在蓝宝石衬底两个相反c面同时生长氮化镓薄膜的差异

运用金属有机气相外延设备,在蓝宝石衬底两个相反取向的c面上同时生长六方相氮化镓薄膜．对此进行了扫描电子显微镜、俄歇电子能谱、透射电子显微镜的分析和研究．发现这两个薄膜有许多不同之处．     

EXELFS的测定和分析初探

在电子能量损失谱中电离损失峰高能损失一侧的几百电子伏特范围内,有很弱的振荡信号,被称之为广延精细结构,英文缩写为EXELFS。我们可以从EXELFS获得中心原子的性质及其配位原子的配位距离(即径向分布函数)和原子性质等结构信息。EXELFS的产生原理和分析方法都和EXAFS(X-射线吸收限广延精细结构)有很大相似之处,同时又有许多自己的独到之处。EXELFS适于对非晶态等短程序材料进行结构分析,可以结合电镜上获得的其他信息对材料进行综合分析。近几年来,国外在EXELFS这个领域内开展了不少工作。作者对M.DISKO的EXELFS付立叶分析计算机程序进行了修改和调整;增加了ELS本底扣除,门槛值E_o的确定等程序段,删掉了径向分布函数的低频滤波的程序段;另外,更正了原程序中的几处错误。修改后的付立叶分析程序包括以下几个步骤:     

分子束外延中硅衬底热应力产生缺陷的研究

本文报道了由表面形貌观测、X射线双晶衍射、喇曼光谱、透射电镜及深能级解态谱对硅分子束外延中硅衬底在热处理过程中由于热应力、重力等影响导致缺陷产生的研究.由于衬底温度梯度导致样品表面存在位错滑移线,在衬底与外延层界面有着高密度的位错网络,在高的温度梯度区有晶粒间界及多晶存在,并伴有扭曲和不平整,在样品中央部份生长状态较好的锗硅合金层超晶格有部份应变会弛豫而转化为失配位错,这严重影响锗硅超晶格的质量.采用新结构的石英样品座改善了样品温度均匀性,并消除外加应力的影响,己可生长出高质量的锗硅超晶格.     

非晶态超晶格的XTEM研究

非晶态半导体超晶格一种新发展的材料。它一般由两种极薄的薄膜交替迭合而成,单个薄层的厚度从十几埃到数百埃。薄层的厚度、厚度的均匀性、界面的平整性等是对这种材料特性有重要影响的重要参数。XTEM—横断面TEM技术是测定这些参数的唯一方法。本文利用XTEM技术研究了数种不同的超晶格样品,如:aSi-aC,     

Ge＿xSi＿（1－x）／Si应变层超晶格的横截面电镜样品中的弹性驰豫

迭加有样品阴影像的大角度会聚束电子衍射花样可以用来研究样品中局部应变。在本文中作者利用大角度会聚柬电子衍射技术测量并模拟计算了ＧｅＳｉ／Ｓｉ应变层超品格的横截面电镜样品中的弹性驰豫和样品厚度的关系。     

嵌入式网关中CAN接口的设计与实现

介绍了基于AT91 RM9200的嵌入式网关,该网关实现了工业以太网和CAN总线的数据交互.提出了基于SPI总线扩展CAN总线硬件接口的方案,并分析了嵌入式Linux下CAN设备驱动程序的开发.     

基于精益生产的制造单元重组设计

针对传统大量生产方式的弊端，将精益生产的哲理应用于减振器焊接生产单元中，紧紧围绕消除生产中的各种“浪费”现象这一主题，通过改进单元布局、生产的组织方式和物流方式，达到减少生产占地面积、降低在制品库存量、提高生产效率，避免非工艺原因导致的产品缺陷。     

黑色组织对直流电弧等离子体喷射金刚石自支撑膜光学、热学性能的影响

利用直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法进行不同质量的金刚石厚膜的制备.金刚石膜用倒置荧光显微镜(OM)、高分辨电镜(HRTEM)、电子能量损失谱(EELS)、拉曼谱(Raman)进行表征,同时测量了不同质量金刚石膜的红外透过率和热导率.研究结果表明,黑色组织主要是金刚石膜中的夹杂物,成分主要是非晶碳和杂质氮.对于光学级透明金刚石膜,具有很高的红外透过率和热导率,黑色组织的存在明显降低了金刚石膜的质量,对金刚石膜的红外透过率和热导率的影响非常显著.     

铁路新线纵断面设计满意优化原则

运用满意优化基本理论,提出铁路新线纵断面设计满意优化准则,通过设计满意度函数,构造出铁路新线纵断面设计满意优化数学模型及求解框架。     

自组装ZnO孪晶纳米结构的透射电镜研究

由于一维纳米材料在发光等领域的巨大的应用潜力，近年来对纳米材料的研究也成为热点。ZnO作为一种宽带隙半导体材料，其纳米结构的研究受到了广泛关注。本文对自组装ZnO孪晶纳米结构进行了系统的透射电镜（TEM）研究。图1a为ZnO纳米结构的低倍TEM像，表明该纳米结构由三个成份A，B，C组成。