含氟、磷乳浊玻璃的制备及特性

用高温熔融法制备了含氟、磷Na2O-CaO-SiO2乳浊玻璃,利用紫外-可见光谱、差热分析、X线衍射、扫描电镜等测试技术分析了氟、磷复合乳浊剂对Na2O-CaO-SiO2玻璃透光率、物相组成、特征温度及力学性能的影响规律.结果表明:加入含氟、磷化合物后,Na2O-CaO-SiO2玻璃析出了不规则乳浊晶粒并使玻璃乳化;含氟、磷Na2O-CaO-SiO2乳浊玻璃外观呈磁白乳浊状,具有优越的力学性能、较高的玻璃转变温度及软化温度.     

稀土有机转光剂的合成与表征

用氯化铕与水杨酸(Hsal)、邻菲罗啉(Phen)在乙醇溶液中反应,合成了铕(Ⅲ)的相应三元配合物Eu(Phen)Sal3.分析了该三元配合物的IR,UV,DTA,元素分析和荧光光谱.结果表明,该配合物中的配体吸收激发光的能量后,能有效地传递给中心Eu3+,发出强的Eu3+的特征荧光;该配合物是1种有效的光转换剂.     

钢铁厂含锌铅粉尘中锌铅分离理论及实践

提出钢铁厂含锌铅粉尘中锌铅分离理论 ,并研制出一种新的火法处理工艺———铝浴法熔融还原。通过与其它还原方法的比较 ,并考察了温度、时间等工艺因素的影响 ,得到了铝浴法合理工艺参数 :温度 110 0℃ ,时间45min ,收集所得氧化锌粉含ZnO90 %以上 (最高达 92 5 2 % ) ,PbO小于 5 % ,锌挥发率和铅富集率达 90 %以上 ,初步实现了锌铅分离     

测定陶瓷材料阻力曲线的包络线法的改进

本文通过对压痕弯曲梁的压痕载荷和断裂强度关系的理论分析和推导,介绍了一种确定切点(即K曲线和R曲线的交点)的方法,这些切点的轨迹组成了R曲线,并通过实验对这种方法进行了验证。结果发现这种改进的包络线法与常规的包络线法所测得的阻力曲线相吻合。这种方法完善了常规的K曲线切点包络线法,更为重要的是它揭示了压痕弯曲梁的压痕载荷和断裂强度关系的物理内涵。     

含钛炉渣的脱硫能力与碱度的关系

本文综合论述了当前碱度的各种表示方法；阐明了含钛炉渣的脱硫能力与各种碱度的关系；分析表明：在一定条件下，采用光学碱度来描述含钛炉渣的脱硫能力较为合适。     

亚微米Li2O-Al2O3-SiO2微晶玻璃制备

本文利用DTA、XRD和SEM对Li2O-Al2O3-SiO2(以下简称LAS)微晶玻璃核化晶化热处理制度及氟离子在该玻璃体系中的作用进行研究.通过分析得出:含氟LAS玻璃核化温度和晶化温度分别为620℃和710℃,比相同组份的不含氟Li2O-Al2O3-SiO2玻璃核化、晶化温度分别降低了40℃和160℃左右;引入氟离子明显降低LAS玻璃析晶温度,系统的活化能降低约54kJ/mol,当含氟LAS玻璃的核化时间为1h、晶化时间为4hrs,平均微晶颗粒尺寸在50nm左右.     

刚玉莫来石复相陶瓷力学性能的影响因素分析

本文采用正交设计方法研究了硅微粉、氧化铝微粉及烧结温度对刚玉莫来石复相陶瓷常温强度和高温强度的影响机制.结果表明:氧化铝微粉对高温强度的影响较大,硅微粉次之,烧结温度最小.适当降低氧化铝微粉的含量,并提高硅微粉的含量和烧结温度,可以提高复相陶瓷的高温强度.通过调节硅微粉、氧化铝微粉及烧结温度可控制刚玉莫来石复相陶瓷的显微结构,改善刚玉莫来石复相陶瓷的高温强度.     

高炉喷吹废塑料技术

介绍了废旧塑料综合利用的新方法－高炉喷吹废塑料技术。通过比较,表明高炉喷吹废塑料技术在各方面均优于其他废旧塑料处理方法,并简要论证了我国高炉喷吹废塑料的可行性。     

高炉喷吹物料及其演变趋势

介绍了几种高炉喷吹物料的作用及现状,指出凡是可以块状形式从炉顶加入的物料,均可以粉末形式从风口败炉内,作为高炉冶炼达到优质、高产、低耗、长寿的必要调剂手段;高炉喷吹应向以喷吹煤粉为主的复合喷吹方向发展,并与环境保护及二次资源利用结合起来。建议进一步开展对复合喷吹的研究开发工作,以及开展对高炉喷吹废弃可燃物的有关研究开发工作     

水基银纳米线导电墨水和大尺寸柔性透明导电薄膜的制备

以银纳米线(AgNW)为导电材料,添加羟丙基甲基纤维素(HPMC)和氟碳表面活性剂FSO-100制备了水基导电墨水,使用迈耶棒在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜表面刮涂制备了柔性透明导电薄膜,研究了AgNW、HPMC和FSO-100等组分的添加量对透明导电薄膜光电性能的影响。结果表明,表面活性剂FSO-100可以明显提高导电墨水对PET衬底的润湿性,但过量后会使方块电阻上升;HPMC的加入可以消除AgNW的团聚,但过多的HPMC会提高薄膜的方块电阻;AgNW含量增加后,薄膜的方块电阻和透过率均随之下降,在AgNW浓度2.6 mg/mL时,透明导电薄膜的方块电阻为12Ω/sq和550 nm的透明导电薄膜透过率为94.02%,品质因子可达448.63,薄膜的粗糙度均方根为7.28 nm,并可在1000次弯折后保持光电性能不变,在可穿戴器件、柔性有机发光二极管等领域有很大的应用前景。