流动条件对Pb-Sn合金定向凝固过程雀斑形成的作用

研究了不同流动条件下Pb-Sn合金进行定向凝固时,试样中雀斑的形成特征。结果表明:在温度梯度为57 K/cm,抽拉速率为6μm/s的条件下,石墨套厚度为15 mm时,在直径为7、12和20 mm的3种试样出现了中心雀斑;石墨套厚度为10 mm时,直径7 mm和12 mm的试样出现边缘雀斑,直径20 mm试样仍然是中心雀斑;在石墨套厚度为5 mm时全部试样均未出现雀斑;这说明强自然对流条件下试样中易出现大的中心雀斑;当加入弱强迫对流后,尺寸大的中心雀斑消失,而出现少量的边缘雀斑;在加入较强的强迫对流后,所有雀斑消失。     

NiAl-Mo共晶复合材料定向凝固组织特性研究

采用定向凝固技术制备出两种不同成分的NiAl-Mo共晶复合材料,研究在不同抽拉速率下该合金的凝固组织特性.结果表明:46.59Ni-45.61Al-7.8Mo(at%,下同)合金在不同抽拉速率下都形成了亚共晶组织,初生的NiAl相呈树枝晶状,并且随着抽拉的进行,优先生长方向与热流方向不一致的枝晶被逐渐淘汰;随着抽拉速率的增加,NiAl相的枝晶间距也不断的减小.44.86Ni-46.3Al-9.01Mo合金在不同抽拉速率下皆形成以棒状Mo相镶嵌在NiAl基体中的共晶组织,随着抽拉速率的增加,Mo相的平均直径和平均棒间距有越来越小的趋势,在抽拉速率达到14 mm/h以上时,Mo相由连续的、排列均匀的棒状变为断续的、排列不均匀的棒状.     

折射率可调疏水型SiO2光学薄膜的制备研究

以正硅酸乙酯(TEOS)为有机醇盐前驱体,采用溶胶-凝胶技术,通过控制制备条件,结合三甲基氯硅烷(TMCS)对SiO2胶粒表面的修饰过程,制备出折射率可调的疏水型SiO2薄膜.对薄膜采用了不同的后处理方式,研究了氨和水蒸气混合气体热处理技术对薄膜疏水性能的影响.采用椭偏仪、FTIR和接触角测试仪对薄膜的折射率、红外特性、接触角等的测试研究表明疏水型SiO2薄膜的折射率可在1.35～1.20之间连续可调,与传统热处理相比,混合气氛热处理使薄膜的折射率略有增加,在所研究的范围内折射率平均增加0.02左右;SiO2胶粒表面的亲水性OH基团可基本被非活性CH3基团代替,薄膜的疏水能力得到进一步提高;接触角由未作表面修饰时的40°左右增加到表面修饰并结合混合气氛热处理的137°左右.     

二维正弦调制靶的图形转移研究

根据惯性约束聚变分解实验的要求,通过激光干涉法在光刻胶表面制备正弦起伏图形,结合电镀图形转移工艺,获得了波长20－100μm、振幅0．2－3．5μm的一系列Ni基图形转移模板,并进一步将正弦起伏图形转移到聚苯乙烯薄膜表面,制备出聚苯乙烯二维调制箔靶。研究了图形的精确转移工艺,特别是深振幅样品的脱模工艺,对工艺参数的优化进行了讨论。采用台阶仪和原子力显微镜监控图形转移过程,比较了光刻胶表面图形和一次、二次电镀转移图形以及转移到聚苯乙烯薄膜上图形的形貌,测定了图形转移过程中的深度变化。     

化学法制备光学薄膜及其应用

概要综述了用化学法制备光学薄膜的浸渍镀膜法、旋转镀膜法、喷溅镀膜法、流延法、弯月面镀膜法和涂布镀膜法等方法,及其薄膜特性,诸如折射率、激光损伤阈值、机械强度等的控制技术,并展望了某些新型光学薄膜的应用前景。     

雾化沉积快速凝固过程的计算机模拟：I.理论模型

本文对雾化沉积过程流体流动动力学以及合金凝固过程的热量传输进行了详细的理论分析。着重讨论了气体的出口速度，气体和金属熔体的质量流率、金属微滴尺寸分布运动速度等参量，建立了合金在雾化沉积阶段的热量传输控制方程。     

热壁外延ZnSe/GaAs薄膜生长机理的研究

本文用四极质谱(QMS)、X射线光电子谱(XPS)、俄歇电子能谱(AES)等手段,对单一源热壁外延(HWB)ZnSe/GaAs 薄膜的生长机理作了一些研究.这些研究主要包括 ZnSe源的蒸发情况以及在不同衬底温度条件下,外延薄膜的化学配比状态.