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Si基体上双层Ti-O薄膜的XPS和AES分析研究 总被引:2,自引:0,他引:2
采用沉积-离子轰击-沉积工艺制备了双层Ti-O薄膜,并利用XPS和AES对膜层进行了深度分析.结果发现:在氩离子轰击后的薄膜上再沉积同质薄膜,在膜表层一定厚度内可得到具有化学配比的TiO2薄膜;氩离子的轰击使钛及碳氧化物内迁入Si基体,而Si外迁到膜内,并造成多价形式的Ti氧化物共存,TiO2在这些Ti氧化物中所占的比例随沉积膜深度呈现先逐渐减少而后又逐渐增大的分布规律;此外,氩离子的轰击使得薄膜与基体在界面处形成较宽的、复杂的混合层.混合层主要由TiO2、Ti2O3、TiO、未氧化完全的SiO2-x及纯Si组成。 相似文献
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真空还原制备的VO2热致相变薄膜Raman光谱和红外光谱研究 总被引:2,自引:0,他引:2
报道了利用真空还原制备的VO2薄膜的红外透射光谱和Raman光谱,并进行370-900nm波段的光透射测试以及900nm波长的热滞回线特性测试,表明所制备VO2薄膜具有优良的热致相变光学特性,结晶状态不同的薄膜其Raman谱位置有明显改变,室温时的红外光谱表现出较好的红外振动特性。讨论了薄膜结晶状态对Raman位移的影响以及VO2薄膜的红外光谱。 相似文献