磁流变抛光液的研制

磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术。首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理，然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成，流变性和稳定性进行了研究。在外加磁场强度高于318kA/m时，磁流变抛光液的剪切应力大于20kPa，该应力足以完成磁流变抛光，最后给出一个磁流变抛光的实例，证明了磁流变抛光液的实用性，实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为0.2μm/s.     

基于DSP的捷联惯导系统设计

介绍了一种基于DSP设计的捷联惯性制导系统.应用TI公司的TMS320C6711DSP器件为系统的核心,采用压频转换进行惯性器件信号采集,利用CPLD实现系统所需要的逻辑电路功能,并对系统硬件平台的方案设计和软件设计进行了分析.分析结果表明,系统满足了捷联惯性制导在数据处理能力并且具有结构简单、可靠性高等特点,克服了传统的X86系统可靠性差、复杂、功耗大等缺点.     

大口径碳化硅平面反射镜的数控研磨与在线检测

本文介绍了480mm×280mm的船形碳化硅平面反射镜数控研磨的工艺参数的确定和工艺流程;并介绍了在研磨过程中使用的机床、磨具、磨料及采用的工艺参数和检测方法。给出了研磨前后480mm×280mm的船形碳化硅平面反射镜面形精度和表面粗糙度的检测结果:面形精度峰谷值(PV)由初始的21.7微米收敛到4.62微米,均方根值(RMS)由3.70微米收敛到0.558微米,并把轮廓检测结果与干涉检测结果进行了比较。