12,自引:0,他引:12  
利用回收的废玻璃为泡沫玻璃为主要原料,添加少量的发泡剂和一些其它化工原料,采用低温(760~810℃)发泡工艺,探讨了配合料的配方组成和不同的发泡工艺制度对泡沫玻璃性能的影响。通过比较,得出了合理的泡沫玻璃的配方及发泡工艺制度;试制出的泡沫玻璃具有容重低、抗压强度,烧成周期短,易于控制的特点。  相似文献   
79.
研究在脉冲强磁场处理条件下磁感应强度(B=2T、3T和4T)对TC4钛合金材料显微组织和力学性能的影响。结果表明:随着B值从2T增加到4T,α相体积分数从49%增加到59%,表明磁场诱发了从β到α的相变。经过磁场处理后,位错密度增加,当B=3T时,位错密度达到最大值,较未处理试样增加了4.8倍;当B=4T时,位错密度有所减小,这是由于磁致塑性效应和位错堆积效应共同作用的结果。经过磁场处理后,合金的强度提高了,当B=3T时,合金强度最高达到1330 MPa,较未处理试样的1236 MPa提高7.6%;当B=4T时,合金强度为1265 MPa,增幅2.3%,合金伸长率为15.66%,较处理前样品的伸长率提高4.8%,实现材料强度和塑性的同步提高,这与位错强化机制和α相的数量、分布和形貌有关。  相似文献   
80.
研究综述了气味指纹图谱技术的概念、特点、构建指纹图谱的主要步骤,以及气味指纹图谱技术在肉类产品溯源与品种鉴定、工艺控制、贮藏期、质量控制领域的应用,并对气味指纹图谱技术在肉类产品应用中的研究方向和发展前景进行了展望。  相似文献   
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