异丁烷选择氧化制备甲基丙烯酸复合氧化物催化剂的表征

制备了V2O5-SiO2、MoO3-SiO2和MoO3-V2O5-SiO23种复合氧化物催化剂.用程序升温还原(TPR)研究了各复合氧化物的表面构造及其催化活性,用化学吸附红外光谱(IR)研究了各复合氧化物样品对异丁烷和异丁烯的化学吸附性能.实验结果表明,上述复合氧化物催化剂中,Si和V或Mo通过氧桥键合,使得V-O、Mo-O的氧化能力有所减弱,从而更加适合于选择氧化的要求.异丁烷在Mo的复合氧化物中为桥式吸附,有利于脱氢.但在V-O诸点上,异丁烷为线式吸附,容易发生深度氧化.异丁烯在复合氧化物中的V-O、Mo-O均为线式吸附,V吸附的能力较强.复合氧化物中的V-O、Mo-O是异丁烯脱氢、加氧的优良的活性点.     

嵌人表面分子方法及其在CO加氢催化反应中的应用

嵌入表面分子方法是描述非均相催化反应中定义的活性中心的新方法，该法是将活性中心看作一个“表面分子”，嵌入表面分子方法强调了非均相催化中需要考虑生成键的思想充分利用其它化学领域尤其是均相催化方面的成键理论，利用这一方法较详细地分析了以合成气为原料，以负载型的铑为催化剂进行反应生成Ｃ２以上含氧化合物及烃类等产物机理。     

金属表面上CO2化学吸附研究最新进展

介绍近十年来清洁金属表面和预吸附碱金属的金属表面上CO     

TiO_2—SiO_2表面复合物的制备与表征

用氯化醇钛盐[Ti(i-OC_3H_7)_nCl_(4-n),n=1—2]丙酮溶液负载于SiO_2的表面反应法制备了骨架型、表面键联型和负载型三种类型的TiO_2-SiO_2(TSO)表面复合物,并用红外光谱法研究了它们的表面结构状态及其对CO的化学吸附性能,得出了制备这些表面复合物的适宜方法和条件。     

TiO2—聚乙烯复合膜的制备有红外光谱对其膜层结构的表征

开发了以Ｔｉ＾４＋为桥联剂制备无机－有机复合膜的新方法，以自制的硅薄土多孔陶 为基膜（支撑体），使用浸涂法－热致相转相结合制备了ＴｉＯ２－聚乙烯复合膜，并用红外光谱表征了复合膜层与层之间的结合方式和强度，支撑体中的ＳｉＯ２通过Ｔｉ＾４＋与聚乙烯的分子之间形成了新的化合物型膜层。     

无机膜的气体传递机理和模型

无机膜在高温高压和苛性环境下应用所显示的优越性日益受到人们的重视。在论述无机膜的优缺点及其应用的基础上，着重阐述和分析了致密膜、固体氧化物膜和多孔膜的气体传递机理和理论模型，最后对无机膜发展中存在和尚待解决的问题作一简要述评。     

用二氧化碳和甲醇直接合成碳酸二甲酯的研究

采用表面反应改性法制备了ＭｏＯ３－ＳｉＯ２表面复合物,用等体积浸渍法制备了ＭｏＯ３－ＳｉＯ２担载的Ｃｕ－Ｎｉ双金属催化剂,用ＩＲ、ＴＰＤ、ＴＰＳＲ和微反技术研究了ＣＯ２和ＣＨ３ＯＨ在催化剂表面上的化学吸附与反应性能。结果表明,Ｃｕ－Ｎｉ／ＭｏＯ３－ＳｉＯ２催化剂对ＣＯ２和ＣＨ３ＯＨ反应具有良好的催化反应活性,ＣＯ２和ＣＨ３ＯＨ在催化剂表面上的反应产物主要为碳酸二甲酯（ＤＭＣ）、ＣＨ２Ｏ、ＣＯ和Ｈ２     

介孔复合半导体NiO-TiO2的制备与光响应性能

采用模板剂法制备了系列NiO-TiO₂复合半导体,用N₂吸附-脱附、XRD、TPR、TEM和UV-Vis DRS等方法对半导体材料的孔结构、表面构造、能带结构与其吸光特性进行了分析. 结果表明：所制备的NiO-TiO₂为介孔结构的纳米管或带,其比表面积超过100m²/g;NiO在TiO₂表面分散均匀,并部分形成NiTiO₃固熔体;NiO与TiO₂间存在明显的复合效应,当NiO含量由2%增加至10%时,其Eg值由3.82eV降至3.49eV,有效地拓展了光响应范围.     

NiO-V2O 5/SiO 2光催化材料的结构和光吸收性能

采用表面改性法制备了SiO2负载的复合半导体材料NiO-V2O5．用BET、TPR、XRD、Raman、TEM、IR和UV-Vis DRS技术对固体材料的结构和光吸收性能进行了表征．结果表明V2O5在载体表面以微晶形式存在，粒径约为10nm，NiO和V2O5复合后部分形成了Ni^2＋-O-V^5＋键联，而且NiO和V2O5在固体材料表面有相互修饰作用．NiO的加入有助于提高V2O5在载体SiO2表面的分散程度，抑制V2O5的聚合，减小微晶尺寸，而且可以增强固体材料的光吸收性能，提高复合半导体对光能的利用率．     

负载型中孔SiO2-Fe2O3膜的制备与表征

将模板技术和溶胶凝胶法相结合,制备SiO2/K-M复合陶瓷膜管负载型SiO2-Fe2O3膜.采用XRD、SEMI、R、氮吸附和气体渗透性能测试等手段对该膜材料的表面形貌、结构、孔径分布和气体渗透性能进行表征,并探讨了制膜条件对成膜情况的影响.结果表明:SiO2-Fe2O3膜成膜情况良好,过渡层SiO2与SiO2-Fe2O3膜结合紧密;在SiO2-Fe2O3膜中,Fe2O3和SiO2都是以晶体形式存在,Fe2O3已进入SiO2骨架内部,与SiO2发生键合,形成Si-O-Fe结构;Fe2O3-SiO2膜孔径分布集中于4 nm,气体的渗透属于Knudsen扩散控制区;Fe2O3-SiO2膜对HCl/N2和HCl/C2H4的分离因子分别达到2.55和1.81.