基于角域同步平均技术的内燃机失火故障诊断

在利用缸盖振动信号诊断内燃机失火故障时,由于发动机工作背景噪声复杂,必须消除信号中的非周期分量和随机干扰,保留与发动机工作循环有关的周期分量。为了解决时域同步平均方法在转速波动时振动信号存在的不同步问题,提出了以旋转角度信号作为同步触发基准的角域同步平均技术,对内燃机缸盖振动加速度信号进行了处理,有效地削弱了随机噪声的干扰。分析了缸盖振动信号中不同激励源产生的响应分量与发动机失火故障的关系,利用缸盖振动加速度信号中的各个瞬态冲击响应更加易于识别,能有效地对内燃机失火故障进行诊断。     

提高掺Er硅发光效率的途径与前景

阐述了掺Ｅｒ硅发光的研究意义和现状,总结了掺Ｅｒ硅的材料性能、发光机理、提高发光效率的途径、制备方法,以及掺Ｅｒ硅ＬＥＤｓ器件的行为和未来展望。     

用不同方法制备聚天冬氨酸的比较

通过以 L-天冬氨酸为原料的热缩催化聚合、以马来酸酐和碳酸铵为原料的常规合成和微波幅照合成等不同方法制备了聚天冬氨酸.分别通过红外光谱技术和粘度法对产物进行了结构和分子量的表征,并研究了每种制备方法对产物的产率、分子量及其阻垢性能的影响.结果表明所有聚合产物均具有聚天冬氨酸的结构特征.虽然由L-天冬氨酸法制备的产物产率和分子量最高,但是由微波辐照合成所得产物的阻垢性能最佳.     

碳基材料掺杂聚合物导电特性研究进展

导电聚合物可分为结构型导电聚合物和复合型导电聚合物,其中复合型导电聚合物主要是碳基材料或金属掺杂聚合物而得到。文中综述了碳基材料掺杂聚合物的导电机理和碳基材料掺杂聚合物导电特性的研究进展。导电机理主要有渗滤理论、隧道效应和场致发射理论等。目前应用于复合型导电聚合物的碳基材料主要为炭黑、碳纳米管和石墨烯等。文中还简要介绍了碳基材料掺杂聚合物的应用和发展趋势。     

微片激光器谐振腔表面反射膜研究与展望

主要对微片激光器谐振腔的工作介质和腔端面反射膜进行讨论,其中谐振腔的工作介质主要包括晶体、陶瓷和玻璃3种,针对不同的光学器件应选用合适的工作介质。分析研究了谐振腔端面反射膜的膜材料的选择以及反射膜的结构设计,其中膜系结构设计主要包括膜层排列、膜层数和膜厚3个方面,还简要介绍了常用的反射膜制备工艺。最后,展望了微片激光器的技术和应用发展趋势。     

纳米点调控氧化物忆阻器电导特性研究进展

从调控氧化物忆阻器电导特性的主要方法与机理出发,综述了纳米点在氧化物忆阻器电导行为调制及其参数稳定性改善等方面的研究进展。针对纳米点调控氧空位的扩散迁移、电场迁移及其共同作用,分析了纳米点对氧化物忆阻器的电形成过程、开态过程和关态过程的作用机制,并讨论了其对参数均一性、耐久能力、疲劳特性、电阻比率及开关时间等参数的影响。结果表明,纳米点的引入可以显著改善忆阻器性能参数的稳定性和可控性,并进一步指出纳米点在优化其电导特性方面存在的不足和可能的解决措施,预测了性能优化的氧化物忆阻器在非易失存储、人工神经网络等领域的应用前景。     

退火温度对掺铒硅1.54μm光致发光的影响

利用金属蒸气真空弧（MEVVA）离子源交稀土金属Er离子注入单晶硅中，经快速退火制备出掺铒硅发光薄膜。RBS分析表明掺铒硅的浓度接近10at%,即可达10^21cm^-3量级。XRD分析薄膜物相结构发现，退火温度升高将导致Er偏析。通过RHEED和AFM显微分析可得，退火温度影响辐照损伤的恢复程度，Si固相外延再结晶和显微形貌。这些结构变化将影响掺铒硅发光薄膜1.54μm光致发光。     

用不同方法制备聚天冬氨酸的比较

通过以L-天冬氨酸为原料的热缩催化聚合、以马来酸酐和碳酸铵为原料的常规合成和微波幅照合成等不同方法制备了聚天冬氨酸。分别通过红外光谱技术和粘度法对产物进行了结构和分子量的表征,并研究了每种制备方法对产物的产率、分子量及其阻垢性能的影响。结果表明所有聚合产物均具有聚天冬氨酸的结构特征。虽然由L-天冬氨酸法制备的产物产率和分子量最高,但是由微波辐照合成所得产物的阻垢性能最佳。     

低束流钕离子注入外延硅薄层的结构研究

采用金属蒸气真空弧(MEWA)离子源以低束流方式将Nd离子注入到外延硅片中，经高温快速退火处理，制备了结晶良好的钕硅掺杂层。用扫描电子显微镜(SEM)、反射式高能电子衍射(RHEED)和X射线衍射(XRD)分析了在不同退火条件下样品注入层相结构的变化。研究结果表明，经高温热处理，注入层形成结晶良好的钕硅化合物，出现由Nd5Si4相向NdSi相转变的趋势。并对其转变过程进行了初步探讨。