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污泥好氧发酵上堆料含水率过高,会导致堆体孔隙率降低,阻碍堆体通风供氧。腐熟堆肥可配合锯末等调理剂降低上堆料含水率,调节堆体孔隙结构,改善通风供氧效果。研究了通过调节调理剂配比、增加返料用量降低污泥处理成本的可行性。结果表明,当上堆料含水率调为60%左右、污泥返料比为1∶0.32时,堆体脱水效果和有机物降解效率均较高,含水率和挥发性固体分别降低15.4%和10.1%,处理成本为83.2元/t湿污泥。上堆料含水率均约为62%时,堆体的脱水效果相差不大,但提高返料比例并减少锯末用量可有效降低污泥处理成本,由90元/t湿污泥降至62.8元/t湿污泥。上堆料含水率过高(为65%),脱水和VS降解效果均降低,分别为5.1%和5.8%。可知,通过提高返料比例可降低污泥处理成本。 相似文献
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动态随机存储器栅极侧壁硅化钨残留造成的短路成为制约提高产品良率及可靠性的瓶颈.为此,采用X射线荧光光谱(XRF)、扫描电镜(SEM)等检测分析手段优化硅/钨原子组成比为2.45.透射电镜(TEM)及电性参数测试结果表明,经30s、1000℃快速热处理可获得方块阻值为12Ω/cm^2的硅化钨,且可刻蚀性能好.在硅化钨刻蚀前利用电子束扫描发现,15min的氢氟酸和10min浓硫酸与过氧化氢混合溶液(SPM)在300W超声波条件下的新湿法清洗工艺,能去除84.7%的表面微粒及残留聚合物.整合上述优化工艺可以将硅化钨残留造成的65nm动态随机存储器芯片失效率由31.3%降到1.9%,为研究下一代产品提供有效借鉴. 相似文献
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为了研究侧壁隔离层对闪存器件可靠性的影响,分别制备了Si3N4和SiO2-Si3N4-SiO2-Si3N4 (ONON)复合层作为栅侧壁隔离层的45 nm或非闪存(NOR flash)器件,对编程后、循环擦写后的闪存器进行栅极干扰的测试,讨论了不同栅侧壁隔离层对栅极干扰的影响.结果表明,虽然纯氧化硅隔离层可减少NOR自对准接触孔(SAC)刻蚀时对侧壁隔离层的损伤,但其在栅极干扰时在氧化物-氮化物-氧化物(ONO)处有更高的电场,从而在栅干扰后阈值电压变化较大,且由于在擦写操作过程中会陷入电荷,这些电荷在大的栅极电压和长时间的栅干扰作用下均会对闪存器的可靠性产生负面的影响.ONON隔离层的闪存器无可靠性失效.因此以ONON作为侧壁隔离层比以纯氮化硅作为侧壁隔离层的闪存器件具有更好的栅干扰性能. 相似文献
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桂林市环城水系水环境整治和通航工设计 总被引:2,自引:0,他引:2
桂林市抓住了山水名城的特征,从“水”字上做文章,对环城水系进行整治,兴建两江四湖工程,使漓江、桃花江的游船经船闸或升船机驶入中心城市的木龙湖、桂湖、榕湖和杉湖,更添山水城市独特景观。本文据作者1999-2001年在桂林参与该工程规划设计及工程实施,概要地阐述了两江四湖整治和通航设计中的主要问题,以有对环境景观的要求。这是水利工程服务城市环境的一项环境水利工程,也是新世纪水利工程的一项新课题。 相似文献
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郑国用 《上海工程技术大学学报》2007,21(2):170-174
在求出工程项目中各项工作完成时间的累计概率分布数据的基础上,使用蒙特卡罗法对各工作项目的完成时间以及整个工程的完成时间进行模拟,可以在考虑到各工作项目完成时间的变动性和随机性的前提下,较可靠地计算出整个工程的完工工期,为工程管理提供科学的数量依据和信息. 相似文献
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