工业脱硝技术应用现状及展望

选择性催化还原法(SCR)、选择性非催化还原法(SNCR)、碱液吸收法、酸吸收法、O_3氧化吸收法以及等离子体活化法是目前工业脱硝技术中的主要技术。详细论述了上述脱硝技术的原理、工艺流程及发展前景,分析对比了上述工业脱硝技术的脱硝率、优缺点及应用现状,预测判断了中国工业脱硝技术的未来发展方向。     

杨木APMP制浆废液化学成分的分析

对杨木APMP制浆废液的组分进行了定性和定量分析.结果表明,杨木APMP制浆废液的固含量为12.3％,废液的主要成分为半纤维素、木素、抽出物和无机物,其相对含量分别为54％、17％、14％和15％.杨木APMP制浆废液甲基叔丁基醚(MTBE)抽出物的气相液相质谱仪(GSMS)分析结果显示,抽出物中含有25种物质,其中小分子羟基酸和木素降解产物的含量分别为12％和50％.脂肪酸和甾醇是杨木APMP制浆废液亲脂性抽出物的主要成分,含量分别为29％和9％.     

APMP废液与聚丙烯酰胺的复配及其应用

对APMP废液的主要组分进行了定性和定量分析,并将APMP废液与不同类型PAM（高分子质量PAM、低分子质量PAM、两性交联型PAM）和Al₂(SO4)₃按照一定比例复配,以替代部分淀粉用于瓦楞原纸表面施胶。同时,探讨了不同类型PAM及其用量对瓦楞原纸性能的影响。研究结果表明,加入相对分子质量为1000万的阳离子聚丙烯酰胺的表面施胶剂对瓦楞纸强度性能的提高最显著,且Cobb 30值最低。     

聚芴醚酮超疏水喷涂纸及其性能

以聚二甲基硅氧烷(PDMS)和纳米SiO2掺杂聚芴醚酮(PFEK),采用溶液喷涂法在纸张表面构筑了耐用的超疏水涂层.考察了PDMS和SiO2用量(以PFEK和N-甲基吡咯烷酮的质量为基准,下同)对纸张水接触角的影响.结果表明,当PDMS和SiO2用量均为2％时,纸张表面的水接触角达到最大值170?,滚动角最小值为1?,聚合物将SiO2固定在纸张纤维上,使其表面呈现微纳米粗糙结构.超疏水性源于这种疏水粗糙表面下积蓄的空气对液滴浸润的抑制.制得的PFEK/PDMS/SiO2喷涂纸经过40个摩擦周期或12次对折测试后,其水接触角仍达到150°以上,能够维持超疏水性能,并具有较好的机械稳定性.拉伸测试表明,涂层将普通纸张的拉伸强度从10.1 MPa增强到37.8 MPa,在水中浸泡15 min后,该喷涂纸的拉伸强度为25 MPa,仍具有较好的力学性能.另外,PFEK/PDMS/SiO2喷涂纸能够抵抗黏稠泥土的污染,表现良好的自清洁性能.     

地学信息系统在开采沉陷专题研究中的应用与三维开采沉陷信息系统设计

讨论了地学信息系统在地学领域的应用目的与应用方式。从专题研究为应用目的的角度出发,就地学信息系统在地学领域的两种应用方式,分析了其在开采沉陷中的应用潜力,并指出了建立三维开采沉陷信息系统的必要性和可行性。最后讨论了建立三维开采沉陷信息系统所遇到的问题及相应的解决方法。     

进一步提高湖南省立窑水泥厂工艺技术水平

介绍了湖南省立窑水泥厂的生产现状，提出了进一步提高立窑水泥厂工艺技术水平的措施。     

岩层水平移动与下沉的关系

岩层下沉和水平移动的关系自６０年代至今一直没有解决。作者在用力学预计岩层下沉和水平移动的生产问题中，发现了这个难题的可解性。用实测下沉预计水平移动，其结果与实测水平移动很接近。     

高唐县两项水利规划通过专家鉴定

平邑县资邱乡党委、政府立足山区实际因地制宜大力发展节水型农业，极大地改善了农业的生产条件，走出了一条节水灌溉之路，被山东省人民政府列为节水灌溉示范基地。     

高唐县两项水利规划通过专家鉴定

2000年1月16日由山东省高唐县水利局承担完成的《高唐县节水灌溉“十五”计划及2015年发展规划》及《高唐县城区供水“十五”计划及2015年发展规划》通过了专家鉴定。来自清华大学、北京师范大学、山东工业大学的教授组成的鉴定委员会一致认为两项研究成果总体水平在     

自由电子激光器用极紫外波段平面变栅距光栅

针对极紫外波段自由电子激光器(大连相干光源,DCLS)对高分辨能力平面变栅距光栅的需求,基于光程差以及像差原理构建了极紫外平面变栅距全息光栅。采用改进的局部优化算法给出了平面变栅距光栅的记录参数,利用全息曝光技术在硅光栅基底上制作了中心刻线密度为600gr/mm、占宽比为0.46、槽深为550nm、有效刻划面积为30mm×30mm的极紫外平面变栅距全息光栅。采用Littrow衍射法测量了平面变栅距光栅的刻线密度,并基于像差理论分析了平面变栅距光栅的理论分辨能力。结果表明:制作的600gr/mm平面变栅距光栅在有效面积内的刻线密度误差小于0.175gr/mm,在极紫外波段(50~150nm)的分辨能力大于12 000,满足自由电子激光器的设计要求。提出的设计及制作方法为制作高质量平面变栅距光栅提供了理论及技术保障。