高斯激光辐照下膜基系统的温度场和应力场的瞬态分析

本文根据加载激光的工艺参数以及薄膜、基体的材料特性,建立了薄膜与基体的有限元模型,对高斯激光在加载在薄膜表面后的温度场进行有限元模拟,获得膜基系统中温度随时间的变化关系以及薄膜界面结合处的温升规律。并在此基础上根据薄膜和基体的热膨胀性能,进行薄膜和基体的应力场模拟,获得了膜基系统的应力场随时间的变化关系。模拟结果表明：在激光加载过程中,薄膜和基体中的温度场随着时间增加,由于热传导系数的差异在薄膜和基体之间产生温差。在膜基系统中产生的应力场主要集中在薄膜内部,膜基界面结合处产生的应力较大会导致薄膜的脱粘。模拟结果定性地反映了薄膜和基体中温度和热应力的变化规律,为分析激光划痕法的作用过程提供了一定的理论依据,对研究膜基系统失效进程具有重要意义。     

异频在室内覆盖中的应用

介绍了异频方案在室内覆盖中的应用,包括在异频覆盖情况下空闲切换的实现,伪导频的配置方式,并介绍了异频待机、室内异频分层覆盖的方案及相关案例。     

利用红外光纤传像束测量桥丝感应电流

针对传统的桥丝式电点火头中感应电流测量方法在电磁环境测量时会引入电场或者磁场的干扰,本文基于红外光纤传像束耦合CCD红外探测器,提出一种非接触式远程测量的新方法.通过CCD红外探测器得到桥丝式电点火头辐射的热场灰度图像,根据灰度值与温度、温度与电流的关系标定对应的桥丝微弱的感应电流值.实验结果表明,这种方法可以精确测量...     

n型高阻硅单晶电阻率均匀性的控制

通过不同工艺的拉晶实验,发现晶转、拉速、热对流等因素对高阻n〈111〉硅单晶径向电阻率均匀性有所影响.采用水平磁场拉晶工艺,通过提高晶转、增大拉速、减小热对流等,可有效提高硅单晶径向电阻率均匀性.     

带宽延迟约束的层次化网络监测模型

如何既准确获取监测数据,又减少监测过程对实际网络传输数据的影响是网络研究的一个根本问题。该文提出了层次化网络测量模型,强调数据聚集过程的传输延迟和监测数据流量占用链路的带宽都小于预设数值同时,尽量追求聚集节点数目最小化。求解该模型的问题是NP难的,在节点间路由唯一的情况下,该文设计的近似算法的近似程度为lnd+1,其中d是监测节点的数量。     

基于检测的自适应手势分割方法

基于肤色模型的手势分割是目前常用的一类手势分割方法,而此类方法容易受到类手势肤色背景的影响而导致严重的误分割,并且由于模型参数固定而对不同的手势肤色不具有适应性。针对以上问题,提出了一种先检测手势再自适应分割手势的方法。首先设计了一种基于空洞卷积的主干网络和一套Anchor方案将SSD改进为手势检测模型,通过该模型初步分割出手势ROI以避免类手势肤色背景的影响。然后根据手势ROI建立YCrCb高斯肤色模型,以使肤色模型对不同的手势肤色具有很好的适应能力。实验结果表明,在多种复杂场景下,本文的手势分割算法能够避免类肤色背景的影响并且对不同肤色的手势都取得了非常好的分割效果。      

一种改善LED显示屏亮度均匀性的算法

基于显示屏控制技术与校正原理,提出了一种改善LED显示屏亮度均匀性的算法.通过CCD相机采集显示屏RGB图像,用数学形态学和模板匹配法确定灯点的位置并根据发光区域的灰度值计算其相对亮度,生成每个灯点的校正参数,用脉冲宽度调制控制灯点的亮度.实验结果表明提出的算法能有效改善显示屏的亮度均匀性,提高显示屏的显示质量并延长其使用寿命.     

红外激光划痕涂层的应力应变理论分析

为研究涂层的热应力和应变与涂层结合强度之间的关系,对红外激光划痕后的涂层的热应力应变进行了理论分析,建立了涂层的热应力理论模型和应变公式.红外激光划痕涂层的试验结果表明,激光划痕后涂层在沿其厚度方向上的应变量有明显的突变过程,突变点的位置即是涂层从基体脱离下来的临界位置;激光划痕时涂层的剥离应力随涂层的温度增大而增大,并会呈现出两个阶段过程变化,进而说明了两个阶段之间的转折点反映了涂层结合强度的大小.     

移动智能终端拉动3D TSV爆发,IDM垂直整合在即

移动智能终端正在成为3D IC产业最主要的推动力。为了满足越来越高的移动数据流量和传输速度,以TSV技术为基础的各种芯片堆叠封装工艺正应运而生。全球最大的电信设备商思科今年早些时候称,随着智能手机和平板电脑等移动智能终端的快速普及,未来全球移动数据流量预计将从2011年的0.6EB(Exabyte)激增到2016年的10.8EB,数据量规模扩大17倍之多。为了满足越来越高的移动数据流量和传输速度对系统的需求,减少芯片体积的同时进一步提升性能,IC封装的复杂性也在不断升级,以硅通孔(TSV)技术为基础的各种芯片堆叠封装工艺应运而生,包括3D IC、3DWLCSP、2.5D介质层工艺等。     

基于红外照射仿真的快速搜索相关跟踪干扰点研究

通过人工红外照射改变目标与背景的红外辐射特性能够对相关跟踪形成有效干扰,其中,红外照射的位置对干扰效果具有重要影响。为提升红外照射干扰相关跟踪的效率,文中建立了红外照射仿真搜索相关跟踪干扰点模型,对干扰相关跟踪的有效照射位置进行快速搜索。首先,运用TracePro光线追迹软件建立了真实实验条件下的红外照射系统模型,并利用高斯模型对照射光斑的照度分布进行了拟合。然后,在一定空间范围内,采用二维扫描的方式进行真实照射干扰和仿真照射干扰对比实验,结果表明:仿真照射与真实照射的干扰结果一致性达到了98%,且仿真照射找出了真实照射条件下干扰相关跟踪的全部干扰点,从而很好地验证了文中方法的有效性。