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11.
陈宏伟 《信息安全与通信保密》2008,(10):37-38
1.背景
随着宽带网技术的迅猛发展,互联网应用已经深入到人们的各种日常活动中,然而网络阻塞、IP盗用、非法登录以及访问非法站点等现象时有发生,极大地影响了合法用户的正常使用,也一直困扰着网络管理、维护人员;因此可靠性、安全性已经成为网络接人中的首要问题。捷普认证计费系统具有高效的数据吞吐率、可靠的安全性、强大的访问控制功能; 相似文献
12.
采用射频磁控溅射法在Pt/Ti/LaAlO3(100)衬底上制备了BaO-Nd2O3-Sm2O3-TiO2系(BNST)薄膜.研究了退火温度对BNST薄膜结构、表面形貌和介电性能的影响.X线衍射仪(XRD)分析表明,随着退火温度的升高,晶粒逐渐长大.经850℃退火处理的BNST薄膜具有很好的结晶质量.原子力显微镜(AFM)分析表明,在一定范围内提高退火温度所制备的薄膜晶粒致密、大小均匀.LCR测试分析表明,在测试频率为100 kHz时,随着退火温度的升高,BNST薄膜介电常数有所增加,介电损耗则先降低,后增加.实验表明,经850℃退火处理,所制备的BNST薄膜的介电常数达37,介电损耗小于1.2‰. 相似文献
13.
14.
15.
退火工艺对钛酸锶钡薄膜结构的影响 总被引:4,自引:0,他引:4
采用射频磁控溅射在Pt/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)铁电薄膜,在500~750℃之间对薄膜快速退火。XRD分析表明:500℃时BST薄膜开始晶化为ABO3型钙钛矿结构,温度越高结晶越完整,晶粒越大。理论计算表明,薄膜在低温退火后无择优取向,高温退火后在(111)、(210)晶面有择优取向。退火气氛、保温时间、循环次数等因素对薄膜晶粒大小无明显影响,但对表面粗糙度和结晶程度影响较大。 相似文献
16.
17.
LaAlO3(110)基片上BST薄膜的制备及性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用射频磁控溅射法在LaAlO3(110)单晶基片上制备了钛酸锶钡薄膜材料.薄膜在800℃退火30 min,结晶优良,薄膜与基片匹配良好,同时由于基片的诱导作用,薄膜在(110)方向有一定的择优取向.测得薄膜的剩余极化强度Pr=1.37 μC/cm2,矫顽电场强度Ec=31.7 kV/cm.对比不同频率下的偏压特性,100 kHz时薄膜具有最高的优值因子F,为23.4.对介电损耗在1 MHz时的增大,作出了初步的解释. 相似文献
18.
19.
来华留学教育是一项系统工程。随着“一带一路”倡议和“双一流”高校建设的推进,来华留学教育的规模、结构、质量和效益问题日益突出并渐趋复杂,传统治理方式难以应对和解决相关问题。通过引入协同治理理论作为指导思想,从宏观视角系统探讨来华留学教育体系的治理主体、治理举措和协同机制建构,可以为实现来华留学教育治理的中国式现代化提供思路和具体方案。在治理主体上,推动形成政府主导、高校负责、社会监督、企业参与、国际协同的共建共享格局;在治理举措上,优化教育内容、扩大资金来源、建立评估制度等多措并举;在协同机制上,注重提升领导主体能力建设,加强沟通交流平台建设,并强化利益平衡机制建设。 相似文献
20.